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질소를 포함하는 기공성 구형 탄소에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매, 그 제조방법 및 상기 촉매를 이용한 아세톤 제조방법

  • 기술번호 : KST2015137315
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매, 그 제조방법 및 상기 촉매를 이용한 아세톤의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 질소성분을 포함한 탄소전구체를 구형의 수지로 합성, 열처리 및 환원시켜 제조되며 표면에 아민기(-NR3+ ,상기 R은 수소 또는 C1-C20의 알킬기)를 포함한 기공성 구형 탄소와 헤테로폴리산을 중량비로 1 : 0.01 내지 2범위에서 반응시켜 상기 아민기와 헤테로폴리산이 이온결합 형태로 고정화한 것을 특징으로 하는 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매, 그 제조방법 및 상기 촉매를 이용한 아세톤의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명의 촉매를 이용하여 이소프로판올의 산화반응에 의한 아세톤 제조를 수행하는 경우, 산촉매특성이 억제되고 산화촉매특성이 활성화되어 촉매반응 시 높은 이소프로판올 전환율과 높은 아세톤 선택도를 제공한다. 헤테로폴리산, 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소, 산화반응, 아세톤, 이소프로판올
Int. CL B01J 27/19 (2006.01.01) B01J 27/20 (2006.01.01) B01J 35/08 (2006.01.01) B01J 31/18 (2006.01.01) B01J 37/16 (2006.01.01) B01J 37/08 (2006.01.01)
CPC B01J 27/19(2013.01) B01J 27/19(2013.01) B01J 27/19(2013.01) B01J 27/19(2013.01) B01J 27/19(2013.01) B01J 27/19(2013.01)
출원번호/일자 1020090067620 (2009.07.24)
출원인 서울대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1085524-0000 (2011.11.15)
공개번호/일자 10-2011-0010190 (2011.02.01) 문서열기
공고번호/일자 (20111123) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.07.24)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송인규 대한민국 서울 강남구
2 홍웅기 대한민국 경기도 오산시
3 박동률 대한민국 서울 강서구
4 서정길 대한민국 서울 관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 권용준 대한민국 경기도 화성시 동탄기흥로*** 더퍼스트타워쓰리제**층 제****호, 제****-*호(특허법인다인)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 서울대학교산학협력단 대한민국 서울특별시 관악구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2009-0452425-38
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2009.07.31 수리 (Accepted) 1-1-2009-0470219-51
3 보정요구서
Request for Amendment
2009.08.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2009-0058220-37
4 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)
2009.08.14 수리 (Accepted) 1-1-2009-0494686-11
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2010.06.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2010.07.14 수리 (Accepted) 9-1-2010-0043655-17
7 [복대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Sub-agent] Report on Agent (Representative)
2010.11.02 불수리 (Non-acceptance) 1-1-2010-0713393-89
8 서류반려이유통지서
Notice of Reason for Return of Document
2010.11.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0097508-53
9 서류반려통지서
Notice for Return of Document
2010.12.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0109295-49
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.03.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0172915-14
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.07.12 재발송완료 (Re-dispatched) 9-5-2011-0384890-11
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.07.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0564483-73
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.07.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0564484-18
14 보정요구서
Request for Amendment
2011.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0068999-12
15 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.08.12 수리 (Accepted) 1-1-2011-0625914-14
16 보정요구서
Request for Amendment
2011.08.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2011-0074810-99
17 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2011.08.22 수리 (Accepted) 1-1-2011-0648105-88
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.09.27 수리 (Accepted) 4-1-2011-5195109-43
19 등록결정서
Decision to grant
2011.10.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0635724-72
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2013-5007213-54
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.17 수리 (Accepted) 4-1-2015-5033829-92
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2015-5062924-01
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.13 수리 (Accepted) 4-1-2019-5093546-10
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.05.23 수리 (Accepted) 4-1-2019-5101798-31
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.02 수리 (Accepted) 4-1-2019-5154561-59
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2020-5265458-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
이소프로판올의 산화반응에 의한 아세톤 제조에 사용되며, 질소성분을 포함한 탄소전구체를 구형의 수지로 합성, 열처리 및 환원시켜 제조되며 표면에 아민기(-NR3+ ,상기 R은 수소 또는 C1-C20의 알킬기)를 포함한 기공성 구형 탄소와 헤테로폴리산을 중량비로 1 : 0
2 2
제1항에 있어서, 상기 질소성분을 포함한 탄소전구체는 멜라민-포름알데히드 수지, 폴리피롤, 폴리아닐린 및 폴리티오펜으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매
3 3
제1항에 있어서, 상기 헤테로폴리산 촉매는 케긴(Keggin) 형태 또는 웰스-다우슨 (Wells-Dawsons) 형태의 헤테로폴리산인 12-몰리브도인산(H3PMo12O40), 12-텅스토인산(H3PW12O40), 12-텅스토실리콘산(H4SiW12O40), 12-몰리브도텅스토인산(H3PMo12-xWxO40, x=0-12), 12-몰리브도바나도인산(H3+xPMo12-xVxO40, x=0-12), 12-텅스토바나도인산(H3+xPW12-xVxO40, x=0-12), 18-몰리브도인산(H6P2Mo18O62), 18-텅스토인산(H6P2W18O62), 18-몰리브도텅스토인산(H6P2Mo18-xWxO62, x=0-18), 18-몰리브도바나도인산(H6+xP2Mo18-xVxO62, x=0-18), 18-텅스토바나도인산(H6+xP2W18-xVxO62, x=0-18) 및 18-텅스토니오비움인산(H6+xP2W18-xNbxO62, x=0-18)으로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소 담체에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매
4 4
i)질소성분을 포함한 탄소전구체를 고압 반응기(autoclave)에서 합성하여 구상의 수지를 제조하는 단계; ⅱ)상기 구상의 수지를 열처리하여 질소를 포함한 기공성 구형 탄소를 제조하는 단계; ⅲ)상기 질소를 포함한 기공성 구형 탄소를 환원시켜 표면의 질소를 아민기(-NR3+ ,상기 R은 수소 또는 C1-C20의 알킬기)로 전환하는 단계 및; ⅳ)상기 아민기와 헤테로폴리산을 반응시켜 이온결합 형태로 고정화하는 단계를 포함하는 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매 제조방법
5 5
제4항에 있어서, 상기 헤테로폴리산 촉매는 케긴(Keggin) 형태 또는 웰스-다우슨 (Wells-Dawsons) 형태의 헤테로폴리산인 12-몰리브도인산(H3PMo12O40), 12-텅스토인산(H3PW12O40), 12-텅스토실리콘산(H4SiW12O40), 12-몰리브도텅스토인산(H3PMo12-xWxO40, x=0-12), 12-몰리브도바나도인산(H3+xPMo12-xVxO40, x=0-12), 12-텅스토바나도인산(H3+xPW12-xVxO40, x=0-12), 18-몰리브도인산(H6P2Mo18O62), 18-텅스토인산(H6P2W18O62), 18-몰리브도텅스토인산(H6P2Mo18-xWxO62, x=0-18), 18-몰리브도바나도인산(H6+xP2Mo18-xVxO62, x=0-18), 18-텅스토바나도인산(H6+xP2W18-xVxO62, x=0-18), 18-텅스토니오비움인산(H6+xP2W18-xNbxO62, x=0-18)로 구성된 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매 제조방법
6 6
이소프로판올을 산화 반응시켜 아세톤을 제조하는 아세톤 제조방법에 있어서, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항의 질소를 포함하는 기공성 구형 탄소에 고정화된 헤테로폴리산 담지 촉매 존재 하에 산화 반응을 수행하는 것을 특징으로 하는 이소프로판올의 산화반응에 의한 아세톤 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국과학재단 핵심연구과제 탄소담체에 고정화된 나노구조 헤테로폴리화합물의 촉매화학 및 분자촉매작용