1 |
1
하기 화학식 1로 표시되는 고체 고분자 전해질 박막용 시클로트리포스파젠계 가교제:[화학식 1](상기 화학식 1에서,R1은 이고,n은 0-2의 정수이다)
|
2 |
2
하기 반응식 1에 나타낸 바와 같이, 출발 물질인 헥사클로로시클로트리포스파젠에 R3 치환기를 알콕시화 반응시켜 화합물 4를 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 얻은 화합물 4를 피리디늄 p-톨루엔설포네이트로 처리하여 화합물 5를 제조하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 얻은 화합물 5를 트리에틸아민 및 메타크릴로일 클로라이드와 반응시켜 화합물 1을 제조하는 단계(단계 3)를 포함하는 제1항의 고체 고분자 전해질 박막용 시클로트리포스파젠계 가교제의 제조방법:[반응식 1](상기 반응식 1에서,R3은 이고,y는 0-2의 정수이고,R4는 이고,z는 0-2의 정수이고,R1은 제1항의 화학식 1에서 정의한 바와 같다)
|
3 |
3
하기 화학식 1로 표시되는 시클로트리포스파젠계 가교제 0
|
4 |
4
제3항에 있어서, 상기 가소제는 비수용액계 극성용매를 더 포함할 수 있고, 여기서 상기 비수용액계 극성용매는 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 부틸렌카보네이트, 디메틸카보네이트, 테트라하이드로퓨란, 2-메틸테트라하이드로퓨란, 1,3-디옥시란, 4,4-디메틸-1,3-디옥시란, γ-부티로락톤 및 아세토니트릴으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고체 고분자 전해질 조성물
|
5 |
5
제3항에 있어서, 상기 리튬염은 LiClO4, LiCF3SO3, LiBF4, LiPF6, LiAsF6 및 Li(CF3SO2)2N으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고체 고분자 전해질 조성물
|
6 |
6
제3항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 시클로트리포스파젠계 가교제 14
|
7 |
7
제3항에 있어서, 상기 경화형 개시제는 에틸벤조인 에테르, 이소프로필벤조인 에테르, α-메틸벤조인 에틸에테르, 벤조인페닐에테르, α-아실옥심 에스테르, α,α-디에톡시 아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실 페닐 케톤, 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논, 티옥산톤, 이소프로필 티옥산톤, 클로로티옥산톤, 벤조페논, p-클로로벤조페논, 벤질벤조에이트, 벤조일벤조에이트 및 미클러 케톤으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 광경화형 개시제인 것을 특징으로 하는 고체 고분자 전해질 조성물
|
8 |
8
제3항에 있어서, 상기 경화형 개시제는 벤조일 퍼옥시드, 디-tert-부틸 퍼옥시드, 디-tert-아밀 퍼옥시드, a-큐밀 퍼옥시네오데카노에이트, a-큐밀 퍼옥시네오펩타노에이트, t-아밀 퍼옥시네오데카노에이트, 디-(2-에틸헥시) 퍼옥시-디카보네이트, t-아밀 퍼옥시피발레이트, t-부틸 퍼옥시피발레이트, 2,5-디메틸-2,5 비스(2-에틸-헥사노일퍼옥시) 헥산, 디벤조일 퍼옥시드, t-아밀 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸 퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 1,1-디-(t-아밀퍼옥시) 시클로헥산, 1,1-디-(t-부틸퍼옥시) 3,3,5-트리메틸 시클로헥산, 1,1-디-(t-부틸퍼옥시) 시클로헥산, t-부틸 퍼옥시아세테이트, t-부틸 퍼옥시벤조에이트, t-아밀 퍼옥시벤조에이트, t-부틸 퍼옥시벤조에이트, 에틸 3,3-디-(t-아밀퍼옥시) 부티레이트, 에틸 3,3-디-(t-부틸퍼옥시) 부티레이트, 디큐밀 퍼옥시드, 1,1'-아조비스(시클로헥산카보니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 디히드로클로라이드 및 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 열경화형 개시제인 것을 특징으로 하는 고체 고분자 전해질 조성물
|
9 |
9
제3항 내지 제8항 중 어느 한 항의 고체 고분자 전해질 조성물이 코팅된 고체 고분자 전해질 박막
|
10 |
10
제3항 내지 제8항 중 어느 한 항의 고체 고분자 전해질 조성물을 포함하는 리튬-폴리머 이차전지
|