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투명 기판을 준비하는 단계;상기 투명 기판 상에 나노 임프린팅 공정을 통하여 나노 크기의 제1 돌출부들이 형성된 제1 나노 폴리머 패턴을 형성하는 단계;상기 제1 나노 폴리머 패턴에 인접하는 제1 격자 패턴들을 형성하는 단계;상기 제1 격자 패턴들을 덮도록 제1 평탄화층을 형성하는 단계; 상기 제1 평탄화층 상에 나노 임프린팅 공정을 통하여 나노 크기의 제2 돌출부들이 형성된 제2 나노 폴리머 패턴을 형성하는 단계; 및상기 제2 나노 폴리머 패턴 각각에 인접하는 제2 격자 패턴들을 형성하는 단계를 포함하는 다층 구조의 선격자 편광자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 나노 폴리머 패턴 각각을 형성하는 단계는,제1 몰드에 제1 예비 나노 폴리머 패턴들 및 제2 예비 나노 폴리머 패턴들을 각각 형성하는 단계;상기 제1 예비 나노 폴리머 패턴들 및 상기 제2 예비 나노 폴리머 패턴들을 상기 투명 기판 및 상기 평탄화층 상에 각각 전사시키는 단계; 및상기 제1 몰드를 상기 투명 기판 및 상기 평탄화층으로부터 릴리싱(releasing)하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 구조의 선격자 편광자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 나노 폴리머 패턴 각각을 형성하는 단계는,상기 투명 기판 및 상기 평탄화층 상에 제1 폴리머막 및 제2 폴리머막을 각각 형성하는 단계;상기 제1 및 제2 폴리머막들 각각에 대하여 제1 스탬프로 가압하여 제1 및 제2 나노 폴리머 패턴 각각을 형성하는 단계; 및상기 제1 스탬프를 상기 투명 기판 및 상기 평탄화층으로부터 릴리싱(releasing)하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 구조의 선격자 편광자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 격자 패턴들을 형성하는 단계는, 이방성 증착 공정을 통하여 상기 제1 돌출부들 사이 및 상기 제1 돌출부들 각각의 상부 표면과, 제2 돌출부들 사이 및 상기 제2 돌출부들 각각의 상부 표면에 상기 제1 격자 패턴들 및 제2 격자 패턴들 각각을 형성하는 것을 특징으로 하는 다층 구조의 선격자 편광자의 제조 방법
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제4항에 있어서, 상기 이방성 증착 공정은 이온빔 증발 공정 또는 열증발 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 구조의 선격자 편광자의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 격자 패턴들을 형성하는 단계는, 상기 제1 및 제2 나노 폴리머 패턴 상에 각각 등방성 증착 공정을 통하여 컨포멀(conformal)하게 제1 금속 박막 및 제2 금속 박막을 각각 형성하는 단계; 및상기 제1 및 제2 금속 박막을 이방성 식각하여 상기 제1 및 제2 돌출부들 각각의 측벽들에 상기 제1 및 제2 격자 패턴들을 각각 형성하는 것을 특징으로 하는 다층 구조의 선격자 편광자의 제조 방법
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제6항에 있어서, 상기 등방성 증착 공정은 원자층 증착 공정 또는 스퍼터링공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 다층 구조의 선격자 편광자의 제조 방법
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