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소프트 리소그래피를 통한 박막 패턴의 제조방법 및 이에 따라 제조된 박막 패턴

  • 기술번호 : KST2015139361
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 목적은 소프트 리소그래피를 통한 박막 패턴의 제조방법 및 이에 따라 제조된 박막 패턴을 제공하는 데 있다. 이를 위하여 본 발명은 기판에 박막을 증착하는 단계(단계 1); 상기 박막 상부로 실리콘 수지 접착제층을 형성하는 단계(단계 2); 박막을 패터닝하기 위한 실리콘 수지 스탬프를 제조하는 단계(단계 3); 상기 단계 2에서 형성된 접착제층과 상기 단계 3에서 제조된 실리콘 수지 스탬프의 패턴부분을 표면개질하여 활성접착제층으로 변환하는 단계(단계 4); 상기 단계 4에서 활성접착제층으로 변환된 실리콘 수지 스탬프의 패턴부분을 접착제층에 접촉하고, 탈수축합반응시키는 단계(단계 5); 및 상기 실리콘 수지 스탬프를 기판으로부터 제거하여 기판상에 패턴을 형성하는 단계(단계 6);를 포함하는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 박막 패턴의 제조방법를 포함하는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 박막 패턴의 제조방법을 제공한다. 또한 본 발명은 상기의 방법에 따라 제조되고, 기판 상부에 결정형 박막, 금속 박막, 금속산화물 박막, 비정질 박막 및 폴리머 박막으로부터 선택되는 1종의 박막이 패터닝된 것을 특징으로 하는 박막 패턴을 제공한다. 본 발명에 따르면 결정성 박막을 포함하는 모든 재료의 박막을 소프트 리소그래피공정을 통해 패터닝할 수 있다는 장점이 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020120077173 (2012.07.16)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1434463-0000 (2014.08.20)
공개번호/일자 10-2014-0010649 (2014.01.27) 문서열기
공고번호/일자 (20140827) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.07.16)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최원진 대한민국 서울 은평구
2 이정오 대한민국 대전광역시 유성구
3 양철수 대한민국 경북 경산시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0565573-97
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.05.03 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.06.05 수리 (Accepted) 9-1-2013-0043281-59
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0627608-10
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.11.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-1003586-12
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.11.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1003589-59
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.03.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0186702-72
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0397054-30
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.04.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0397053-95
10 등록결정서
Decision to grant
2014.08.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0550615-92
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판에 결정형 그래핀 박막을 증착하는 단계(단계 1);상기 박막 상부로 실리콘 수지 접착제층을 형성하는 단계(단계 2);박막을 패터닝하기 위한 실리콘 수지 스탬프를 제조하는 단계(단계 3);상기 단계 2에서 형성된 접착제층과 상기 단계 3에서 제조된 실리콘 수지 스탬프의 패턴부분을 표면개질하여 활성접착제층으로 변환하는 단계(단계 4);상기 단계 4에서 활성접착제층으로 변환된 실리콘 수지 스탬프의 패턴부분을 접착제층에 접촉하고, 탈수축합반응시키는 단계(단계 5); 및상기 실리콘 수지 스탬프를 기판으로부터 제거하여 기판상에 패턴을 형성하는 단계(단계 6); 를 포함하는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 결정형 그래핀 박막 패턴의 제조방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 수지는 폴리디메틸실록산(PDMS, polydimethylsiloxane) 및 가교제를 포함하는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 결정형 그래핀 박막 패턴의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 단계 3의 실리콘 수지 스탬프는 포토리소그래피 또는 이온빔 리소그래피를 통하여 제조하고자 하는 패턴의 마스터몰드를 만든 후, 마스터몰드에 실리콘 수지를 주입하고 열처리하여 형성되는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 결정형 그래핀 박막 패턴의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계 4의 표면개질은 산소 플라즈마, 아르곤 플라즈마 및 자외선 오존 처리로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종의 공정을 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 결정형 그래핀 박막 패턴의 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 단계 4의 표면개질은 5초 내지 10초 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 결정형 그래핀 박막 패턴의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계 5의 탈수축합반응은 70 ℃ 내지 90 ℃의 온도범위에서 수행되는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 결정형 그래핀 박막 패턴의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 단계 6 이후에 실리콘 수지를 패터닝된 박막으로부터 제거하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 소프트 리소그래피를 통한 결정형 그래핀 박막 패턴의 제조방법
9 9
삭제
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업기술연구회 한국화학연구원 기관고유사업 다기능 그래핀 소재 및 소자화 기술 개발
2 교육과학기술부 한국화학연구원 원천기술개발사업 고해상도 소프트 패터닝 공정기술