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균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015138258
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 특정 몰비의 메틸트리알콕시실란과 다이메틸다이알콕시실란의 혼합용액을 열처리하여 리간드 교환 반응된 알콕시실란 화합물을 얻은 후, THF와 톨루엔의 혼합용매를 사용하여 졸-겔 반응시키고 암모니아수로 중화함으로써, 다이메틸실록산 분자 하나 하나가 메틸실록산 골격에 분자 수준으로 균일하게 분산된 새로운 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 방법으로 제조된 공중합체는 내열성이 매우 우수하고 메틸기의 함량증가로 유연성이 기대되어 SOG(Spin On Glass) 및 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공정을 거치는 매우 낮은 저 유전율 값을 요구하는 반도체의 층간 절연막 재료의 모재로서 사용될 수 있다.폴리메틸실세스퀴옥산, 저 유전, 층간 절연막 재료
Int. CL C08G 77/06 (2006.01)
CPC C08G 77/06(2013.01) C08G 77/06(2013.01)
출원번호/일자 1020000042165 (2000.07.22)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0343552-0000 (2002.06.25)
공개번호/일자 10-2002-0009018 (2002.02.01) 문서열기
공고번호/일자 (20020720) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2000.07.22)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 석상일 대한민국 대전광역시유성구
2 진문영 대한민국 대전광역시유성구
3 이창진 대한민국 대전광역시유성구
4 강영구 대한민국 대전광역시유성구
5 이정훈 대한민국 서울특별시강북구
6 서태수 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허상훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, 우리종합금융빌딩 **층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2000.07.22 수리 (Accepted) 1-1-2000-0153249-97
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0007135-37
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2002.04.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2002.05.20 수리 (Accepted) 9-1-2002-0004775-63
5 등록결정서
Decision to grant		 2002.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0178786-38
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056800-64
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056808-28
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
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번호 청구항
1 1

다이메틸실록산기가 일부 도입된 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체를 제조하는 방법에 있어서,

메틸트리알콕시실란:다이메틸다이알콕시실란이 0

2 2

제 1 항에 있어서, 상기 메틸트리알콕시실란이 메틸트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실란 및 메틸트리프로폭시실란 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법

3 3

제 1 항에 있어서, 상기 다이메틸다이알콕시실란이 다이메틸다이메톡시실란 및 다이메틸다이에톡시실란 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법

4 4

제 1 항에 있어서, 상기 산으로는 유기산 또는 무기산을 사용하는 것을 특징으로 하는 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체의 제조방법

5 5

상기 청구항 1의 방법으로 제조되어 메틸실록산 골격에 다이메틸실록산이 하나 하나의 단일 단위로 분산 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 균일하게 분산된 다이메틸실록산을 포함하는 폴리메틸실세스퀴옥산 공중합체

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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.