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광경화성 폴리이미드를 이용한 전극의 패터닝 방법 및 이를 통해 제조된 패턴
- 기술번호 : KST2015139417
- 담당센터 : 대전기술혁신센터
- 전화번호 : 042-610-2279
| 요약 | 본 발명의 목적은 광경화성 폴리이미드를 이용한 전극의 패터닝 방법 및 이를 통해 제조된 패턴을 제공하는 데 있다. 이를 위하여, 본 발명은 기판상에 광 경화성 절연층을 형성하는 단계(단계 1); 상기 광 경화성 절연층을 포토마스크를 이용하여 마스킹한 후 광경화를 수행하는 단계(단계 2); 상기 포토마스크를 제거한 후 절연층 상에 전극층을 형성하는 단계(단계 3); 및 상기 마스킹을 통하여 광경화되지 않은 부분의 절연층과 이의 상부에 위치하는 전극층을 제거하는 단계(단계 4); 를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극의 패터닝 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 유기박막 트랜지스터 상에 전극 패턴을 형성함에 있어서 종래의 포토레지스트를 대신하여 광 경화 가능한 폴리이미드를 사용함으로써, 폴리이미드 제거 공정이 1회만 수행되어 공정단계가 줄어든다는 장점이 있다. 또한, 포토레지스트를 제거하기 위한 현상용액으로 사용되는 강염기나 페놀류의 부산물이 발생하지 않고, NMP, DMAc, DMSO, GBL 등의 용매를 사용하므로 경제적, 환경적 이점이 있다. |
|---|---|
| Int. CL | H01B 3/00 (2006.01) H01L 51/40 (2006.01) H01L 51/30 (2006.01) H01L 51/05 (2006.01) |
| CPC | H01L 51/0021(2013.01) H01L 51/0021(2013.01) H01L 51/0021(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020120144497 (2012.12.12) |
| 출원인 | 한국화학연구원 |
| 등록번호/일자 | 10-1372870-0000 (2014.03.03) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20140312) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2012.12.12) |
| 심사청구항수 | 6 |