맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

베타아미노기를 갖는 1,2,5-트리아제판 유도체, 이의약학적으로 허용 가능한 염 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015138729
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 하기 화학식 1로 표시되는, 베타아미노기를 갖는 1,2,5-트리아제판 유도체 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염이 제공된다. 이 1,2,5-트리아제판 유도체는 DPP-IV의 활성을 억제하여, DPP-IV에 의해 매개되는 각종 질환을 치료하는데 유용하다. [화학식 1] 상기 식에서, R1, R2 및 R3은 명세서에 정의되는 바와 같다. 1,2,5-트리아제판 유도체, DPP-IV, 제조 방법, 약학 조성물
Int. CL C07D 255/02 (2006.01) A61P 3/00 (2006.01)
CPC C07D 255/02(2013.01) C07D 255/02(2013.01) C07D 255/02(2013.01)
출원번호/일자 1020060066812 (2006.07.18)
출원인 한국화학연구원, 영진약품공업주식회사
등록번호/일자 10-0848490-0000 (2008.07.21)
공개번호/일자 10-2008-0007764 (2008.01.23) 문서열기
공고번호/일자 (20080728) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.07.18)
심사청구항수 9

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 영진약품 주식회사 대한민국 서울특별시 송파구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 김성수 대한민국 대전광역시 유성구
2 천혜경 대한민국 대전광역시 유성구
3 이상달 대한민국 대전 서구
4 안진희 대한민국 대전광역시 유성구
5 김기영 대한민국 대전 대덕구
6 강남숙 대한민국 대전광역시 유성구
7 강승규 대한민국 대전광역시 서구
8 정원훈 대한민국 대전광역시 동구
9 김성규 대한민국 대전광역시 중구
10 김선영 대한민국 대전 유성구
11 권재홍 대한민국 경기도 수원시 장안구
12 손상권 대한민국 경기 수원시 장안구
13 신민기 대한민국 경기도 용인시 수지구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인아주 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 영진약품 주식회사 대한민국 서울특별시 송파구
2 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2006.07.18 수리 (Accepted) 1-1-2006-0507939-58
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2007.03.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2007.04.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0021516-82
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2007.07.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0408646-12
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2007.09.21 수리 (Accepted) 1-1-2007-0686181-90
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2007.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2007-0768588-69
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2007.10.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0768587-13
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2008.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0050577-53
9 명세서 등 보정서(심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2008.02.29 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2008-0008273-08
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2008.04.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0191178-67
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2008.06.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0396286-40
14 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2008.06.02 수리 (Accepted) 1-1-2008-0396287-96
15 등록결정서
Decision to grant		 2008.07.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0351816-08
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.04.06 수리 (Accepted) 4-1-2015-5044653-11
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.06.29 수리 (Accepted) 4-1-2017-5102475-09
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 1로 표시되는, 베타아미노기를 갖는 1,2,5-트리아제판 유도체 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염:[화학식 1] 상기 식에서, R1은 또는 이고; R2는 수소, C1-6 알킬, 또는 이고; R3은 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, , , CH2CO2Rb, COCO2Rb, 피라진 또는 이고; Ra는 하나 또는 그 이상으로 될 수 있고, 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐이고; Rb 및 Rc는 각각 독립적으로 수소, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고; Rd는 C1-6 알킬, 트리플루오르메틸,또는 이고; Re는 또는 이고; Rf는 수소, 할로겐, NRbRc, , , , , 테트라졸 또는 프롤린이고; A는 CH, N, O 또는 S이고; B는 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, 벤질 또는 CO2Rd 이고; X는 O 또는 S이고; 헤테로아릴은 벤조옥사졸릴 또는 티아디아졸릴이고; n은 0 또는 1의 정수이다
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, Ra는 하나 또는 그 이상의 할로겐인 1,2,5-트리아제판 유도체 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서, R2는 또는 이고; X는 O 또는 S; Rd는 페닐, 피리딘 또는 메틸; Rf는 수소, 염소, , , , , , , , , , , , , 또는 인 1,2,5-트리아제판 유도체 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염
6 6
제 1 항, 제 3 항 및 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 아미노기 및 R1이 결합된 입체 중심이 R 배위인 1,2,5-트리아제판 유도체 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염
7 7
제 1 항, 제 3 항 및 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 염산염, 황산염, 아세트산염, 트리플루오로아세트산염, 인산염, 푸마르산염, 말레산염, 시트르산염, 메탄 술폰산염 또는 락트산염이 부가된 1,2,5-트리아제판 유도체 또는 이의 약학적으로 허용 가능한 염
8 8
하기 화학식 2의 아미노산과 화학식 3의 1,2,5-트리아제판을 축합 반응시켜 하기 화학식 4의 화합물을 생성하는 단계; R2로 치환된 친전자체 화합물을 화학식 4의 화합물과 반응시켜 하기 화학식 5의 화합물을 생성하는 단계; 및 화학식 5의 화합물을 탈보호화하는 단계를 포함하는 하기 화학식 1의 1,2,5-트리아제판 유도체의 제조 방법 :[반응식 1] 상기 식에서, BOC는 보호기를 나타내고; R1은 또는 이고; R2는 수소, C1-6 알킬, 또는 이고; R3은 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, , , CH2CO2Rb, COCO2Rb, 피라진 또는 이고; Ra는 하나 또는 그 이상으로 될 수 있고, 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐이고; Rb 및 Rc는 각각 독립적으로 수소, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고; Rd는 C1-6 알킬, 트리플루오르메틸,또는 이고; Re는 또는 이고; Rf는 수소, 할로겐, NRbRc, , , , , 테트라졸 또는 프롤린이고; A는 CH, N, O 또는 S이고; B는 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, 벤질 또는 CO2Rd 이고; X는 O 또는 S이고; 헤테로아릴은 벤조옥사졸릴 또는 티아디아졸릴이고; n은 0 또는 1의 정수이다
9 9
하기 화학식 4의 화합물을 클로로아세틸 클로라이드와 반응시켜 하기 화학식 6의 화합물을 생성하는 단계; 화학식 6의 화합물을 R2로 치환된 친핵체 화합물과 반응시켜 하기 화학식 5의 화합물을 생성하는 단계; 및 화학식 5의 화합물을 탈보호화하는 단계를 포함하는 하기 화학식 1의 고리화된 1,2,5-트리아제판 유도체의 제조 방법 :[반응식 2] 상기 식에서, BOC는 보호기를 나타내고; R1은 또는 이고; R2는 수소, C1-6 알킬, 또는 이고; R3은 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, , , CH2CO2Rb, COCO2Rb, 피라진 또는 이고; Ra는 하나 또는 그 이상으로 될 수 있고, 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐이고; Rb 및 Rc는 각각 독립적으로 수소, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고; Rd는 C1-6 알킬, 트리플루오르메틸,또는 이고; Re는 또는 이고; Rf는 수소, 할로겐, NRbRc, , , , , 테트라졸 또는 프롤린이고; A는 CH, N, O 또는 S이고; B는 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, 벤질 또는 CO2Rd 이고; X는 O 또는 S이고; 헤테로아릴은 벤조옥사졸릴 또는 티아디아졸릴이고; n은 0 또는 1의 정수이다
10 10
하기 화학식 2의 아미노산과 화학식 7의 화합물을 축합 반응시켜 하기 화학식 5의 화합물을 생성하는 단계; 및 화학식 5의 화합물을 탈보호화하는 단계를 포함하는 하기 화학식 1의 1,2,5-트리아제판 유도체의 제조 방법 :[반응식 3] 상기 식에서, BOC는 보호기를 나타내고; R1은 또는 이고; R2는 수소, C1-6 알킬, 또는 이고; R3은 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, , , CH2CO2Rb, COCO2Rb, 피라진 또는 이고; Ra는 하나 또는 그 이상으로 될 수 있고, 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐이고; Rb 및 Rc는 각각 독립적으로 수소, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고; Rd는 C1-6 알킬, 트리플루오르메틸,또는 이고; Re는 또는 이고; Rf는 수소, 할로겐, NRbRc, , , , , 테트라졸 또는 프롤린이고; A는 CH, N, O 또는 S이고; B는 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, 벤질 또는 CO2Rd 이고; X는 O 또는 S이고; 헤테로아릴은 벤조옥사졸릴 또는 티아디아졸릴이고; n은 0 또는 1의 정수이다
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 화학식 4의 화합물은 하기 화학식 2의 아미노산과 화학식 3의 1,2,5-트리아제판을 축합 반응시켜 생성하는 1,2,5-트리아제판 유도체의 제조 방법 :[반응식 5] 상기 식에서 BOC는 보호기를 나타내고; Rl은 또는 이고, R3는 수소, C1-6 알킬, C3-6 사이클로알킬, , , CH2CO2Rb, COCO2Rb, 피라진 또는 이고; Ra는 하나 또는 그 이상으로 될 수 있고, 각각 독립적으로 수소 또는 할로겐 이고; Rb 독립적으로 수소, C1-6 알킬 또는 C3-6 사이클로알킬이고; Rd는 C1-6알킬, 트리플루오르메틸, 또는 이고; Re는 또는 이다
12 12
삭제
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.