| 1 |
1
패턴을 구비하는 디스플레이 장치에 있어서,디스플레이 장치의 화소를 이루는 부화소에 해당하는 다수의 컬러 필터들과,상기 다수의 컬러 필터들 사이에 형성된 블랙매트릭스를 포함하고,상기 다수의 컬러 필터들에는 상기 디스플레이 장치의 화소들 각각의 절대위치를 나타내는 패턴이 포함된 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 화소들 각각의 절대 위치를 나타내기 위한 패턴은 상기 화소들 각각을 이루는 부화소들에 해당하는 다수의 컬러 필터들 영역 내에 다수의 홀들이 형성됨에 따라 생성되는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서, 상기 다수의 홀들은 해당 화소의 절대위치를 산출하기 위한 기준을 나타내기 위한 덴트 홀과,해당 화소의 가로축 좌표값과 상기 화소의 세로축 좌표값을 산출하기 위한 포지션 홀들을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 4 |
4
제3항에 있어서, 상기 포지션 홀들은 다수의 컬러 필터들 영역 중 해당 화소의 가로축 좌표값과 상기 화소의 세로축 좌표값을 산출하기 위한 값을 나타내는 지점에 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서, 상기 다수의 홀들은상기 포지션 홀들의 에러를 여부를 체크하기 위한 패리티 홀들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 패리티 홀들은 상기 포지션 홀들의 형성 지점의 에러 체크를 위한 값을 나타내는 지점에 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 7 |
7
제3항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다수의 홀들의 형성 지점에 해당하는 값은 미리 정해진 셔플 테이블에 따라 암호화되고, 상기 암호화된 값을 나타내는 지점에 상기 다수의 홀들이 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 8 |
8
제3항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다수의 홀들은 상기 블랙매트릭스 영역과 동일한 물질이 컬러 필터 영역 내부로 인입되어 형성되는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 9 |
9
제3항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다수의 컬러 필터들은 R 컬러 필터, G컬러 필터, B컬러 필터를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴이 구비된 디스플레이 장치
|
| 10 |
10
디스플레이 장치에서 패턴 생성 방법에 있어서,디스플레이 패널 상의 화소의 절대 위치를 나타내기 위한 기본 패턴 블록 사이즈를 결정하는 과정과,상기 기본 패턴 블록 사이즈에 따른 각 블록 영역에 속하는 부화소들 내에 해당 화소의 절대위치를 산출하기 위한 다수의 홀(hole)들이 형성될 지점들을 결정하는 과정과,상기 다수의 홀들이 형성될 지점들 중 상기 각 블록 영역에 속하는 화소의 절대 위치에 따른 지점에 각각 해당 홀을 형성하여 패턴을 생성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치에서 패턴 생성 방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서, 상기 다수의 홀들은 해당 화소의 절대위치를 산출하기 위한 기준을 나타내기 위한 덴트 홀(dent hole)과,해당 화소의 가로축 좌표값과 상기 화소의 세로축 좌표값을 산출하기 위한 포지션 홀(position hole)들을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치에서 패턴 생성 방법
|
| 12 |
12
제11항에 있어서, 상기 다수의 홀들은 상기 포지션 홀들의 에러를 여부를 체크하기 위한 패리티 홀(parity hole)들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치에서 패턴 생성 방법
|
| 13 |
13
제12항에 있어서, 상기 다수의 홀들이 형성될 지점들을 결정하는 과정은,상기 디스플레이 패널 상의 화소의 절대위치 기준이 되는 덴트 홀이 형성될 지점을 결정하는 과정과,상기 디스플레이 패널 상의 화소의 가로축 좌표값과 상기 화소의 세로축 좌표값을 산출하기 위한 값을 나타내는 포지션 홀이 형성될 지점을 결정하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치에서 패턴 생성 방법
|
| 14 |
14
제13항에 있어서, 상기 다수의 홀들이 형성될 지점들을 결정하는 과정은,상기 포지션 홀들의 형성 지점이 맞는지 판단하기 위한 값을 나타내는 패리티 홀이 형성될 지점을 결정하는 과정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치에서 패턴 생성 방법
|
| 15 |
15
제13항 및 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 다수의 홀들이 형성될 지점들을 결정하는 과정은, 상기 결정된 각각의 지점에 대해 미리 정해진 셔플 테이블에 따라 암호화되고, 상기 암호화된 값을 나타내는 지점에 상기 다수의 홀들이 형성되는 것을 특징으로 하는 디스플레이 장치에서 패턴 생성 방법
|
