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(a) 증착층(2) 상에 요철이 형성된 몰드(3)를 접촉시켜 상기 요철의 돌출부 표면 상에 증착층의 일부를 전사하는 단계; (b) 지지층(4) 상부에 열가소성 폴리머(thermoplastic polymer)로 형성된 제1 고분자층(6)에 상기 몰드(3)를 핫엠보싱시켜, 상기 제1 고분자층(6)에 상기 증착층의 일부를 삽입하는 단계;(c) 상기 증착층의 일부가 삽입된 제1 고분자층(6) 상에, 제1 캡핑층(7)을 코팅하는 단계; 및 (d) 상기 증착층의 일부가 삽입된 제1 고분자층(6) 및 상기 제1 캡핑층(7)을 시편에 부착시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 메타물질 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서,상기 증착층(2)은 기판(1) 상에 증착되며, 그리고 상기 증착층(2)은 금속, 산화물 및 그래핀 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 메타물질 제조 방법
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3
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서, 상기 몰드(3)는 탄성 중합체 몰드(elastomeric mold)인 것을 특징으로 하는, 메타물질 제조 방법
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4
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계는 80 내지 200℃에서 수행되는 것을 특징으로 하는 메타물질 제조 방법
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5
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서, 상기 제1 고분자층(6) 및 상기 지지층(supporting layer, 4) 사이에는 희생층(sacrificial layer, 5)이 제공되는 것을 특징으로 하는 메타물질 제조 방법
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6
제5항에 있어서, (e) 상기 희생층(5) 및 상기 지지층(4)을 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 메타물질 제조 방법
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7
제6항에 있어서, 상기 (e) 단계 후,상기 (a) 단계 내지 상기 (c) 단계를 추가적으로 수행하여, 증착층의 일부가 삽입된 제2 고분자층 상에 제2 캡핑층을 형성하는 단계; 및상기 증착층의 일부가 삽입된 제2 고분자층 및 상기 제2 캡핑층을 상기 제1 캡핑층에 부착시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 메타물질 제조 방법
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8
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 따른 메타물질 제조 방법에 의해 제조되는 메타물질 구조 필름
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고분자 및 산화실리콘 중 어느 하나 이상으로 형성되는 매트릭스(21a, 22a, 23a); 및 상기 매트릭스 내에 형성되는 하나 이상의 미세패턴 어레이(21b, 22b, 23b);로 각각 구성되는 적어도 두 개의 유닛셀들(21, 22, 23)을 포함하고, 상기 유닛셀들(21, 22, 23)은 적층되어 위치하며, 그리고 상기 유닛셀들(21, 22, 23) 각각에 포함된 미세패턴 어레이들(21b, 22b, 23b)의 단면적은 하측부로 갈수록 작아지는 것을 특징으로 하는 메타물질 구조 필름
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10
제9항에 있어서, 상기 미세패턴 어레이들(21b, 22b, 23b) 각각은 금속, 산화물 및 그래핀 중 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 메타물질 구조 필름
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11
제9항에 있어서, 상기 미세패턴 어레이들(21b, 22b, 23b) 각각은, 일정한 간격으로 혹은 랜덤하게 상기 매트릭스 내에 삽입되어 위치하는 것을 특징으로 하는 메타물질 구조 필름
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레이저 장치(210);상기 레이저 장치(210)로부터 조사되는 빛의 일부를 반사시키는 빔 스플리터(215);상기 빔 스플리터(215)로부터 반사된 빛을 특정한 패턴을 가지도록 맞춤형 빛 패턴으로 변환하는 파면조절기(SLM;Spatial Light Modulator, 220);상기 빔 스플리터(215)를 가운데 두고 상기 파면조절기(220)와 마주보도록 배치되고, 상기 맞춤형 빛 패턴이 통과하는 대물 렌즈(230);상기 대물 렌즈(230)에 마주보도록 배치되며, 상기 대물 렌즈(230)를 통과한 상기 맞춤형 빛 패턴이 조사되도록 관찰 대상 시편 상측에 위치하는 메타물질 구조 필름(100); 및상기 빔 스플리터(215)를 향하도록 배치되며, 상기 관찰 대상 시편으로부터 발생하는 이미징 정보를 검출하는 검출기(240);를 포함하는 것을 특징으로 하는, 메타물질 구조 필름을 이용한 광학 이미징 시스템
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제12항에 있어서, 상기 이미징 정보는,상기 관찰 대상 시편의 근접장 및 원거리장 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 메타물질 구조 필름을 이용한 광학 이미징 시스템
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제12항에 있어서, 상기 메타물질 구조 필름(100)은, 고분자 및 산화실리콘 중 어느 하나 이상으로 형성되는 매트릭스; 및 상기 매트릭스 내에 형성되는 하나 이상의 미세패턴 어레이;로 포함하는 적어도 두 개의 유닛셀들을 포함하고, 상기 유닛셀들은 적층되어 위치하며, 그리고 상기 유닛셀들에 각각 포함된 미세패턴 어레이의 단면적은 하측부로 갈수록 작아지는 것을 특징으로 하는, 메타물질 구조 필름을 이용한 광학 이미징 시스템
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