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기재 상에 위치한 포토레지스트 상에 마스크를 일정거리 이격되도록 위치시키는 단계; 상기 마스크 상에 UV를 조사하고, 조사된 UV가 상기 이격된 공간에서 직진 및 확산되면서, 상기 포토레지스트의 하부보다 상기 포토레지스트의 표면이 넓게 노광되도록 포토레지스트를 노광시키는 단계; 및상기 노광된 포토레지스트를 현상하여 못머리 형태의 마이크로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는, 기재의 표면을 초소수성 표면으로 가공하는 방법
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청구항 1에 있어서,상기 기재는 섬유, 자동차의 표면용 기재, 항공기의 표면용 기재 및 선박의 표면용 기재로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법
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청구항 2에 있어서,상기 자동차의 표면용 기재, 항공기의 표면용 기재 및 선박의 표면용 기재는 구리, 알루미늄, 마그네슘, 티타늄 및 이의 합금으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는, 방법
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청구항 1에 있어서,상기 포토레지스트와 마스크 사이의 일정 거리는 100㎛~1㎜인 것을 특징으로 하는, 방법
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삭제
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청구항 1에 있어서,상기 포토레지스트와 상기 마스크 사이에는 공기, 유리, 석영 및 OHP필름(Polyethylene terephthalate) 으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 물질을 위치시키는 것을 특징으로 하는, 방법
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청구항 1의 방법에 의해 표면이 가공된 기재로, 표면에 다수개의 못머리 형태의 마이크로 패턴을 포함하는, 기재
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청구항 7에 있어서,상기 못머리 형태의 마이크로 패턴은 표면의 직경이 10~20㎛이고, 허리부분의 직경이 5~15㎛인 것을 특징으로 하는, 기재
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청구항 7에 있어서,상기 못머리 형태의 마이크로 패턴들의 표면 간격은 5~15㎛이고, 허리부분 간격은 10~20㎛인 것을 특징으로 하는, 기재
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