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기판이 배치되는 베이스; 상기 베이스에 안착되는 기판을 향해 작동 가스를 초음속 상태로 분사하는 초음속 분사 노즐; 및 은-나노와이어 입자와 휘발성 액체가 혼합된 상태의 혼합 용액이 저장되고, 상기 혼합 용액이 상기 초음속 분사 노즐을 통해 상기 작동 가스와 함께 분사되도록 상기 초음속 분사 노즐에 연결되는 용액 공급부를 포함하고, 상기 혼합 용액은 상기 은-나노와이어 입자가 함유된 미립자 액적 상태로 상기 초음속 분사 노즐을 통해 분사되고, 분사되는 과정에서 상기 휘발성 액체가 증발되어 상기 은-나노와이어 입자가 상기 기판에 증착 코팅되고,상기 초음속 분사 노즐은: 상기 작동 가스가 유동하도록 내부 공간에 가스 유로가 형성되는 노즐 하우징; 및 상기 노즐 하우징에 형성된 가스 유로의 중단부에 연통되도록 상기 노즐 하우징에 형성되는 용액 주입구를 포함하고, 상기 용액 공급부는 상기 가스 유로 내부로 상기 혼합 용액이 공급되도록 상기 용액 주입구에 연통되게 결합되고,상기 가스 유로에 연통되는 상기 용액 주입구는 복수 개가 구비되고, 상기 용액 공급부는 복수 개가 구비되고, 상기 초음속 분사 노즐의 단면은 링 타입의 원형 단면을 구비하고, 상기 복수 개의 용액 주입구는 상기 초음속 분사 노즐의 원주 상에서 이격 배치되고, 상기 용액 공급부는 상기 혼합 용액을 상기 초음속 분사 노즐로 분사하도록 상기 용액 주입구에 배치되는 용액 인젝터를 구비하고, 상기 용액 인젝터는 상기 용액 주입구와 상기 초음속 분사 노즐의 중심을 잇는 주입구 중심선과 사전 설정 사이각을 구비하도록 상기 초음속 분사 노즐에 배치되고,상기 용액 인젝터(330e)가 연결되는 용액 주입구(130e)의 외주에 주입구 스월(131e)이 더 형성되는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 1 항에 있어서,상기 가스 유로는 양단에 유입구 및 배출구가 형성되고, 중단부에는 유동 단면적이 감소하는 교축부가 형성되며,상기 교축부로부터 상기 배출구로 향하는 구간에는 상기 배출구로 갈수록 유동 단면적이 증가하는 방향으로 경사지도록 경사면이 형성되는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 10 항에 있어서, 상기 용액 주입구는 상기 경사면에 형성되는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 11 항에 있어서,상기 용액 주입구는 상기 경사면에 상기 작동 가스의 유동 방향에 대한 직각 방향으로 길게 형성되는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 1 항, 제 10항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 초음속 분사 노즐은 스틸, 스테인리스 스틸 및 텅스텐 카바이드 중 어느 하나의 재질로 형성되는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 1 항, 제 10항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 베이스는, 상기 은-나노와이어 입자가 상기 기판에 증착 형성되는 과정에서 상기 기판을 가열할 수 있도록 별도의 가열판을 구비하는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 1 항, 제 10항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 베이스는:상기 기판과 접하는 베이스 바디와,상기 베이스 바디와 연결되어 상기 베이스 바디를 회동시키는 베이스 구동부를 포함하는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 1 항, 제 10항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 용액 공급부는:일단이 상기 초음속 유동 노즐에 연결되는 용액 라인과,상기 용액 라인의 타단에 연결 배치되는 용액 수집부와,상기 혼합 용액이 수용 배치되는 용액 저장부와, 상기 용액 저장부와 연결되어 상기 용액 저장부에 소정의 진동을 제공하여 상기 혼합 용액을 액적화시키는 용액 베포라이저를 구비하는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 1 항, 제 10항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 초음속 분사 노즐에 공급되는 작동 가스를 가열시키는 히팅부가 더 구비되는 것을 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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제 1항에 있어서, 상기 초음속 분사 노즐의 전단 측에 배치되어 상기 초음속 분사 노즐로 유입되는 작동 가스의 압력을 조정하는 작동 가스 컴프레서와, 상기 베이스와 상기 초음속 분사 노즐 사이에 배치되어 상기 초음속 분사 노즐에서 토출되는 은-나노와이어 입자의 속도를 감지하는 감지부와,상기 은-나노와이어 입자의 속도와 상기 초음속 분사 노즐의 유입 압력 상관관계를 포함하는 사전 설정 데이터가 저장되는 저장부와, 상기 사전 설정 데이터 및 상기 감지부에서 감지한 입자 속도를 이용하여 상기 입자 속도에 대응하는 작동 가스의 속도인 대응 가스 속도를 산출하는 연산부와, 상기 대응 가스 속도와 상기 사전 설정 데이터를 이용하여 상기 초음속 분사 노즐에서 토출되어 상기 기판에 도달하는 입자의 속도가 사전 설정 속도 범위에 도달하도록 상기 작동 가스 컴프레서로 상기 작동 가스의 압력을 제어하는 압력 제어 신호를 인가하는 것을 제어부를 구비하는 특징으로 하는 은-나노와이어 증착 장치
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기판이 배치되는 베이스; 상기 베이스에 안착되는 기판을 향해 작동 가스를 초음속 상태로 분사하는 초음속 분사 노즐; 및 은-나노와이어 입자와 휘발성 액체가 혼합된 상태의 혼합 용액이 저장되고, 상기 혼합 용액이 상기 초음속 분사 노즐을 통해 상기 작동 가스와 함께 분사되도록 상기 초음속 분사 노즐에 연결되는 용액 공급부를 포함하고, 상기 초음속 분사 노즐은: 상기 작동 가스가 유동하도록 내부 공간에 가스 유로가 형성되는 노즐 하우징; 및 상기 노즐 하우징에 형성된 가스 유로의 중단부에 연통되도록 상기 노즐 하우징에 형성되는 용액 주입구를 포함하고, 상기 용액 공급부는 상기 가스 유로 내부로 상기 혼합 용액이 공급되도록 상기 용액 주입구에 연통되게 결합되고, 상기 가스 유로에 연통되는 상기 용액 주입구는 복수 개가 구비되고, 상기 용액 공급부는 복수 개가 구비되고, 상기 초음속 분사 노즐의 단면은 링 타입의 원형 단면을 구비하고, 상기 복수 개의 용액 주입구는 상기 초음속 분사 노즐의 원주 상에서 이격 배치되고, 상기 용액 공급부는 상기 혼합 용액을 상기 초음속 분사 노즐로 분사하도록 상기 용액 주입구에 배치되는 용액 인젝터를 구비하고, 상기 용액 인젝터는 상기 용액 주입구와 상기 초음속 분사 노즐의 중심을 잇는 주입구 중심선과 사전 설정 사이각을 구비하도록 상기 초음속 분사 노즐에 배치되고, 상기 용액 인젝터(330e)가 연결되는 용액 주입구(130e)의 외주에 주입구 스월(131e)이 더 형성되고, 상기 초음속 분사 노즐의 전단 측에 배치되어 상기 초음속 분사 노즐로 유입되는 작동 가스의 압력을 조정하는 작동 가스 컴프레서와, 상기 베이스와 상기 초음속 분사 노즐 사이에 배치되어 상기 초음속 분사 노즐에서 토출되는 은-나노와이어 입자의 속도를 감지하는 감지부와, 상기 은-나노와이어 입자의 속도와 상기 초음속 분사 노즐의 유입 압력 상관관계를 포함하는 사전 설정 데이터가 저장되는 저장부와, 상기 사전 설정 데이터 및 상기 감지부에서 감지한 입자 속도를 이용하여 상기 입자 속도에 대응하는 작동 가스의 속도인 대응 가스 속도를 산출하는 연산부와, 상기 대응 가스 속도와 상기 사전 설정 데이터를 이용하여 상기 초음속 분사 노즐에서 토출되어 상기 기판에 도달하는 입자의 속도가 사전 설정 속도 범위에 도달하도록 상기 작동 가스 컴프레서로 상기 작동 가스의 압력을 제어하는 압력 제어 신호를 인가하는 제어부를 구비하는 은-나노와이어 증착 장치를 제공하는 제공 단계와, 상기 제어부의 감지 제어 신호에 따라 상기 감지부가 상기 초음속 분사 노즐로부터 토출되어 상기 기판에 융착되기 전 상기 은-나노와이어 입자의 속도를 감지하는 감지 단계와, 상기 감지 단계에서 감지된 상기 은-나노와이어 입자로부터 대응 가스 속도를 산출하고, 상기 대응 가스 속도와 상기 사전 설정 데이터를 이용하여 상기 작동 가스 컴프레서의 압력을 제어하는 보상 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 은-나노 와이어 증착 장치 제어 방법
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