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마이크로 코어를 포함하는 마이크로 코어 용액 및 금속 나노입자를 포함하는 제1 금속 나노입자 용액과 제2 금속 나노입자 용액을 준비하는 단계; 상기 제1 금속 나노입자 용액과 상기 제2 금속 나노입자 용액을 숙성시키는 단계;상기 마이크로 코어 용액에 상기 숙성된 제1 금속 나노입자 용액을 혼합하여 상기 마이크로 코어 표면에 금속 흡착층을 형성하는 단계; 및 상기 금속 흡착층이 형성된 상기 마이크로 코어를 포함하는 상기 마이크로 코어 용액에 상기 숙성된 제2 금속 나노입자 용액을 혼합한 후 무전해 도금 공정을 수행하여 상기 마이크로 코어 표면에 금속 마이크로 쉘을 형성하는 단계를 포함하는 표면증강라만산란 활성 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 마이크로 코어는 그 표면에 금속흡착 작용기를 포함하며,상기 금속흡착 작용기는 정전흡착에 의해 상기 금속 나노입자와 결합하는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란 활성 입자의 제조 방법
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제 2 항에 있어서,상기 마이크로 코어는 폴리스티렌 비드이고,상기 금속흡착 작용기는 아민기인 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란 활성 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 나노입자는 표면증강라만산란 활성을 갖는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란 활성 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제1 금속 나노입자 용액과 상기 제2 금속 나노입자 용액은 1 ~ 5일 숙성되는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란 활성 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 무전해 도금 공정은 3 ~ 7회 수행되는 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란 활성 입자의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 마이크로 코어는 0
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란 활성 입자
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제 8 항에 있어서,상기 표면증강라만산란 활성 입자는 0
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제 8 항에 있어서,상기 표면증강라만산란 활성 입자는 마이크로피펫 또는 광학핀셋에 의해 이동가능한 것을 특징으로 하는 표면증강라만산란 활성 입자
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 표면증강라만산란 활성 입자를 이용하여 부도체 표면의 표면물질을 식별하는 방법에 있어서,상기 표면증강라만산란 활성 입자를 상기 부도체 표면 위에 배치하는 단계; 및상기 표면증강라만산란 활성 입자에 대하여 표면증강라만산란 분광을 수행하는 단계를 포함하는 부도체 표면의 표면물질 식별 방법
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제 11 항에 있어서,상기 부도체는 실리콘, ITO, 및 유리를 포함하는 것을 특징으로 하는 부도체 표면의 표면물질 식별 방법
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제 11 항에 있어서,상기 표면증강라만산란 활성 입자는 마이크로피펫 또는 광학핀셋에 의해 상기 부도체 표면에 배치되는 것을 특징으로 하는 부도체 표면의 표면물질 식별 방법
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제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항의 방법에 의해 제조된 표면증강라만산란 활성 입자를 이용하여 도체 표면의 전기화학반응을 분석하는 방법에 있어서,상기 표면증강라만산란 활성 입자의 표면을 절연층으로 코팅하는 단계;상기 절연층으로 코팅된 상기 표면증강라만산란 활성 입자를 도체 위에 배치하는 단계; 및상기 도체에 전압을 인가하여 상기 도체 표면에서의 전기화학반응을 분석하는 단계를 포함하는 도체 표면의 전기화학반응 분석 방법
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제 14 항에 있어서,상기 절연층은 상기 전기화학반응의 반응물 또는 생성물과 화학적 물리적 상호작용을 하지 않는 물질로 형성되는 것을 특징으로 하는 도체 표면의 전기화학반응 분석 방법
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제 15 항에 있어서,상기 절연층은 MCU(11-mercaptoundecanol)로 형성되는 것을 특징으로 하는 특징으로 하는 도체 표면의 전기화학반응 분석 방법
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제 16 항에 있어서,상기 절연층 코팅 단계는,상기 표면증강라만산란 활성 입자를 세정하는 단계,상기 MCU를 에탄올에 녹여 MCU 용액을 제조하는 단계, 및상기 표면증강라만산란 활성 입자를 상기 MCU 용액에 넣어 일정시간 보관하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도체 표면의 전기화학반응 분석 방법
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제 14 항에 있어서,상기 전기화학반응 분석 단계는,상기 표면증강라만산란 활성 입자에 대하여 표면증강라만산란 분광을 수행하는 단계, 및 선형 주사 전위법을 이용하여 상기 전기화학반응의 과정을 나타내는 순차적 스펙트럼을 획득하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도체 표면의 전기화학반응 분석 방법
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