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내부진입형 대전방지성 조성물과 그 제조방법 및 이를이용한 대전방지성 필름

  • 기술번호 : KST2015138357
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 내부진입형 대전방지성 조성물과 그 제조방법 및 이를 이용한 대전방지성 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 불소화합물, 실리콘화합물, 금속화합물 및 친수성 계면활성제를 일정량 함유시켜 열안정성, 내구성, 대전방지성능 등을 개선한 내부진입형 대전방지성 조성물과 그 제조방법에 관한 것이며, 또한 합성수지재 필름 제조시 특히 반도체, 의료용 기기, 초정밀 부품 등의 포장재 제조시 상기 내부진입형 대전방지성 조성물을 일정량 첨가하여 성형가공함으로써 대전방지성능, 투명성, 방오성, 내구성 등을 개선한 대전방지성 필름에 관한 것이다.내부진입형 대전방지성 조성물, 과불소기, 내구성
Int. CL C08K 3/10 (2006.01)
CPC C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01) C08K 3/10(2013.01)
출원번호/일자 1020020016498 (2002.03.26)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0454100-0000 (2004.10.13)
공개번호/일자 10-2003-0077676 (2003.10.04) 문서열기
공고번호/일자 (20041026) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.03.26)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김동권 대한민국 대전광역시유성구
2 이수복 대한민국 대전광역시 서구
3 박인준 대한민국 대전광역시대덕구
4 하종욱 대한민국 대전광역시유성구
5 이광원 대한민국 대전광역시유성구
6 김정훈 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2002.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2002-0089031-85
2 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.03.27 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2002-0090276-88
3 보정통지서
Request for Amendment		 2002.04.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2002-0022718-22
4 서지사항 보정서
Amendment to Bibliographic items		 2002.04.08 수리 (Accepted) 1-1-2002-0104060-07
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056800-64
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056808-28
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.01.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.02.13 수리 (Accepted) 9-1-2004-0008242-13
9 대리인 변경 신고서
Agent change Notification		 2004.03.04 수리 (Accepted) 1-1-2004-0090928-17
10 등록결정서
Decision to grant		 2004.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0354894-14
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

내부진입형 대전방지성 조성물에 있어서, 불소화합물 1 ∼ 20 중량%, 실리콘화합물 1 ∼ 30 중량%, 금속화합물 5 ∼ 40 중량% 및 친수성 계면활성제 10 ∼ 60 중량%가 함유된 것임을 특징으로 하는 내부진입형 대전방지성 조성물

2 2

제 1 항에 있어서, 상기 불소화합물은 과불소알킬기 함유 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 내부진입형 대전방지성 조성물

3 3

제 2 항에 있어서, 상기 과불소알킬기는 탄소수가 4 ∼ 12인 것임을 특징으로 하는 내부진입형 대전방지성 조성물

4 4

제 1 항에 있어서, 상기 실리콘화합물은 실리콘기 함유 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 내부진입형 대전방지성 조성물

5 5

제 1 항에 있어서, 상기 금속화합물은 염화마그네슘, 염화알루미늄, 염화칼슘, 염화철, 염화구리, 붕산, 산화붕소, 질화붕소 및 탄화붕소 중에서 선택된 하나 이상인 것임을 특징으로 하는 내부진입형 대전방지성 조성물

6 6

제 1 항에 있어서, 상기 친수성 계면활성제는 글리세린계, 에틸렌 옥사이드계, 폴리에틸렌 글리콜계, 폴리프로필렌 글리콜계 및 소르비탄 (sorbitan)계 중에서 선택되는 것임을 특징으로 하는 내부진입형 대전방지성 조성물

7 7

내부진입형 대전방지성 조성물 제조방법에 있어서,

(1) 금속화합물을 친수성 용매에 용해시키는 단계;

(2) 상기 금속화합물이 용해된 용액에 불소화합물 및 실리콘화합물을 첨가하여 50 ∼ 120 ℃에서 반응시키는 단계; 및

(3) 상기 용액에 친수성 계면활성제를 첨가한 후, pH를 7 ∼ 9로 유지하면서 친수성 용매를 제거하는 단계

를 포함하는 내부진입형 대전방지성 조성물의 제조방법

8 8

합성수지재 필름 성형용 조성물에 내부진입형 대전방지성 조성물이 함유된 대전방지성 필름에 있어서, 청구항 1 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 따른 내부진입형 대전방지성 조성물이 0

9 9

제 8 항에 있어서, 상기 대전방지성 필름의 표면저항이 107 ∼ 109 Ω인 것을 특징으로 하는 대전방지성 필름

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.