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신규퀴놀론화합물

  • 기술번호 : KST2015139178
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음
Int. CL C07D 487/04 (2006.01)
CPC C07D 487/04(2013.01) C07D 487/04(2013.01)
출원번호/일자 1019910006363 (1991.04.20)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0075596-0000 (1994.07.21)
공개번호/일자 10-1992-0019790 (1992.11.20) 문서열기
공고번호/일자 1019940002955 (19940409) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1991.04.20)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김완주 대한민국 대전직할시유성구
2 박명환 대한민국 대전직할시유성구
3 하재두 대한민국 대전직할시유성구
4 백경업 대한민국 대전직할시서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 허상훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, 우리종합금융빌딩 **층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국화학연구소 대한민국 대전직할시유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination		 1991.04.20 수리 (Accepted) 1-1-1991-0036962-31
2 특허출원서
Patent Application		 1991.04.20 수리 (Accepted) 1-1-1991-0036960-40
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1991.04.20 수리 (Accepted) 1-1-1991-0036961-96
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1992.04.30 수리 (Accepted) 1-1-1991-0036963-87
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1994.01.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0013297-97
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1994.02.08 수리 (Accepted) 1-1-1991-0036964-22
7 의견서
Written Opinion		 1994.02.08 수리 (Accepted) 1-1-1991-0036965-78
8 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application		 1994.03.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0013298-32
9 등록사정서
Decision to grant		 1994.07.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0013299-88
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0009784-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.06.30 수리 (Accepted) 4-1-1999-0089084-24
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0007135-37
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056808-28
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056800-64
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

다음 일반식(I)로 표시되는 퀴놀론 화합물 및 그들의 염

2 2

제1항에 있어서, 상기 R1은 메틸기, 에틸기, 이소프로필기, t-부틸기, t-펜틸기, 2-플루오로에틸기, 2-히드록시에틸기, 디플루오로메틸기, 비닐기, 이소프로페닐기, 아릴기, 2-부테닐기, 시클로프로필기, 1-메틸시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 페닐기, 2-플루오로페닐기, 4-플루오로페닐기, 2,4-디플루오로페닐기, 2-히드록시페닐기, 4-히드록시페닐기, 2-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-플루오로-4-메톡시페닐기, 2-플루오로-4-히드록시페닐기, 4-메틸페닐기, 4-아미노페닐기 또는 4-니트로페닐기인 퀴놀론화합물

3 3

제1항에 있어서, 상기 R2은 수소원자 또는 메틸기, 에틸기, n-프로필기, t-부틸기, 저급알카노일옥시-저급알킬기, 저급알콕시카르보닐옥시-저급알킬기, 저급알콕시메틸기, 디(저급알킬)아미노-저급알킬기, 4-메틸렌-5-메틸-1,3-디옥소렌-2-온기, 나트륨양이온, 칼륨양이온, 칼슘양이온, 마그네슘양이온, 암모늄양이온 또는 탄소수 1~4개의 3급 또는 4급 알킬암모늄이온인 퀴놀론화합물

4 4

제1항에 있어서, 상기 R3는 수소원자, 메틸기, 에틸기, 2-히드록시에틸기, 시클로프로필기, 포르밀기, 알킬옥시카르복실기, 2 또는 3-옥소알킬기, 4-메틸렌-5-메틸-1,3-디옥소렌-2-온기인 퀴놀론 화합물

5 5

제1항에 있어서, 상기 일반식(I)로 표시되는 퀴놀론화합물의 염은, 염산, 황산, 인산, 락트산, 프로피온산, 메탄술폰산, 파라톨루엔술폰산, 푸마르산, 포름산, 말레인산, 말론산, 타르타르산, 시트르산, 아스콜빈산 또는 글루타민산으로 이루어지는 산부가염 또는 이들의 수화물이거나, 가성소다, 가성칼리, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 질산은 또는 탄소수 1~4개의 3급 또는 4급의 저급알킬암모늄으로 이루어지는 염기부가염 또는 이들의 수화물인것

6 6

다음 일반식(II)의 화합물과 일반식(Ⅲ) 또는 (Ⅲa)의 화합물을 염기존재하에 가열 반응시켜서 다음 일반식(I)로 표시되는 퀴놀론화합물을 제조하는 방법

7 7

제6항에 있어서, 상기 가열반응은 아세토니트릴, 피리딘, 디메틸포름아미드 또는 디옥산중에서 선택된 비반응성 용매중에서 10~150℃의 온도로 10분 내지 24시간 시행함을 특징으로 하는 퀴놀론화합물의 제조방법

8 8

제6항에 있어서, 상기 일반식(I)의 화합물은 탄소수 1~3의 할로알칸, 저급알콜용액중에서 선택된 산 또는 염기의 수용액, 저급알콜용액을 가하여 일반식(I)의 산부가염 또는 염기부가염의 형태로 제조하는 방법

9 9

다음 일반식(I a)의 화합물과 다음 일반식(Ⅳ)의 화합물을 염기존재하에서 작용시켜 다음 일반식(I b)로 표시되는 퀴놀론화합물을 제조하는 방법

10 10

일반식(I c)의 화합물과 R3 공여체를 작용시켜 다음 일반식(I d)의 퀴놀론화합물을 제조하는 방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.