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기판 상에 제1 리프트 오프 박막을 형성하는 단계;상기 제1 리프트 오프 박막 상에, 상호 이격되어 상기 제1 리프트 오프 박막을 부분적으로 노출된 제2 리프트 오프 패턴들을 형성하는 단계;상기 노출된 제1 리프트 오프 박막 상에, 상호 평행한 제1 금속 박막 패턴과 제2 금속 박막 패턴 및 상기 제1 및 제2 금속 박막 패턴들 사이에 개재된 유전체 박막 패턴을 각각 갖는 메타 단위체들을 형성하는 단계;상기 제2 리프트 오프 패턴을 제거하여 상기 메타 단위체들 각각의 측벽을 노출시키는 단계;상기 메타 단위체들 각각의 측벽에 스페이서를 형성하는 단계; 상기 제1 리프트 오프 박막을 상기 기판으로부터 박리(lift off)시키는 단계; 및상기 메타 단위체들 사이에 상기 스페이서를 정렬시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 메타 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 스페이서를 형성하는 단계는,상기 메타 단위체들 및 상기 제1 리프트 오프 박막 상에 스페이서용 박막을 등사적(conformal)으로 형성하는 단계; 및상기 스페이서용 박막을 이방성 식각하는 단계를 포함하는 나노 메타 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 스페이서는 산화물 또는 질화물로 이루어질 것을 특징으로 하는 나노 메타 구조물의 제조 방법
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 스페이서를 형성하는 단계는,상기 제1 리프트 오프 박막을 상기 기판으로부터 박리(lift off)시켜 상기 메타 단위체들을 개별화시키는 단계; 상기 메타 단위체들에 대하여 딥 코팅 공정을 통하여 상기 메타 단위체들 각각을 감싸는 스페이서를 형성하는 단계; 및상기 메타 단위체들 사이에 스페이서를 정렬시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 메타 구조물의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 딥 코팅 공정은 나노 입자가 분산된 분산 용액 또는 졸-겔 용액을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 나노 메타 구조물의 제조 방법
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제6항에 있어서, 상기 나노 입자는 산화물 또는 질화물을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 메타 구조물의 제조 방법
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제1항 내지 제3항 및 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 메타물질 제조 방법에 의해 제조되는 나노 메타 구조물
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