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하기 화학식 (5a)로 표시되는 것임을 특징으로 하는 2,2-디메틸-3-에스테르-4-알콕시-6-알킬 아미노 벤조피란 유도체
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디메틸술폭사이드 또는 테트라하이드로퓨란의 반응용매, 리튬 t-부톡사이드의 염기, 및 R1-X(이때, X는 할로겐)로 표시되는 친전자체를 사용하는 조건에서, 하기 화학식 (1)로 표시되는 카바메이트 링커로 연결된 벤조피란의 질소원자에 선택적으로 R1 치환기의 도입반응을 수행하여 하기 화학식 (2)로 표시되는 N-알킬 치환된 카바메이트 레진을 합성하는 과정; 디클로로메탄 용매를 사용하는 조건에서, 하기 화학식 (2)로 표시되는 화합물에 메타-클로로과벤조산(m-CPBA)과 알코올을 투입하여 에폭시화 반응과 알콕시 부가반응을 동시에 수행하여 하기 화학식 (3)으로 표시되는 2,2-디메틸-3-하이드록시-6-알킬 아미노 벤조피란 레진을 합성하는 과정; 디클로로메탄 용매를 사용하는 조건에서, 하기 화학식 (3)으로 표시되는 화합물의 3-하이드록시기에 R3기를 포함하는 카르보닐 할라이드 화합물 중에서 선택된 친전자체를 반응시켜 하기 화학식 (4)로 표시되는 2,2-디메틸-3-에스테르-4-알콕시-6-알킬 아미노 벤조피란 레진을 합성하는 과정; 그리고 하기 화학식 (4)로 표시되는 화합물을 트리플루오로아세트산(TFA)을 포함하는 디클로로메탄 용액을 사용하여 탈리하여 하기 화학식 (5)로 표시되는 2,2-디메틸-3-에스테르-4-알콕시-6-알킬 아미노 벤조피란 유도체를 합성하는 과정이 포함되는 것을 특징으로 하는 제조방법 :상기에서, R1 및 R2는 각각 상기 청구항 1에서 정의한 바와 같고, R3은 C1∼C10의 포화, 불포화 또는 고리형 알킬기, 페닐기, 치환된 페닐기, 또는 산소 및 황원자 중에서 선택된 헤테로원자를 포함하는 5원 내지 7원의 헤테로고리를 나타내고, 이때 치환된 페닐기는 할로겐원자, 니트로기, C1∼C10의 알킬기, C1∼C10의 알콕시기 및 C1∼C10의 할로알킬기 중에서 선택된 치환체가 1 내지 4개 치환된 페닐기를 나타내고, ⓟ는 폴리스티렌-디비닐벤젠, 메타아크릴산-디메틸아크릴아미드 및 하이드록시 메타아크릴산 중에서 선택된 고분자 중합체 형태의 고체 지지체를 나타낸다
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하기 화학식 (4)로 표시되는 것임을 특징으로 하는 2,2-디메틸-3-에스테르-4-알콕시-6-알킬 아미노 벤조피란류의 카바메이트 레진 :[화학식 4]상기 화학식 (4)에서, R1, R2, R3 및 ⓟ는 각각 상기 청구항 2에서 정의한 바와 같다
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하기 화학식 (5)로 표시되는 2,2-디메틸-3-에스테르-4-알콕시-6-알킬 아미노 벤조피란 유도체가 함유되어 있어 지질 과산화 억제활성을 가지는 것임을 특징으로 하는 뇌신경 질환 예방 및 치료제 :상기 화학식 (5)에서, R1은 C1∼C10의 포화, 불포화 또는 고리형 알킬기, 벤질기 또는 치환된 벤질기를 나타내며, R2는 C1∼C10의 포화, 불포화 또는 고리형 알킬기, 벤질기, 치환된 벤질기, 또는 펜에틸기를 나타내며, R3은 C1∼C10의 포화, 불포화 또는 고리형 알킬기, 페닐기, 치환된 페닐기, 또는 산소 및 황원자 중에서 선택된 헤테로원자를 포함하는 5원 내지 7원의 헤테로고리를 나타내고, 이때 치환된 페닐기는 할로겐원자, 니트로기, C1∼C10의 알킬기, C1∼C10의 알콕시기 및 C1∼C10의 할로알킬기 중에서 선택된 치환체가 1 내지 4개 치환된 페닐기를 나타낸다
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