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하기 반응식 1과 같이,
화학식 3으로 표시되는 화합물을 4-메틸발레인산과 아마이드화 반응으로 화학식 4로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(단계 1);
단계 1에서 제조된 화학식 4로 표시되는 화합물을 말단 이중결합을 알데히드로 치환시키는 반응으로 화학식 5로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(단계 2);
단계 2에서 제조된 화학식 5로 표시되는 화합물에 t-부틸디메틸실릴 클로라이드(TBSCl)을 가한 후 1,8-디아자비시클로[5
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제1항의 상기 단계 1에 있어서, 상기 아미드화 반응은 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필) 카르보디이미드(EDCI)와 1-히드록시벤조트리아졸(HOBt) 용매하에 수행되는 것을 특징으로 하는 알파-디하이드로테트라베나진의 제조방법
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제1항의 상기 단계 2에 있어서, 상기 말단 이중결합을 알데히드로 치환시키는 반응은 오스뮴 테트록사이드(OsO4)를 N-메틸모르폴린 N-옥사이드(NMO) 존재 하에 반응시킨 후 NaIO4를 첨가하는 것을 특징으로 하는 알파-디하이드로테트라베나진의 제조방법
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제1항의 상기 단계 3는, 상기 단계 2에서 제조된 화학식 5로 표시되는 화합물을 CH2Cl2에 녹이고 t-부틸디메틸실릴 클로라이드(TBSCl)을 가하여 환류한 후, 여기에 1,8-디아자비시클로[5
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5
제1항의 상기 단계 4에 있어서, 상기 리튬 헥사디메틸디실라잔(LiHMDS); i-PrMgCl 또는 t-butylMgCl는 화학식 6으로 표시되는 화합물에 대하여 1 내지 10 당량이 사용되는 것을 특징으로 하는 알파-디하이드로테트라베나진의 제조방법
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6
제5항에 있어서, 상기 리튬 헥사디메틸디실라잔(LiHMDS); i-PrMgCl; 또는 t-butylMgCl는 화학식 6으로 표시되는 화합물에 대하여 1
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7
제1항의 상기 단계 4는, 상기 단계 3에서 제조된 화학식 6으로 표시되는 화합물을 i-PrMgCl과 벤젠하에 반응시켜 화학식 7로 표시되는 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 알파-디하이드로테트라베나진의 제조방법
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제1항의 상기 단계 5는, 단계 4에서 제조된 화학식 7로 표시되는 화합물을 벤젠 용매하에서 p-톨루엔설폰산(TsOH)를 가하여 화학식 8로 표시되는 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 알파-디하이드로테트라베나진의 제조방법
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제1항의 상기 단계 6에 있어서, 상기 환원반응은 AlH3, 디이소부틸 알루미늄 하이드라이드(DIBAL), 소듐 비스(2-메톡시에톡시)알루미늄 하이드라이드 또는 리튬 알루미늄 하이드라이드(LAH)를 사용하는 것을 특징으로 하는 알파-디하이드로테트라베나진의 제조방법
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10
하기 반응식 2와 같이,
화학식 3으로 표시되는 화합물을 4-메틸발레인산과 아마이드화 반응으로 화학식 4로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(단계 1);
단계 1에서 제조된 화학식 4로 표시되는 화합물을 말단 이중결합을 알데히드로 치환시키는 반응으로 화학식 5로 표시되는 화합물을 제조하는 단계(단계 2);
단계 2에서 제조된 화학식 5로 표시되는 화합물에 t-부틸디메틸실릴 클로라이드(TBSCl)을 가한 후 1,8-디아자비시클로[5
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제10항의 상기 단계 7에 있어서, 상기 산화반응은 테트라-n-프로필암모늄 과루테늄산염(proprylammonium perruthenate, TPAP) 및 N-메틸모르폴린 N-옥사이드(NMO)를 가하여 수행되는 것을 특징으로 하는 테트라베나진의 제조방법
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