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상호침투 고분자 그물구조를 갖는 연료전지용 동시가교-이미드 고분자 전해질막과 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015138727
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 상호침투 고분자 그물구조를 갖는 연료전지용 동시 가교-이미드 고분자 전해질막과 이의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 말레인산 단량체와 이중결합을 1개 이상 포함하는 중합성 단량체를 공중합한 폴리아믹산을 중합하고, 상기 폴리아믹산 단독 또는 특정의 고분자를 방향족 디아민과 이미드화 반응시키는 동시 가교 및 이미드화 과정으로, 상호침투 고분자 그물구조(interpenetrating polymer networks)를 형성하여 고온특성과 우수한 양성자 전달 기능, 수소, 메탄올, 디메틸에테르 등의 연료이용 시 낮은 투과도를 나타내는 연료전지용 동시 가교-이미드 고분자 전해질막과 이의 제조방법에 관한 것이다.상호침투 고분자 그물구조, 동시 가교-이미드 구조, 내열성 고분자, 연료전지, 고분자 전해질막
Int. CL H01M 8/10 (2010.01)
CPC H01M 8/1065(2013.01) H01M 8/1065(2013.01) H01M 8/1065(2013.01)
출원번호/일자 1020060065116 (2006.07.11)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0750290-0000 (2007.08.10)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20070820) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.07.11)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이규호 대한민국 대전광역시 유성구
2 김상균 대한민국 대전 유성구
3 남승은 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.07.11 수리 (Accepted) 1-1-2006-0496284-03
2 등록결정서
Decision to grant
2007.06.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0310159-79
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다음 화학식 1의 반복단위를 갖는 고분자(1)와, 다음 화학식 2의 반복단위를 갖는 고분자(2) 또는 폴리비닐디플로라이드, 술폰화된 폴리비닐디플로라이드, 아민화된 폴리비닐디플로라이드, 카르복실화된 폴리비닐디플로라이드, 이미다졸화된 폴리비닐디플로라이드, 폴리설폰, 술폰화된 폴리설폰, 아민화된 폴리설폰, 카르복실화된 폴리설폰, 이미다졸화된 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 술폰화된 폴리에테르설폰, 아민화된 폴리에테르설폰, 카르복실화된 폴리에테르설폰, 이미다졸화된 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 술폰화된 폴리이미드, 아민화된 폴리이미드, 카르복실화된 폴리이미드, 이미다졸화된 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 술폰화된 폴리에테르이미드, 아민화된 폴리에테르이미드, 카르복실화된 폴리에테르이미드, 이미다졸화된 폴리에테르이미드, 폴리케톤, 술폰화된 폴리케톤, 아민화된 폴리케톤, 카르복실화된 폴리케톤, 이미다졸화된 폴리케톤, 폴리에테르케톤, 술폰화된 폴리에테르케톤, 아민화된 폴리에테르케톤, 카르복실화된 폴리에테르케톤, 이미다졸화된 폴리에테르케톤, 폴리비닐술폰산, 폴리아크릴산, 폴리이미다졸, 폴리벤즈이미다졸 및 과불소계 고분자 중에서 선택된 고분자 화합물이상호침투 그물구조 형태로 동시 가교-이미드 결합된 것임을 특징으로 하는 고분자 전해질막 :[화학식 1][화학식 2]상기 화학식 1 및 2에서, 상기 A1 및 A2는 이중결합을 1개 이상 포함하는 중합성 단량체이고; 은 술폰산기를 1개 이상 갖는 방향족 2가 고리기이고;n 및 m은 0
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 A1 및 A2는 스티렌, 탄소수 1 ∼ 8의 직쇄 또는 분쇄형 알킬렌, 메틸 비닐 에테르, 부분 2-부틸/메틸 혼합 에스테르 스티렌, 부분 이소부틸 에스테르 스티렌, 부분 이소부틸/메틸 혼합 에스테르 스티렌 및 술폰산 스티렌 중에서 선택된 것이고, 상기은 , , , ,,, ,,중에서 선택된 술폰산기가 1개 이상 갖는 방향족 2가기이고, 상기 고분자 화합물은 폴리비닐디플로라이드, 술폰화된 폴리비닐디플로라이드, 아민화된 폴리비닐디플로라이드, 카르복실화된 폴리비닐디플로라이드, 이미다졸화된 폴리비닐디플로라이드이며,상기 n 및 m은 0
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 A1의 중합성 단량체는 스티렌 또는 탄소수 1 ∼ 6의 직쇄 또는 분쇄형 알킬렌이고, 상기은 , , 중에서 선택된 술폰산기가 1개 이상 갖는 방향족 2가기이고, 상기 고분자 화합물은 폴리비닐디플로라이드이며,상기 n 및 m은 0
4 4
다음의 제조과정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질막의 제조방법 :말레인산 단량체와, 이중결합을 1개 이상 포함하는 중합성 단량체를 공중합하여 다음 화학식 3로 표시되는 폴리아믹산을 중합하는 과정과;[화학식 3]상기 화학식 3에서, A1, n 및 m은 각각 상기 청구항 1에서 정의된 바와 같다,상기 화학식 3로 표시되는 폴리아믹산과, 폴리비닐디플로라이드, 술폰화된 폴리비닐디플로라이드, 아민화된 폴리비닐디플로라이드, 카르복실화된 폴리비닐디플로라이드, 이미다졸화된 폴리비닐디플로라이드, 폴리설폰, 술폰화된 폴리설폰, 아민화된 폴리설폰, 카르복실화된 폴리설폰, 이미다졸화된 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 술폰화된 폴리에테르설폰, 아민화된 폴리에테르설폰, 카르복실화된 폴리에테르설폰, 이미다졸화된 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 술폰화된 폴리이미드, 아민화된 폴리이미드, 카르복실화된 폴리이미드, 이미다졸화된 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 술폰화된 폴리에테르이미드, 아민화된 폴리에테르이미드, 카르복실화된 폴리에테르이미드, 이미다졸화된 폴리에테르이미드, 폴리케톤, 술폰화된 폴리케톤, 아민화된 폴리케톤, 카르복실화된 폴리케톤, 이미다졸화된 폴리케톤, 폴리에테르케톤, 술폰화된 폴리에테르케톤, 아민화된 폴리에테르케톤, 카르복실화된 폴리에테르케톤, 이미다졸화된 폴리에테르케톤, 폴리비닐술폰산, 폴리아크릴산, 폴리이미다졸, 폴리벤즈이미다졸 및 과불소계 고분자 중에서 선택된 고분자 화합물 및 다음 화학식 5 표시되는 방향족 디아민을 이미드화 반응시켜다음 화학식 1의 반복단위를 갖는 고분자(1)와, 다음 화학식 2의 반복단위를 갖는 고분자(2) 또는 고분자 화합물이 상호침투 그물구조 형태로 동시 가교-이미드 결합된 고분자 전해질막을 제조하는 과정;[화학식 5] [화학식 1][화학식 2]상기 화학식 1, 2 및 5에서, A1, A2, n 및 m은 각각 상기 청구항 1에서 정의된 바와 같다
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패밀리정보가 없습니다
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