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저면에 형성되는 복수의 제1 관통홀(through-hole);상면에 소정간격으로 형성되되 상기 복수의 제1 관통홀의 형성영역에 관련없이 독립적인 위치 및 관통 넓이를 갖는 복수의 제3 관통홀; 및상기 제1 관통홀의 주변 영역에 상기 제1 관통홀 측 두께에 비하여 두꺼운 두께를 갖도록 형성되어 별도의 지지구조 없이 그 자체로 독립적인 지지구조(free-standing)를 형성하는 지지영역;을 포함하는 고분자 박막
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제1항에 있어서,상기 제1 관통홀의 상면에 형성되는 복수의 제2 관통홀을 더 포함하는 고분자 박막
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제2항에 있어서,상기 제2 관통홀은 상기 제1 관통홀의 횡단면상의 직경에 비하여 작은 횡단면상의 직경을 갖도록 형성되는 고분자 박막
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제2항에 있어서,상기 제3 관통홀은 원형, 다각형 중 어느 하나의 횡단면 형상을 갖는 도트형 홈 또는 일정 길이를 갖는 라인형 홈 중 적어도 어느 하나의 홈으로 형성되는 고분자 박막
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제5항에 있어서,상기 제1 관통홀 및 상기 제2 관통홀은 마이크로 미터 단위의 횡단면상의 직경으로 형성되고, 상기 제3 관통홀은 도트형 홈인 경우의 횡단면 상의 직경과 라인형 홈인 경우의 횡단면 상의 폭이 나노 단위 크기로 형성되는 고분자 박막
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제6항에 있어서,상기 제1 관통홀의 크기는 5㎛ 이하이고, 상기 제1 관통홀이 형성된 부분의 두께는 10㎛ 미만이고, 상기 지지영역이 형성된 부분의 두께는 적어도 10㎛인 고분자 박막
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베이스와, 상기 베이스 상에 구비되는 양각의 패턴들이 형성되는 제1 패턴부를 포함하는 제1 몰드; 및상기 제1 몰드와 마주하는 일면에 상기 제1 패턴부의 형성 범위에 무관하게 양각의 패턴들이 형성되는 제3 패턴부를 포함하는 제2 몰드;를 포함하는 고분자 박막의 제조를 위한 몰드
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제8항에 있어서,상기 제1 몰드는 상기 제1 패턴부 상에 양각으로 형성되는 제2 패턴부가 더 형성되는 고분자 박막의 제조를 위한 몰드
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제9항에 있어서,상기 제3 패턴부에는 원형, 다각형 중 어느 하나의 횡단면 형상을 갖는 도트형 패턴 또는 일정 길이를 갖는 라인형 패턴 중 적어도 어느 하나의 패턴을 포함하는 고분자 박막의 제조를 위한 몰드
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제10항에 있어서,상기 제1 패턴부 및 상기 제2 패턴부에 형성되는 각 패턴의 횡단면 상의 직경은 마이크로 단위의 크기로 형성되는 고분자 박막의 제조를 위한 몰드
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제11항에 있어서,상기 제3 패턴부에 형성되는 도트형 패턴의 횡단면 상의 직경과 라인형 패턴의 횡단면 상의 폭은 나노 단위 크기로 형성되는 고분자 박막의 제조를 위한 몰드
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제9항에 있어서,상기 제1 몰드 및 상기 제2 몰드는 평판형으로 형성되는 고분자 박막의 제조를 위한 몰드
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제9항에 있어서,상기 제1 몰드 및 상기 제2 몰드는 각각의 패턴이 외주면에 형성되는 롤형으로 형성되는 고분자 박막의 제조를 위한 몰드
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청구항 제13항에 기재된 제1 몰드 및 제2 몰드 중 어느 하나의 몰드의 패턴이 형성된 면에 폴리머(polymer)를 도포하는 단계;상기 한 쌍의 몰드 중 적어도 어느 하나의 몰드를 타 몰드측으로 가압하는 단계;상기 폴리머를 경화시키는 단계; 및상기 한 쌍의 몰드를 상기 경화된 폴리머로부터 분리하는 단계;를 포함하는 고분자 박막 제조방법
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제15항에 있어서,상기 경화단계는 상기 제1 몰드에 형성된 양각의 패턴과 상기 제2 몰드에 형성된 양각 패턴이 접촉된 상태에서 상기 폴리머를 경화시키는 고분자 박막 제조방법
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제15항에 있어서,상기 폴리머는 광경화성 폴리머로 이루어지고,상기 경화 단계에서는 상기 폴리머에 광을 조사하여 경화시키는 고분자 박막 제조방법
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제17항에 있어서,상기 광은 자외선인 고분자 박막 제조방법
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제15항에 있어서,상기 제1 몰드 및 제2 몰드는 친수성(hydrophile property) 재료로 형성되고, 상기 폴리머는 소수성(hydrophobic property) 재료로 형성되는 고분자 박막 제조방법
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제15항에 있어서,상기 제1 몰드 및 제2 몰드는 소수성(hydrophobic property) 재료로 형성되고, 상기 경화성 폴리머는 친수성(hydrophile property) 재료로 형성되는 고분자 박막 제조방법
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