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스타형 유무기 복합 고분자와 이로부터 제조된 리튬 이차전지용 고분자 전해질 막 및 리튬 이차전지

  • 기술번호 : KST2015136949
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 리튬 염이 함유된 리튬 이온 전도성 고분자를 전해질로 사용하는 리튬 이온 이차전지용 고체상 고분자 전해질 막의 제조에 관한 것이다. 스타형 고분자의 안쪽은 고분자 사슬의 밀도가 높고 바깥으로 갈수록 고분자 사슬의 밀도가 작아지게 되는데, 이는 PEO계 고분자 사슬의 결정성을 낮추고 고분자 사슬의 유동성을 향상시키는데 도움을 주어 높은 이온 전도도를 기대할 수 있다.
Int. CL C08F 299/08 (2006.01.01) C08F 283/12 (2006.01.01) C08F 20/10 (2006.01.01) H01M 10/0565 (2010.01.01)
CPC C08F 299/08(2013.01) C08F 299/08(2013.01) C08F 299/08(2013.01) C08F 299/08(2013.01)
출원번호/일자 1020137026290 (2011.04.05)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1575647-0000 (2015.12.02)
공개번호/일자 10-2014-0014218 (2014.02.05) 문서열기
공고번호/일자 (20151209) 문서열기
국제출원번호/일자 PCT/KR2011/002345 (2011.04.05)
국제공개번호/일자 WO2012137995 (2012.10.11)
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 국제출원
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.10.04)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종찬 대한민국 서울특별시 서초구
2 김동균 대한민국 경기 수원시 장안구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허법 제203조에 따른 서면
[Patent Application] Document according to the Article 203 of Patent Act
2013.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0900764-60
2 보정요구서
Request for Amendment
2013.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0138254-61
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2013.12.09 수리 (Accepted) 1-1-2013-1122302-87
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.10.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0696561-04
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2014-1208791-18
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2015.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2015-0027437-25
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.02.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0109460-77
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.02.02 수리 (Accepted) 1-1-2015-0109442-55
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0403549-07
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.06.25 수리 (Accepted) 1-1-2015-0616199-13
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.06.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0616216-02
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.09.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0659058-72
15 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.10.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-1037399-91
16 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-1037378-32
17 등록결정서
Decision to Grant Registration
2015.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0790142-05
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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하기 화학식 9 내지 12 중 어느 하나의 구조식을 가지며:[화학식 9][화학식 10][화학식 11][화학식 12]상기 화학식 9 내지 12에서, n', n1', n2'는 각각 독립적으로 1-500의 정수이고, m'은 1-24의 정수이며, 상기 R은 시클로헥실기이고;상기 POSS는 하기 화학식의 구조를 가지고, 하기 * 부위에서 상기 화학식 9 내지 12의 [ ]로 표현된 부분과 연결되며, 상기 m은 8인 것을 특징으로 하는 스타형 고분자:[화학식 2]
7 7
제6항에 있어서, 상기 고분자가 상기 화학식 9의 구조를 가지는 경우에는 상기 고분자의 수평균 분자량이 10,000-500,000이고,상기 고분자가 상기 화학식 10을 가지는 경우에는 수평균 분자량이 10,000-500,000이고, 상기 고분자 내 MMA와 PEGMA의 몰비가 1:99 내지 99:1이며,상기 고분자가 상기 화학식 11의 구조를 가지는 경우에는 수평균 분자량이 10,000-500,000이고, 상기 고분자 내 POSSMA와 PEGMA의 몰비가 1:99 내지 99:1이며,상기 고분자가 상기 화학식 12의 구조를 가지는 경우에는 수평균 분자량이 10,000-500,000이고, 상기 고분자 내 MMA와 PEGMA의 몰비 가 1:99 내지 99:1이고,상기 MMA는 메틸메타크릴레이트를 의미하고, 상기 PEGMA는 폴리에틸렌글리콜 메타크릴레이트를 의미하며, 상기 POSSMA는 폴리헤드랄 올리고메릭 실세스퀴옥세인 메타크릴레이트를 의미하는 것을 특징으로 하는 스타형 고분자
8 8
제7항에 있어서, 상기 고분자가 상기 화학식 9의 구조를 가지는 경우에는 상기 고분자의 수평균 분자량이 200,000-300,000이고,상기 고분자가 상기 화학식 10을 가지는 경우에는 수평균 분자량이 10,000-100,000이고, 상기 고분자 내 MMA와 PEGMA의 몰비가 50:50 내지 99:1이며,상기 고분자가 상기 화학식 11의 구조를 가지는 경우에는 수평균 분자량이 50,000-500,000이고, 상기 고분자 내 POSSMA와 PEGMA의 몰비가 1:99 내지 50:50이며,상기 고분자가 상기 화학식 12의 구조를 가지는 경우에는 수평균 분자량이 100,000-200,000고, 상기 고분자 내 MMA와 PEGMA의 몰비가 50:50 내지 1:99이고,상기 MMA는 메틸메타크릴레이트를 의미하고, 상기 PEGMA는 폴리에틸렌글리콜 메타크릴레이트를 의미하며, 상기 POSSMA는 폴리헤드랄 올리고메릭 실세스퀴옥세인 메타크릴레이트를 의미하는 것을 특징으로 하는 스타형 고분자
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제8항에 있어서, 상기 고분자 내 PEGMA의 수평균 분자량이 100-5,000인 것을 특징으로 하는 스타형 고분자
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11 11
하기 화학식의 구조를 가지며,[화학식 13]상기 식에서 n1'과 n2'는 각각 독립적으로 1-500의 정수이고, m'은 1-24의 정수이며,상기 POSS는 하기 화학식의 구조를 가지고, 하기 * 부위에서 상기 화학식 13의 [ ]로 표현된 부분과 연결되며, 상기 m은 8인 것을 특징으로 하는 스타 형 고분자:[화학식 2]
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하기 화학식과 같이 블록 공중합체의 구조를 가지며,[화학식 14]상기 식에서 n1'과 n2'는 각각 독립적으로 1-500의 정수이고, m'은 1-24의 정수이며,상기 POSS는 하기 화학식의 구조를 가지고, 하기 * 부위에서 상기 화학식 14의 [ ]로 표현된 부분과 연결되며, 상기 m은 8인 것을 특징으로 하는 스타 형 고분자:[화학식 2]
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제6항 내지 제9항, 제11항 및 제12항 중 어느 한 항에 따른 스타형 고분자를 포함하는 고분자 전해질 막
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제13항에 따른 고분자 전해질 막을 포함하는 이차전지
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제6항 내지 제9항, 제11항 및 제12항 중 어느 한 항에 따른 스타형 고분자를 포함하는 미생물 부착 방지용 코팅 조성물
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제6항 내지 제9항, 제11항 및 제12항 중 어느 한 항에 따른 스타형 고분자를 포함하는 수처리 막
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하기 단계를 포함하는 스타형 고분자 제조방법으로서:(a) 옥타키스(2-브로모-2-메틸프로피온옥시프로필다이메틸실록시)옥타실세스퀴옥세인을 제조하는 단계,(b) 상기 옥타키스(2-브로모-2-메틸프로피온옥시프로필다이메틸실록시)옥타실세스퀴옥세인을 개시제로 사용하여 하기 화학식 9 내지 12의 스타형 고분자를 중합하는 단계:[화학식 9]상기 식에서 n1'과 n2'는 각각 독립적으로 1-500의 정수이고, m'은 1-24의 정수이며;[화학식 10]상기 식에서 n1'과 n2'는 각각 독립적으로 1-500의 정수이고, m'은 1-24의 정수이며;[화학식 11]상기 식에서 n1'과 n2'는 각각 독립적으로 1-500의 정수이고, m'은 1-24의 정수이며;[화학식 12]상기 식에서 n1'과 n2'는 각각 독립적으로 1-500의 정수이고 , m'은 1-24의 정수이며;상기 화학식 9 내지 12에서 m은 이론적 최대 연결수로서 8이고, 반응에 의해서 실제 연결된 평균 연결수 mavg는 3-8이며;R은 시클로헥실기인 것을 특징으로 하는 스타형 고분자 제조방법
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제17항에 있어서, 상기 (a)단계는(a-1) 옥타키스(3-하이드록시프로필다이메틸실록시)옥타실세스퀴옥세인을 제조하는 단계,(a-2) 옥타키스(2-브로모-2-메틸프로피온옥시프로필다이메틸실록시)옥타실세스퀴옥세인을 제조하는 단계를 거쳐 수행되는 것을 특징으로 하는 스타형 고분자 제조방법
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제17항에 있어서, 상기 (b)단계는 아톰 트랜스퍼 라디칼 중합법을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 스타형 고분자 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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1 WO2012137995 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2012137995 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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