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화학 기상 증착 공정과 스퍼터링 공정이 수행되는 공간을 제공하는 진공 챔버;상기 진공 챔버 내부의 하부에 배치되되, 유/무기 혼성 다층 구조의 기체 차단막이 형성되는 대상체를 장착하고 있는 홀딩 수단;상기 진공 챔버 내부의 상부에 배치되어 중성입자 빔을 발생시키기 위하여 음의 전압으로 바이어스되는 평판 형태의 도체 리플렉터를 포함하는 중성입자 빔 발생 수단;상기 도체 리플렉터 아래에 플라즈마 이온을 생성하는 플라즈마 소스; 및상기 중성입자 빔 발생수단의 양 쪽에 각각 배치되되, 스퍼터링 타겟의 면이 상기 대상체의 면에 경사지도록 장착하고 있는 공동 스퍼터링 수단을 포함하여 구성되며,상기 플라즈마 이온이 음의 전압으로 바이어스된 도체 리플렉터에 수직으로 충돌 및 반사되어 중성 입자 빔으로 변환되고, 상기 변환된 중성 입자 빔이 상기 대상체에 형성된 기체 차단막에 공급되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 장치
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청구항 1에 있어서,상기 홀딩 수단과, 상기 중성입자 빔 발생 수단 및 공동 스퍼터링 수단 사이에 배치되되, 플라즈마 내의 전자를 구속하여 음이온들이 상기 대상체로 이동하지 못하도록 하기 위하여 수평 방향으로 자기장을 발생시키는 플라즈마 리미터를 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 장치
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청구항 2에 있어서,상기 플라즈마 리미터는, N극 자석과 S극 자석이 결합되어 형성되는 자석 페어들이 상호 이격 배치되어 슬릿을 형성시키는 자석 어레이, 상기 자석 어레이를 고정시키고 상기 챔버 내부에 부착되는 고정틀을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 기체 차단막 형성 장치
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청구항 3에 있어서,상기 홀딩 수단은 상기 챔버 내에서 왕복운동이 가능하게 형성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 장치
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청구항 4에 있어서,상기 홀딩 수단의 왕복 운동 방향은 상기 슬릿의 장축과 수직한 방향인 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 장치
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청구항 1 내지 청구항 5 중, 어느 한 항에 있어서,상기 홀딩 수단은 상기 대상체를 가열 및 냉각할 수 있는 온도 조절 유닛을 구비하는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 장치
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청구항 1 내지 청구항 5 중, 어느 한 항에 있어서,상기 대상체는 플라스틱 기판 또는 상부에 기능성 코팅층이 형성된 기판인 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 장치
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청구항 1 내지 청구항 5 중, 어느 한 항에 있어서,상기 대상체는 상부에 유기발광소자 또는 유기태양전지가 형성된 기판인 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 장치
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하나의 진공 챔버에서 대상체 상에 무기 박막 형성 후 그 상부에 유기 박막을 형성하거나, 유기 박막 형성 후 그 상부에 무기 박막을 형성하는 유/무기 박막 형성 단계;상기 유/무기 박막 형성 단계를 반복 수행하는 유/무기 혼성 다층 박막 형성 단계를 포함하여 구성되며,상기 무기 박막의 일부 또는 전부는 결정 크기가 서로 다른 나노 결정 구조 층들이 적층되어 형성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 방법
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10
청구항 9에 있어서,상기 유기 박막은 화학 기상 증착 방법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 방법
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청구항 10에 있어서, 상기 유기 박막은,액상 고분자 재료를 기화시켜 가스 상태로 상기 진공 챔버 내부에 공급한 후 플라즈마를 이용하여 형성되거나, 액상 고분자 재료를 기화시켜 가스 상태로 상기 진공 챔버 내부에 공급한 후 중성입자 빔을 이용하여 형성되거나, 액상 고분자 재료를 기화시켜 가스 상태로 상기 진공 챔버 내부에 공급한 후 대상체를 가열 또는 냉각시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 방법
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청구항 9에 있어서,상기 무기 박막은 스퍼터링 방법 및 중성입자 빔 처리 방법을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 방법
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청구항 9에 있어서, 상기 나노 결정 구조 층들은,스퍼터링 방법에 의하여 나노 사이즈 두께의 박막을 형성하는 제1 과정, 상기 박막에 대하여 중성입자 빔 처리를 수행하는 제2 과정 및 상기 제1 과정과 제2 과정을 반복 수행하는 제3 과정을 통하여 형성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 방법
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청구항 14에 있어서,상기 제3 과정을 수행한 후, 상기 무기 박막의 목표 두께를 만들기 위하여 상기 제1 과정을 더 수행하는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 방법
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청구항 9에 있어서, 상기 나노 결정 구조 층들은,스퍼터링 방법에 의하여 무기 박막을 형성하면서, 동시에 중성입자 빔 처리를 수행함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 기체 차단막 형성 방법
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