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기판 상에 형성된 미리 설정된 형태를 가지는 패턴층;상기 패턴층상에 형성된 절연막층; 및상기 절연막층상에 형성된 미리 설정된 탄소 나노 물질층을 포함하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자로서,상기 탄소 나노 물질층은 상기 패턴층의 형태에 대해 미리 설정된 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자
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2
제 1항에 있어서,상기 패턴층과 기판 사이에 형성된 절연막층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자
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제 1항에 있어서,상기 탄소 나노 물질은 그래핀인 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자
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제 1항에 있어서,상기 탄소 나노 물질은 탄소 나노 튜브인 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자
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6
제 1항에 있어서,상기 탄소 나노 물질층상의 미리 설정된 영역에 형성된 전극층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자
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7
기판 상에 미리 설정된 형태를 가지는 패턴층을 형성하는 단계;상기 패턴층상에 절연막층을 형성하는 단계; 및상기 절연막층상에 미리 설정된 탄소 나노 물질층을 형성하는 단계를 포함하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자 제조 방법으로서,상기 탄소 나노 물질층은 상기 패턴층의 형태에 대해 미리 설정된 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자 제조 방법
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8 |
8
제 7항에 있어서,상기 패턴층과 기판 사이에 절연막층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자 제조 방법
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9
삭제
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10
제 7항에 있어서,상기 탄소 나노 물질은 그래핀인 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자 제조 방법
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11
제 7항에 있어서,상기 탄소 나노 물질은 탄소 나노 튜브인 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자 제조 방법
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12
제 7항에 있어서,상기 탄소 나노 물질층상의 미리 설정된 영역에 전극층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 나노 물질을 이용한 반도체 소자 제조 방법
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