| 1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 하프늄 알콕사이드 화합물:
[화학식 1]
Hf(OCR1R2R3)4
[상기 화학식 1에서 R1 및 R2는 독립적으로 C1-C5의 선형 또는 분지형 알킬기이고, R3는 C2-C5의 선형 알케닐 혹은 알키닐기다
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서,
상기 R1 및 R2는 독립적으로 CH3, C2H5, CH(CH3)2 또는 C(CH3)3로부터 선택되고, 상기 R3는 C≡CH, CH2C≡CH, CH2CH2C≡CH, C≡CCH3, CH2C≡CCH3 또는 CH2CH2C≡CCH3인 것을 특징으로 하는 하프늄 알콕사이드 화합물
|
| 3 |
3
하기 화학식 2로 표시되는 하프늄 아미드 화합물과 하기 화학식 3으로 표시되는 알코올 화합물을 반응시키는 것을 특징으로 하는 화학식 1의 하프늄 알콕사이드 화합물의 제조방법
|
| 4 |
4
하기 화학식 4로 표시되는 하프늄 할라이드 화합물과 하기 화학식 5로 표시되는 알칼리 금속염을 반응시키는 것을 특징으로 하는 화학식 1의 하프늄 알콕사이드 화합물의 제조방법
|
| 5 |
5
제 1 항 또는 제 2 항의 하프늄 알콕사이드 화합물을 전구체로 사용하는 것을 특징으로 하는 하프늄 산화물 박막의 제조방법
|
| 6 |
6
제 5항에 있어서,
하프늄 산화물 박막은 화학기상 증착법(MOCVD) 또는 원자층 증착법(ALD)으로 형성되는 하프늄 산화물 박막의 제조방법
|
