| 요약 |
본 발명은 다음 일반 화학반응식(I)과 같이 R＋H2SO4← →RSO3H＋H20 ……………………………(I)「식(I)에서 R은 벤젠, 톨루엔, 에틸벤젠, 키실렌, 디에틸벤젠, 페놀, 크레졸, 키실렌올, 클로로페놀, 메톡시벤젠, 디히드록시벤젠, 나프탈렌, 메틸나프탈렌, 클로르나프톨, 나프톨, 안트라센, 아닐린, 나프틸아민, 아미노페놀, 톨루이딘, 니트로벤젠, 디에틸벤젠, 디부틸아민, 키놀린, 트리아릴아민, 메틸나프탈렌, 도데칸, 디헥실아민 등임」방향족 탄화수소 화합물과 황산을 반응시켜 방향족 탄화수소 화합물에 술폰화시킴을 통하여 방향족 술폰산을 제조함에 있어서, 방향족 탄화수소를 증류탑형 반응기의 탑중앙으로 공급하고, 황산을 분할(다수개의 공급구를 통하여) 연속공급하여 화학량론적으로 Ke=식에 「Ke는 반응평형상수 R은 식(I)에서와 같음」이론상 알맞는 범위내에서(적정한 온도와 압력하) 반응시키되 항상 황산이 부족한 상태하에서 과량으로 존재하는 방향족 탄화수소를 술폰화시키며 이때 반응 생성품인 방향족 술폰산의 농도가 작아지게 함으로서 화학반응이 일어남과 거의 동시에 증류·분리·정제가 이루어지도록 탑정에서 나오는 기체를 응축하여 상분리기에서 물을 제거하고 이를 다시 반응탑으로 환류시키며 탑하부에 정제영역을 두어 생성된 방향족 술폰산을 고순도로 정제하는 것을 특징으로 하는 방향족 술폰산의 신규한 연속제조방법 및 그 새로운 제조장치에 관한 것이다.
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