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기판 상에 교대로 적층된 코발트 박막층 및 플래티늄 박막층을 포함하는 수직자기이방성 다층박막에 있어서, 상기 코발트 박막층의 두께가 플래티늄 박막층의 두께보다 더 두꺼운 반전구조를 갖는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막
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제1항에 있어서, 상기 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막은 플래티늄 박막층 대 코발트 박막층의 두께 비율이 플래티늄 박막층의 두께가 1 일 때 코발트 박막층의 두께는 1 보다 크고 3 보다 작은 범위에 있는 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막
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제1항에 있어서, 상기 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막은 단일 플래티늄 박막층의 두께가 0
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제1항에 있어서, 상기 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막은 코발트 박막층과 플래티늄 박막층이 서로 번갈아가며 적층되는 것으로 각각 1 내지 10회 증착되는 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막
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제1항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 기판, 유리 기판, 사파이어 기판 및 산화마그네슘 기판으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막
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제1항에 있어서, 상기 기판과 상기 교대로 적층된 코발트 박막층 및 플래티늄 박막층과의 사이에는 버퍼층 및 시드층이 적층되고, 상기 교대로 적층된 코발트 박막층 및 플래티늄 박막층 상부에는 보호층이 적층되는 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막
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제6항에 있어서, 상기 버퍼층, 시드층 또는 보호층은 Au, Cu, Pd, Pt, Ta, Ru 또는 그 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막
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(a) 기판 상에 코발트 박막층의 두께가 플래티늄 박막층의 두께보다 더 두꺼운 반전구조를 갖는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막을 적층하는 단계; 및(b) 상기 다층박막을 열처리하는 단계를 포함하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 열처리 온도는 150 ℃ 내지 500 ℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막의 제조방법
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제8항에 있어서, 상기 (a) 단계를 수행하기 이전에, 상기 기판 상에 버퍼층 및 시드층을 순차적으로 적층하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막의 제조방법
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11
제8항에 있어서, 상기 (a) 단계 이후, 상기 (b) 단계 이전에 보호층을 적층하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 코발트 및 플래티늄 기반의 다층박막의 제조방법
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