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무절연 고온초전도 코일의 에폭시 함침 장치 및 그 방법

  • 기술번호 : KST2015133655
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 에폭시 함침 장치에 관한 것으로서 코일이 위치하고, 코일과 함께 이동하여 에폭시에 맞닿아 코일을 함침시킬 수 있는 몰드; 몰드와 연결되어 몰드를 상하로 이동시키거나 좌우로 회전시킬 수 있는 몰드이동부; 가이드 내부의 소정 높이까지 에폭시를 채울 수 있도록 캐비티를 형성하면서 몰드이동부의 이동 반경을 둘러싼 기둥 형태의 가이드; 및 몰드, 몰드이동부 및 가이드가 위치하고 내부에 진공상태의 캐비티를 형성하는 챔버를 포함하며, 함침 전 에폭시 내 잔류기포를 제거하고 함침 후 몰드의 회전하여 코일에 도포되는 에폭시의 양을 조절한다.
Int. CL H01F 41/12 (2006.01) H01F 6/06 (2006.01)
CPC H01B 13/06(2013.01) H01B 13/06(2013.01)
출원번호/일자 1020140141777 (2014.10.20)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1547204-0000 (2015.08.19)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20150825) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.10.20)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이해근 대한민국 서울특별시 동대문구
2 신현진 대한민국 부산광역시 금정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-0998200-96
2 등록결정서
Decision to grant
2015.08.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0543825-43
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
코일이 위치하고, 코일과 함께 이동하여 에폭시에 맞닿아 코일을 함침시킬 수 있는 몰드;상기 몰드와 연결되어 몰드를 상하로 이동시키거나 좌우로 회전시킬 수 있는 몰드이동부; 가이드 내부의 소정 높이까지 에폭시를 채울 수 있도록 캐비티를 형성하면서 상기 몰드이동부의 이동 반경을 둘러싼 기둥 형태의 가이드; 및 상기 몰드, 상기 몰드이동부, 상기 에폭시 및 상기 가이드가 위치하고, 내부에 진공상태의 캐비티를 형성하는 챔버;를 포함하는 에폭시 함침 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 코일은 무절연 고온초전도 코일인 것을 특징으로 하는 에폭시 함침 장치
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 몰드에 고정된 코일이 상하로 이동하였을 때 상기 에폭시와 맞닿을 수 있기 위한 몰드의 일면에 상기 코일이 위치하는 것을 특징으로 하는 에폭시 함침 장치
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 몰드는 상기 몰드로부터 상기 코일이 분리되지 않도록 고정시키기 위한 코일고정부 및 코일의 중심 위치를 유지하기 위한 코일지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 에폭시 함침 장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 챔버와 연결되어 챔버 내부를 진공 상태로 만들거나 진공 상태를 유지하기 위한 진공펌프를 더 포함하는 에폭시 함침 장치
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 몰드이동부를 통해 몰드 및 코일을 회전시켜 도포되는 에폭시의 양을 조절하는 것을 특징으로 하는 에폭시 함침 장치
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 에폭시를 상기 코일에 함침하기 전에, 진공 상태를 형성하여 에폭시 내에 존재하는 잔류 기포를 제거하는 것을 특징으로 하는 에폭시 함침 장치
8 8
코일을 몰드의 일면에 위치시키는 단계; 에폭시 함침 전, 진공상태를 형성하여 에폭시 내에 존재하는 잔류 기포를 제거하는 단계; 몰드와 연결된 몰드이동부를 에폭시가 위치한 방향으로 움직여 코일의 외부에만 에폭시가 도포될 만큼 에폭시와 코일이 맞닿게 이동시켜 에폭시를 함침시키는 단계; 에폭시 함침 후, 상기 몰드 이동부를 통해 몰드 및 코일을 에폭시가 위치한 반대방향으로 움직여 에폭시로부터 분리시키는 단계; 상기 몰드이동부를 회전하여 상기 코일에 잔류된 에폭시를 제거하여 코일에 도포되는 에폭시의 양을 조절하는 단계; 및 상기 코일을 경화시키는 단계;를 포함하는 에폭시 함침 방법
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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.