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세포를 배양하기 위한 웰을 포함하는 배양 플레이트부;상기 배양 플레이트부를 덮는 커버부; 및상기 커버부의 상기 배양 플레이트부와 접하는 표면으로부터 상기 배양 플레이트부의 상게 웰 내부로 향하여 연장된 돌출부를 포함하고, 상기 돌출부는 자성을 나타내는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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제 1 항에 있어서,상기 돌출부는 영구 자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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제 1 항에 있어서,상기 돌출부는 전자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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제 4 항에 있어서,상기 전자석에 공급되는 전류의 크기와 공급 시간을 제어하는 제어부 및 상기 제어부에 의하여 정해진 시간 동안 상기 전자석에 전원을 공급하는 전원부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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제 1 항에 있어서,상기 돌출부의 길이는 상기 웰의 깊이의 1/20 내지 9/10 인 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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제 1 항에 있어서,상기 돌출부는 상기 세포를 배양하기 위한 웰 당 1개씩 포함되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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제 1 항에 있어서,상기 돌출부는 상기 세포를 배양하기 위한 웰 당 복수개 포함되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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제 1 항에 있어서,상기 돌출부의 말단이 뾰족하게 형성되는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구
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나노 입자가 포함된 배양액에서 스페로이드 형태로 배양하기를 원하는 세포를 기초 배양하는 단계;상기 배양된 세포를 포함하는 배양액을 배양 플레이트부의 웰에 수용하는 단계;돌출부를 포함하는 커버부로 상기 배양 플레이트부의 표면을 커버하여 상기 돌출부가 상기 웰의 내부에 위치하도록 하는 단계; 및상기 돌출부의 자성에 의하여 상기 세포가 스페로이드를 형성하면서 배양되는 단계;를 포함하는 제 1 항 및 제 3 항 내지 제 8 항 중 어느 하나의 3차원 세포 배양 용구를 이용한 세포의 3차원 배양 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 배양된 세포를 포함하는 배양액을 상기 배양 플레이트부의 웰에 수용하는 단계에서는 상기 돌출부의 말단이 상기 배양된 세포와 배양액과 접촉하지 않도록 수용하는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구를 이용한 세포의 3차원 배양 방법
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제 10 항에 있어서,상기 배양된 세포를 포함하는 배양액을 상기 배양 플레이트부의 웰에 수용하는 단계에서는 상기 돌출부의 말단이 상기 배양된 세포와 배양액과 접촉하도록 수용하는 것을 특징으로 하는 3차원 세포 배양 용구를 이용한 세포의 3차원 배양 방법
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제 10 항에 있어서,상기 나노 입자가 포함된 배양액에서 스페로이드 형태로 배양하기를 원하는 세포를 기초 배양하는 단계에서는 상기 스페로이드 형태로 배양하기를 원하는 세포의 종류가 복수개이고, 상기 복수개 종류의 스페로이드 형태로 배양하기를 원하는 세포가 상기 나노 입자가 포함된 배양액에서 혼합되어 동시에 기초 배양되는 것을 특징으로 하는 3차원 배양 용구를 이용한 세포의 3차원 배양 방법
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제 10 항에 있어서, 스페로이드 형태로 배양하기를 원하는 제 1 세포, 제 2 세포를 나노 입자가 포함된 각각의 배양액에서 별도로 기초 배양하는 단계;상기 배양된 제 1 세포를 포함하는 배양액을 배양 플레이트부의 웰에 수용하는 단계;상기 돌출부를 포함하는 커버부로 상기 배양 플레이트부의 표면을 커버하여 상기 돌출부가 상기 웰의 내부에 위치하도록 하는 단계; 상기 돌출부의 자성에 의하여 상기 제 1 세포가 스페로이드를 형성하면서 배양되는 단계;상기 배양된 제 2 세포를 포함하는 배양액을 상기 제 1 세포 스페로이드 형성된 배양 플레이트부의 웰에 공급하는 단계; 및 상기 돌출부의 자성에 의하여 상기 제 2 세포가, 상기 제 1 세포 스페로이드를 코어부로 하고, 쉘부를 형성하는 스페로이드를 형성하면서 배양되는 단계;를 포함하는 3차원 배양 용구를 이용한 세포의 3차원 배양 방법
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제 10 항에 있어서, 스페로이드 형태로 배양하기를 원하는 복수 종류의 세포를 나노 입자가 포함된 각각의 배양액에서 별도로 기초 배양하는 단계;상기 배양된 복수 종류의 세포를 포함하는 배양액을 별도의 배양 플레이트부의 웰에 수용하는 단계;상기 돌출부를 포함하는 커버부로 상기 배양 플레이트부의 표면을 커버하여 상기 돌출부가 상기 웰의 내부에 위치하도록 하는 단계; 상기 복수 종류의 세포가 상기 돌출부의 자성에 의하여 각각 1차 스페로이드를 형성하면서 배양되는 단계;상기 배양된 각각의 복수 종류 세포의 스페로이드를 혼합하는 단계 ; 및상기 혼합된 복수 종류 세포의 1차 스페로이드가 상기 돌출부의 자성에 의하여 2차 스페로이드를 형성하면서 배양되는 단계;를 포함하는 3차원 배양 용구를 이용한 세포의 3차원 배양 방법
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제 10 항에 있어서, 상기 자성 나노 입자는 마그네타이트, Fe3O4, γ-Fe2O3, 망간 페라이트, 코발트 페라이트 및 니켈 페라이트로 이루어진 그룹에서 선택되는 1개 또는 복수개인 것을 특징으로 하는 3차원 배양 용구를 이용한 세포의 3차원 배양 방법
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