맞춤기술찾기

이전대상기술

미세 유체 방식의 가변 광학 소자 어레이 및 제조방법

  • 기술번호 : KST2015136041
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 개시된 가변 광학 소자 어레이는 투명 기판; 상기 투명 기판 상에 형성되고, 소정 패턴의 전극 배선을 포함하는 어드레싱 층; 상기 어드레싱 층 위에 형성되어 다수의 셀 영역을 구획하는 것으로, 서로 쌍을 이루어 이격된 이중벽을 이루는 형태로 배치되고 상기 전극 배선과 전기적으로 연결된 다수의 전도성 격벽을 포함하는 격벽부; 상기 이중벽을 이루는 한 쌍의 전도성 격벽 사이의 영역을 채우는 절연물질; 상기 다수의 셀 영역 내에 각각 배치된 것으로, 전도성의 제1유체 및 상기 제1유체와 섞이지 않으며 비전도성인 제2유체; 상기 다수의 전도성 격벽의 상면 및 상기 셀 영역의 내벽이 되는 측면에 형성된 절연코팅층; 상기 다수의 셀 영역 전체를 덮는 투명전극층; 상기 투명전극층과 상기 어드레싱층 간에 전압을 인가할 수 있는 전압 인가 장치;를 포함한다.
Int. CL G02B 26/00 (2006.01.01) G02F 1/01 (2006.01.01)
CPC
출원번호/일자 1020120077363 (2012.07.16)
출원인 삼성전자주식회사, 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1920726-0000 (2018.11.15)
공개번호/일자 10-2014-0010717 (2014.01.27) 문서열기
공고번호/일자 (20181122) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.03.23)
심사청구항수 10

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김억수 대한민국 경기 성남시 분당구
2 권용주 대한민국 서울특별시 관악구
3 배정목 대한민국 서울 용산구
4 최윤선 대한민국 경기 용인시 기흥구
5 이정훈 대한민국 서울 서초구
6 최승열 대한민국 서울 관악구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 리앤목특허법인 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 삼성전자주식회사 경기도 수원시 영통구
2 서울대학교 산학협력단 서울특별시 관악구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0567233-25
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2017-0287094-68
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.04.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0257660-34
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.06.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0581189-50
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2018-0581188-15
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0568616-41
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.09.20 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0942101-77
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.09.20 수리 (Accepted) 1-1-2018-0942100-21
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2018.10.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0711160-45
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
삭제
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
투명 기판상에 소정 패턴의 전극 배선을 포함하는 어드레싱 층을 형성하는 단계;상기 어드레싱 층 위에 다수의 셀 영역을 구획하는 것으로, 서로 이격된 이중벽을 이루는 형태로 배치되고 상기 전극 배선과 전기적으로 연결된 다수의 전도성 격벽을 포함하는 격벽부를 형성하는 단계;상기 격벽부를 형성한 후, 상기 이중벽 사이 영역을 절연물질로 채우는 단계;상기 다수의 전도성 격벽의 상면 및 상기 셀 영역의 내벽이 되는 측면에 절연코팅층을 형성하는 단계; 상기 다수의 셀 영역에 전도성의 제1유체 및 상기 제1유체와 섞이지 않으며 비전도성인 제2유체를 배치하는 단계;상기 다수의 셀 영역 위에 투명전극층을 형성하는 단계;를 포함하는 가변 광학 소자 어레이 제조 방법
12 12
제11항에 있어서,상기 격벽부를 형성하기 전에,상기 어드레싱 층 위에 절연층을 형성하는 단계;을 더 포함하는 가변 광학 소자 어레이 제조방법
13 13
제12항에 있어서,상기 절연층을 관통하여 상기 소정 패턴의 전극 배선과 연결되는 다수의 도전성 관통홀을 형성하는 단계;를 더 포함하는 가변 광학 소자 어레이 제조방법
14 14
제11항에 있어서,상기 소정 패턴의 전극 배선은 전기적으로 분리된 복수의 전극을 포함하는 가변 광학 소자 어레이 제조 방법
15 15
제14항에 있어서,상기 다수의 셀 영역은 2차원 어레이로 배열되고,상기 복수의 전극은 상기 다수의 셀 영역 중 같은 열을 이루는 셀 영역을 동일하게 구동하는 패턴으로 분리된 가변 광학 소자 어레이 제조방법
16 16
제14항에 있어서,상기 어드레싱 층은 상기 다수의 셀 영역을 독립적으로 구동하기 위한 다수의 트랜지스터를 더 구비하는 가변 광학 소자 어레이 제조방법
17 17
제11항에 있어서,상기 제1유체는 극성 유체이고, 상기 제2유체는 비극성 유체인 가변 광학 소자 어레이 제조방법
18 18
제11항에 있어서,상기 제1유체는 전해질이고, 상기 제2유체는 오일인 가변 광학 소자 어레이 제조방법
19 19
제11항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 격벽부를 형성하는 단계는 상기 어드레싱 층 위에 상기 다수의 전도성 격벽에 대응하는 다수의 홀이 구비된 포토리지스트 몰드를 형성하는 단계;상기 다수의 홀 내에 금속 물질을 형성하는 단계;를 포함하는 가변 광학 소자 어레이 제조방법
20 20
제19항에 있어서,상기 포토리지스트 몰드는 SU-8 포토리지스트 또는 KMPR로 이루어진 가변 광학 소자 어레이 제조방법
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08982445 US 미국 FAMILY
2 US20140016175 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2014016175 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.