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기판;상기 기판 상에 배치되며, 그 상부에 리세스들이 형성된 나노 리세스 패턴; 및상기 나노 리세스 패턴의 측벽에 선택적으로 형성되며, 광을 편광시키는 금속 나노 패턴을 포함하는 와이어 그리드 편광자
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제1항에 있어서, 상기 리세스들을 매립하도록 배치되며, 그 상부 표면에 돌기부가 형성된 기능성 패턴을 더 포함하는 와이어 그리드 편광자
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제2항에 있어서, 상기 기능성 패턴은 나노 사이즈를 갖는 모스아이 패턴 또는 마이크로 사이즈를 갖는 방오 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자
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나노 임프린트 리소그래피 공정을 통하여 기판 상에 그 상부에 리세스들이 형성된 나노 리세스 패턴을 형성하는 단계; 상기 나노 리세스 패턴의 표면을 따라 컨포멀하게 금속 박막을 형성하는 단계; 및 상기 금속 박막에 대하여 이방성 식각 공정을 수행하여, 상기 나노 리세스 패턴의 측벽에 선택적으로 금속 나노 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 이방성 식각 공정은 건식 식각 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 건식 식각 공은 방향성 반응 이온 식각(reactive ion etch; RIE) 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 리세스를 고분자 물질로 매립하여 그 상부 표면에 돌기부가 형성된 기능성 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
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제7항에 있어서, 상기 기능성 패턴은 나노 사이즈를 갖는 모스아이 패턴 또는 마이크로 사이즈를 갖는 방오 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 돌기부가 형성된 기능성 패턴을 형성하는 단계는 몰드를 이용하는 나노 임프린팅 리소그래피 공정을 통하여 수행되는 것을 특징으로 하는 와이어 그리드 편광자의 제조 방법
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