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슬폰산기 함유 고효율 킬레이트 수지

  • 기술번호 : KST2015138217
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 슬폰산기 함유 고효율 킬레이트 수지에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 킬레이트 수지가 물리·화학적으로 매우 안정하고 기계적 강도가 우수한 구조를 갖도록 스티렌, 메틸메타크릴레이트, 디비닐벤젠을 원료로 하는 공중합체를 합성하고, 스티렌과 메틸메타크릴레이트 단위구조마다 슬폰산기가 각기 도입되어 있으며, 공간자(spacer)로 벤젠구조를 일부 활용하여 주쇄 및 측쇄로 도입된 슬폰산기가 서로 요철(凹凸)구조의 배열을 이루도록하여 슬폰산 관능기만으로도 특정 중금속이온에 대한 흡착력이 향상되도록 하는 슬폰산기 함유 고효율 킬레이트 수지에 관한 것이다.중금속이온 흡착, 킬레이트수지, 슬폰산기
Int. CL C08F 8/34 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020000051185 (2000.08.31)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0402052-0000 (2003.10.02)
공개번호/일자 10-2002-0017694 (2002.03.07) 문서열기
공고번호/일자 (20031017) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.08.31)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박인환 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허상훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, 우리종합금융빌딩 **층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2000-0184071-83
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0007135-37
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.06.17 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056808-28
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056800-64
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.07.18 수리 (Accepted) 9-1-2002-0012053-50
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2002.12.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0456805-62
8 대리인 선임 신고서
Notification of assignment of agent		 2003.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2003-0002370-10
9 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2003.01.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2003-0002373-57
10 의견서
Written Opinion		 2003.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2003-0002374-03
11 등록결정서
Decision to grant		 2003.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2003-0327359-42
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

다음 화학식 1로 표시되는 것임을 특징으로 하는 슬폰산기 함유 고효율 킬레이트 수지

2 2

(1) 스티렌, 메틸메타크릴레이트 및 디비닐벤젠을 현탁공중합 반응하여 다음 화학식 2로 표시되는 구상(球狀)형의 공중합체를 제조하고,

(2) 얻어진 상기 화학식 2로 표시되는 공중합체와 보론하이드라이드, 염화아연 및 N,N'-디메틸아니린을 반응시켜 다음 화학식 3으로 표시되는 히드록시메틸기 함유 공중합체를 제조하고,

(3) 상기 화학식 3으로 표시되는 히드록시메틸기 함유 공중합체를 피리딘 및 치오닐클로라이드와 반응시켜 다음 화학식 4로 표시되는 클로로메틸기 함유 공중합체를 제조하고,

(4) 상기 화학식 4로 표시되는 클로로메틸기 함유 공중합체와 소디움 설파이트를 반응시켜 클로로메틸기 부분에 슬폰산기를 도입한 후에, 이어서 SO3 가스를 주입하여 공중합체의 페닐환에 슬폰산기를 도입하여 다음 화학식 1로 표시되는 중금속이온 흡착용 슬폰산기 함유 킬레이트수지를 제조하는 과정이 포함된 것을 특징으로 하는 슬폰산기 함유 킬레이트수지의 제조방법 :

화학식 2

3

제 2 항에 있어서, 상기 화학식 4로 표시되는 클로로메틸기 함유 공중합체의 클로로메틸기 부분에 슬폰산기를 도입하는 반응은 톨루엔-메탄올-물의 3성분 용매내에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법

4 4

제 2 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 화학식 4로 표시되는 클로로메틸기 함유 공중합체의 클로로메틸기 부분에 슬폰산기를 도입하는 반응은 60 ∼ 110 ℃에서에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법

5 5

제 2 항에 있어서, 상기 SO3 가스를 주입하는 반응은 40 ∼ 60 ℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.