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패턴 구조물의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015133550
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 패턴 구조물의 제조 방법에 있어서, 도전성 기판 상에, 고분자 몰드를 이용하는 임프린트 리소그래피 공정으로 격벽 패턴들을 형성한 후, 상기 도전성 기판 상에 상기 격벽 패턴들 사이로 도금 공정을 통하여 금속 패턴을 형성한다. 이로써 간단한 공정으로 금속 패턴을 구비한 패턴 구조물이 형성될 수 있다.
Int. CL B29C 59/02 (2006.01) G02B 5/18 (2006.01)
CPC B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01) B29C 59/022(2013.01)
출원번호/일자 1020140006660 (2014.01.20)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1544305-0000 (2015.08.06)
공개번호/일자 10-2015-0086686 (2015.07.29) 문서열기
공고번호/일자 (20150812) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.01.20)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이헌 대한민국 서울 서초구
2 유상우 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이동건 대한민국 서울특별시 강남구 논현로***길 *, *층 ***호 (논현동)(차암특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-0056180-21
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018243-16
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.04.22 수리 (Accepted) 4-1-2014-5049934-62
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.10.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.11.12 수리 (Accepted) 9-1-2014-0087221-85
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.03.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0191815-85
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.05.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-0501664-79
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0606203-29
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.06.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0606177-29
10 등록결정서
Decision to grant
2015.07.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0511164-88
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
도전성 기판 상에, 고분자 몰드를 이용하는 임프린트 리소그래피 공정으로 격벽 패턴들을 형성하는 단계; 도금 공정을 통하여 상기 도전성 기판 상 및 상기 격벽 패턴들 사이로 선택적으로 금속 패턴들을 형성하는 단계; 및상기 격벽 패턴들을 상기 도전성 기판으로부터 제거하는 단계를 포함하고,상기 도전성 기판 상에 격벽 패턴들을 형성하는 단계는,상기 격벽 패턴에 대응되는 오목 패턴들이 그 표면에 형성된 고분자 몰드를 준비하는 단계;상기 오목 패턴들을 매립하도록 코팅층을 형성하는 단계;상기 코팅층을 향하여 상기 도전성 기판으로 가압하여 상기 도전성 기판 하부에 격벽 패턴들을 형성하는 단계; 및상기 격벽 패턴들을 상기 고분자 몰드로부터 이형시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 구조물의 제조 방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 오목 패턴들 각각은 순방향으로 기울어진 측벽을 각각 갖는 것을 특징으로 하는 패턴 구조물의 제조 방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 도전성 기판 상에 격벽 패턴들을 형성한 후, 상기 도전성 기판 상에 상기 격벽 패턴들 사이들에 잔류하는 잔류물을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 구조물의 제조 방법
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서, 상기 금속 패턴들을 포함하는 상기 도전성 기판의 표면 전체에 자기 조립 단분자막을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 구조물의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 자기 조립 단분자막을 형성하는 단계는 실란기 또는 티올(thiol)기를 반응기로서 갖는 탄화수소 물질 및 용매를 포함하는 코팅액을 이용하는 것을 특징으로 하는 패턴 구조물의 제조 방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 용매는 헥산 또는 톨루엔을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 구조물의 제조 방법
10 10
제7항에 있어서, 상기 자기 조립 단분자막을 형성하는 단계는 기상 증착 공정(vapor deposition process)을 통하여 수행되는 것을 특징으로 하는 패턴 구조물의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.