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원자층 증착 장치에 있어서,외부와 차단되어 박막 증착을 위한 반응 공간을 제공하는 챔버;상기 챔버의 내부에 배치되며 상면에 박막 증착을 위한 복수의 기공이 형성되는 기판 홀더;빛(light)이 상기 기판 홀더의 상면에 형성된 기공에 조사되도록 상기 기판 홀더를 마주보고 상기 기판 홀더로부터 일정 간격 이격된 위치에 평행하게 배치되는 히팅 수단;상기 히팅 수단과 챔버 사이에 배치되어 상기 히팅 수단을 지지하고 상기 히팅 수단과 챔버의 직접적인 결합을 방지하며, 원자층 증착 공정의 사이클 도중 또는 각 사이클 종료 시마다 개방되어 상기 히팅 수단에 의해 방출되는 펄스 광이 상기 기판 홀더로 조사되도록 하는 게이트 밸브; 및상기 기판 홀더와 평행하게 상기 챔버의 일면으로부터 신장되어 상기 게이트 밸브와 연결되며, 상기 히팅 수단으로부터 조사된 펄스 광이 상기 기판 홀더로 유입되도록 하는 복사열 제공부를 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 기판 홀더는상기 박막 증착을 위한 다공성 물질과 상기 다공성 물질이 수용되는 내부 밀폐 공간을 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 2 항에 있어서,상기 기판 홀더의 상면에 형성되는 복수의 기공은상기 박막 형성을 위한 소스 가스는 통과시키고 상기 다공성 물질은 통과시키지 않는 크기를 가지는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 기판 홀더의 일 면에 결합되며 상기 기판 홀더를 상기 챔버의 내부에서 이동시키는 이송 수단을 더 포함하되,상기 이송 수단은레일 및 컨베이너 벨트 중 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 4 항에 있어서,상기 이송 수단과 연결되며, 파우더 분말 이송 시 연쇄적으로 개방 및 폐쇄되는 펌핑 수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 히팅 수단은제논 플래시 램프를 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 3 항에 있어서,상기 챔버의 일 측면에 배치되어 상기 소스 가스를 유입시키는 실린더;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 히팅 수단에서 상기 기판 홀더를 대향하는 면의 배면에 배치되는 반사체를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 복사열 제공부는실린더 형태로 구현되어 길이 조절이 가능한 것을 특징으로 하는 원자층 증착 장치
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챔버, 상기 챔버의 내부에 배치되는 기판 홀더, 펄스 광을 상기 기판 홀더로 조사하는 히팅 수단, 상기 히팅 수단과 챔버 사이에 배치되어 상기 히팅 수단을 지지하고 상기 히팅 수단과 챔버의 직접적인 결합을 방지하는 게이트 밸브 및 상기 게이트 밸브와 챔버 사이에 배치되어 상기 히팅 수단으로부터 조사된 빛이 상기 기판 홀더로 유입되도록 하는 복사열 제공부를 포함하는 원자층 증착 장치가 원자층을 증착하는 방법에 있어서,(a) 소스 가스를 상기 챔버의 내부로 공급 단계;(b) 상기 히팅 수단에서 펄스 광을 발생시켜 상기 기판 홀더로 조사하는 단계;(c) 상기 (b) 단계에서 흡착되지 않은 가스를 퍼지(purge)하는 단계;(d) 반응 가스를 상기 챔버의 내부로 공급하는 단계;(e) 상기 히팅 수단에서 펄스 광을 발생시켜 상기 기판 홀더로 조사하는 단계; 및(f) 상기 (e) 단계에서 반응하지 않은 가스를 퍼지하는 단계를 포함하되,상기 (b) 또는 (e) 단계는상기 게이트 밸브를 개방하는 단계;상기 개방된 게이트 밸브를 통해 상기 히팅 수단에서 방출되는 펄스 광이 상기 기판 홀더로 조사되는 단계; 및상기 조사되는 펄스 광이 상기 복사열 제공부를 통해 상기 기판 홀더로 유입되는 단계를 포함하고,상기 기판 홀더로 조사되는 펄스 광은상기 기판 홀더가 위치한 방향으로 방출되는 제 1 펄스 광과 상기 기판 홀더가 위치한 방향 이외의 방향으로 방출되는 제 2 펄스 광을 포함하되,상기 제 2 펄스 광은 상기 히팅 수단에 포함된 반사체에 의해 반사되어 상기 기판 홀더 방향으로 입사되는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 방법
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제 10 항에 있어서,상기 히팅 수단은 제논 플래시 램프를 포함하는 것을 특징으로 하는 원자층 증착 방법
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