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구리배선 형성방법

  • 기술번호 : KST2015135072
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 구리배선 형성방법에 관하여 개시한다. 본 발명의 방법은, 구리염과 환원제와 착물형성제와 pH 조절제를 포함하는 수용액으로 기판에 형성된 확산방지막 상의 산화막을 제거하고 확산방지막 상에 구리 이온을 환원시키는 단계와; 구리 이온이 환원된 확산방지막 상에 구리층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 얇고 연속적인 씨앗층 혹은 금속 박막을 루테늄과 같은 확산방지막 위에 형성할 수 있으므로, 씨앗층의 연속성 문제를 해결할 수 있고, (무)전해 도금을 루테늄 박막 표면에 직접 수행할 수 있으며, 화학적 방법을 이용해 전처리를 진행하므로 전해도금에 비해 대면적 기판에서의 공정에 활용도가 크다. 구리배선, 확산방지막, 전처리, 씨앗층, (무)전해 도금
Int. CL C23C 18/18 (2006.01.01) C23C 18/40 (2006.01.01) C23C 18/52 (2006.01.01)
CPC C23C 18/1803(2013.01) C23C 18/1803(2013.01) C23C 18/1803(2013.01) C23C 18/1803(2013.01)
출원번호/일자 1020090001531 (2009.01.08)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1100084-0000 (2011.12.22)
공개번호/일자 10-2010-0082172 (2010.07.16) 문서열기
공고번호/일자 (20111229) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.01.08)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재정 대한민국 서울 관악구
2 구효철 대한민국 서울특별시 영등포구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인아주 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.01.08 수리 (Accepted) 1-1-2009-0011506-62
2 보정요구서
Request for Amendment
2009.01.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0004254-80
3 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2009.01.20 수리 (Accepted) 1-1-2009-0034072-21
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.09.13 수리 (Accepted) 9-1-2010-0056297-79
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0083988-60
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2011-0278818-99
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.04.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0278817-43
9 보정요구서
Request for Amendment
2011.04.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0034804-98
10 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2011-0311104-28
11 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.04.26 수리 (Accepted) 1-1-2011-0311181-23
12 보정요구서
Request for Amendment
2011.04.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0037073-33
13 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.05.03 무효 (Invalidation) 1-1-2011-0328849-11
14 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.05.03 수리 (Accepted) 1-1-2011-0328906-15
15 보정요구서
Request for Amendment
2011.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0042053-48
16 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2011-0407843-13
17 보정요구서
Request for Amendment
2011.06.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0049371-60
18 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation
2011.07.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0063439-05
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
20 등록결정서
Decision to grant
2011.12.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0716342-67
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
구리염과 환원제와 착물형성제와 pH 조절제를 포함하는 수용액으로 기판에 형성된 확산방지막 상의 산화막을 제거하고 상기 확산방지막 상에 구리 이온을 환원시키는 단계와; 상기 구리 이온이 환원된 상기 확산방지막 상에 구리층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 확산방지막은 루테늄으로 형성되는 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 구리층은 전해 도금 또는 무전해 도금으로 형성하는 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
4 4
제1항에 있어서, 상기 구리염은 황산구리 5수화물인 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 pH 조절제는 NaOH, KOH, Tetramethylammonium hydroxide (TMAH) 또는 H3BO3 인 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 착물형성제는 구연산염 또는 구연산염 수화물을 포함하는 화합물인 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 환원제는 NaH2PO2, NH4H2PO2, KH2PO2 및 양이온과 차인산 이온의 염으로 이루어진 환원제 중에서 선택된 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 수용액의 온도는 50~90℃인 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 수용액의 pH는 8~12인 것을 특징으로 하는 구리배선 형성방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.