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표면에 음전하가 도입된 티타니아 분말을 포함하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리용 조성물로서,상기 음전하의 도입은 전해질 용액을 사용하여 이루어지며, 상기 전해질 용액의 수소이온농도 지수는 상기 티타니아의 등전점을 초과하는 것을 특징으로 하며, 상기 알루미늄 또는 알루미늄 합금의 표면 처리는 상기 조성물을 이용하여 플라즈마 전해 산화에 의해 처리하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 티타니아 분말의 수소이온농도 지수는 25 ℃에서 10~14인 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 음전하 도입은 상기 전해질 용액 1 리터당 상기 티타니아 분말 10~30g을 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리용 조성물
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제 1항에 따른 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리용 조성물을 이용하여 플라즈마 전해 산화에 의해 표면 처리된 것으로서, 표면에 음전하가 도입된 티타니아 분말로 표면 처리된 알루미늄 또는 알루미늄 합금
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제 7항에 있어서,상기 플라즈마 전해 산화는 양극의 전압은 350~450 V 및 음극의 전압은 40~60 V 로 전압을 인가하고, 이를 5~20분간 유지함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 전해 산화법에 의해 표면 처리된 알루미늄 또는 알루미늄 합금
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제 8항에 있어서,에너지 분산형 X-선(EDX)법으로 측정하였을 때 상기 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면에 존재하는 상기 티타니아의 원자 함량비가 20~25 원자%인 것을 특징으로 하는 플라즈마 전해 산화법에 의해 표면 처리된 알루미늄 또는 알루미늄 합금
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1) 티타니아 분말 및 전해질 용액을 포함하는 분산 용액을 수득하는 단계;2) 상기 분산 용액 및 플라즈마 전해 산화법을 이용하여 상기 티타니아 분말을 알루미늄 또는 알루미늄 합금에 코팅하는 단계; 및3) 상기 코팅된 알루미늄 또는 알루미늄 합금의 표면을 세척하는 단계; 를 포함하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리방법
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제 10항에 있어서,상기 전해질 용액은 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 수산화스트론튬으로 이루어지는 군으로부터 선택된 어느 하나 이상의 용액인 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리방법
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제 10항에 있어서,상기 1)단계에서 전해질 용액의 수소이온농도 지수는 상기 티타니아의 등전점을 초과하는 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리방법
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제 14항에 있어서,상기 수소이온농도 지수는 25℃에서 10~14인 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리방법
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제 10항에 있어서,상기 2)단계에서의 플라즈마 전해 산화는 양극의 전압은 350~450 V 및 음극의 전압은 40~60 V 로 전압을 인가하고, 이를 5~20분간 유지함으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리방법
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제 10항에 있어서,상기 전해질 용액의 농도는 0
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제 10항에 있어서,상기 티타니아 분말은 상기 전해질 용액에서 리터당 10~30g을 사용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 알루미늄 또는 알루미늄 합금 표면 처리방법
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