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수소 실세스퀴옥산(HSQ) 수지, 제1 실리카 입자를 포함하는 실리카 비드들 및 용매를 포함하는 혼합액을 형성하는 단계;상기 혼합액을 이용하여, 유리 기판의 상부 표면에 예비 코팅막을 형성하는 단계; 및상기 예비 코팅막을 열처리하여, 상기 유리 기판의 상부 표면에, 상기 수소 실세스퀴옥산 수지 내부의 수소 원자가 제거됨으로서 형성된 실리카 물질 및 상기 실리카 비드들이 불규칙적으로 혼합된 광산란 패턴을 구비한 코팅막을 형성하는 단계를 포함하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 실리카 비드들은 제1 실리카 입자보다 큰 평균 직경을 갖는 제2 실리카 입자들을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 제1 실리카 입자들은 제1 평균 직경을 갖는 실리카 입자들 및 상기 제1 평균 직경보다 2배 이상 큰 제2 평균 직경을 갖는 실리카 입자들을 포함하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 예비 코팅막을 열처리하는 단계는 450°C 내지 600°C의 온도에서 30분 내지 2시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅막은 가시광선 전체 영역 내에서 30% 이상의 광산란도를 갖는 것을 특징으로 하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 유리 기판 및 상기 코팅막은 상호 동일한 굴절율을 가지며, 실리콘 산화물로 이루어진 것을 특징으로 하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 예비 코팅막에 대하여 자외선을 조사하여 상기 예비 코팅막을 전처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅막에 대하여 SAM(Self Assembled Monolayer) 코팅을 통하여 소수성 처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 기판 구조물의 제조 방법
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