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광학활성 (Ｒ)-2-페녹시프로피온산 유도체의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015138552
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광학활성 (R)-2-페녹시프로피온산 유도체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 p-치환된 페놀 유도체와 알킬 (S)-2-아릴술포닐옥시프로피오네이트를 반응 원료물질로 사용하고, 이를 알칼리금속염 염기와 탄화수소 용매 존재 하에서 60 ∼ 100 ℃ 온도로 반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 광학활성 (R)-2-페녹시프로피온산 유도체를 고순도로 제조하는 방법에 관한 것이다.상기 화학식 1에서, A는 벤조일옥시(BzO)기, 아세톡시(AcO)기, p-톨루엔술포닐옥시(p-TsO)기, 또는 C1-C6의 지방족 아실기를 나타내고; R은 C1-C6의 알킬기를 나타낸다. 광학활성, p-(p-톨루엔술포닐옥시)페놀, p-아실페놀, p-벤조일옥시페놀, p-아세톡시페놀, 알킬 (S)-2-(p-톨루엔술포닐옥시)프로피오네이트, (R)-2-(p-아세틸페녹시)프로피온산(에스터), (R)-2-(p-아세틸옥시페녹시)프로피온산(에스터), (R)-2-(p-하이드록시페녹시)프로피온산(에스터)
Int. CL C07C 69/736 (2006.01) C07C 67/40 (2006.01)
CPC C07C 67/11(2013.01) C07C 67/11(2013.01) C07C 67/11(2013.01) C07C 67/11(2013.01)
출원번호/일자 1020040047240 (2004.06.23)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0597259-0000 (2006.06.28)
공개번호/일자 10-2005-0122087 (2005.12.28) 문서열기
공고번호/일자 (20060706) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2004.06.23)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김대황 대한민국 대전광역시 유성구
2 정근회 대한민국 대전광역시 유성구
3 장해성 대한민국 대전광역시 유성구
4 고영관 대한민국 대전광역시 유성구
5 류재욱 대한민국 대전광역시 유성구
6 우재춘 대한민국 대전광역시 서구
7 구동완 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2004.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2004-0272509-14
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.01.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0017957-12
3 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2006.03.13 수리 (Accepted) 1-1-2006-0175713-04
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.04.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0254661-04
5 의견서
Written Opinion		 2006.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2006-0254662-49
6 등록결정서
Decision to grant		 2006.06.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0354535-18
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 화학식 2로 표시되는 p-치환된 페놀 유도체와 다음 화학식 3으로 표시되는 알킬 (S)-2-아릴술포닐옥시프로피오네이트를 무기염기 존재하에서 반응시켜 다음 화학식 1로 표시되는 광학활성 (R)-2-페녹시프로피온산 유도체를 제조하는 방법에 있어서,상기 반응은 노말헥산, 사이클로헥산 및 자일렌 중에서 선택된 탄화수소 용매와 탄산칼륨 염기를 사용하여 60 ∼ 100 ℃ 온도 조건에서 수행하는 것을 특징으로 하는 제조방법 :상기 반응식에서, A는 벤조일옥시(BzO)기, 아세톡시(AcO)기, p-톨루엔술포닐옥시(p-TsO)기, 또는 C1-C6의 지방족 아실기를 나타내고; R은 C1-C6의 알킬기를 나타내고; Y는 아릴술포닐옥시기를 나타낸다
2 2
삭제
3 3
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4 4
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5 5
삭제
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 용매로는 사이클로헥산을 사용하고, 상기 염기로는 탄산칼륨을 사용하여 65 ∼ 85 ℃의 온도로 반응시키는 것을 특징으로 하는 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 WO2006001562 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2006001562 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.