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잉여 오존을 이용한 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템

  • 기술번호 : KST2015133528
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 잉여 오존을 이용한 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템에 관한 것으로서, 처리수에 오존을 투입하여 처리수를 오존 처리하는 오존 처리부와; 상기 오존 처리부의 전단 및 후단 중 적어도 어느 한 곳에 연결되어 응집제를 통해 처리수를 응집시키는 응집부와; 분리막을 통해 상기 오존 처리부 및 상기 응집부를 통과한 처리수를 여과하는 막 여과부와; 상기 오존 처리부에서 발생하는 잉여 오존을 전달받아 용해수에 용해시켜 오존 세척수를 생성하고, 상기 오전 세척수로 상기 막 여과부의 상기 분리막을 역세척하는 오존 역세척부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 분리막이 사용되는 고도 정수 처리 시스템에서 오존 처리를 위해 생성된 오존 중 잉여 오존을 이용하여 분리막의 오염을 제거함으로써, 잉여 오존의 재활용 및 배출되는 잉여 오존을 저감시킬 수 있게 된다.
Int. CL B01D 65/02 (2006.01) C02F 1/78 (2006.01) C02F 9/04 (2006.01) C02F 1/52 (2006.01) B01D 65/06 (2006.01) C02F 1/44 (2006.01)
CPC C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01) C02F 9/00(2013.01)
출원번호/일자 1020130155226 (2013.12.13)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0069151 (2015.06.23) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.12.13)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍승관 대한민국 경기 용인시 기흥구
2 이성복 대한민국 서울 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인남촌 대한민국 서울특별시 종로구 새문안로*길 **, 도렴빌딩 ***호 (도렴동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-1141962-80
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.12.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.01.09 수리 (Accepted) 9-1-2015-0002540-54
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0378175-47
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0741531-78
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.09.04 수리 (Accepted) 1-1-2015-0861410-33
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.10.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0742671-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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잉여 오존을 이용한 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템에 있어서,처리수에 오존을 투입하여 처리수를 오존 처리하는 오존 처리부와;상기 오존 처리부의 전단 및 후단 중 적어도 어느 한 곳에 연결되어 응집제를 통해 처리수를 응집시키는 응집부와;분리막을 통해 상기 오존 처리부 및 상기 응집부를 통과한 처리수를 여과하는 막 여과부와;상기 오존 처리부에서 발생하는 잉여 오존을 전달받아 용해수에 용해시켜 오존 세척수를 생성하고, 상기 오전 세척수로 상기 막 여과부의 상기 분리막을 역세척하는 오존 역세척부를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제1항에 있어서,상기 분리막은 오존 저항성을 갖는 재질로 마련되는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제2항에 있어서,상기 분리막은 세라믹 막, 모노리스(Monolith) 타입의 무기막, 튜블러(Tublar) 타입의 무기막, 및 허니컴(Honeycomb) 타입의 무기막 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제1항에 있어서,상기 오존 역세척부는상기 오존 처리부로부터 공급되는 상기 잉여 오존을 상기 용해수에 용해시켜 상기 오존 세척수를 생성하고, 생성된 상기 오존 세척수를 상기 막 여과부에 공급하는 오존 용해조와;상기 오존 용해조에 상기 용해수를 공급하는 용해수 공급부를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제4항에 있어서,상기 용해수 공급부는 상기 막 여과부를 투과하여 생성된 재생수를 공급받아 상기 용해수로 공급하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제4항에 있어서,상기 용해수 공급부는상기 잉여 오존의 용해도가 증가하도록 상기 오존 용해조로 공급되는 상기 용해수의 온도를 조절하는 온도 조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제4항에 있어서,상기 오존 역세척부는상기 잉여 오존의 용해도가 증가하도록 상기 오존 용해조에 수용된 상기 용해수의 pH 농도를 조절하기 위한 pH 조절제를 상기 오존 용해조에 공급하는 pH 조절부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제4항에 있어서,상기 오존 역세척부는상기 오존 세척수의 OH 라디컬의 생성이 촉진되도록 상기 오존 세척수에 초음파를 인가하는 초음파 발생부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
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제4항에 있어서,상기 오존 역세척부는 상기 분리막의 막간 차압이 기 설정된 기준 압력 이상으로 증가하는 경우, 상기 분리막의 역세척을 수행하는 것을 특징으로 하는 분리막 오염 제어가 가능한 고도 정수 처리 시스템
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.