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가교결합이 가능한 이중결합을 포함하는 고분자 정공수송물질 및 티올기를 2개 이상 포함하는 가교제를 포함하는 정공수송층 조성물 및 이의 용도

  • 기술번호 : KST2015139562
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 제1 정공수송부위(hole transporting fragment)를 포함하는 제1 단위체와 제2 정공수송부위를 포함하고 가교결합이 가능한 이중결합을 하나 이상 포함하는 제2 단위체를 포함하는 고분자 정공수송물질(hole transporting material) 및 티올기를 2개 이상 포함하는 가교제를 포함하는 정공수송층(hole transporting layer; HTL) 조성물을 제공한다. 또한, 본 발명은 적층된 하나 이상의 유기층을 포함하는 유기반도체소자의 제조방법에 있어서, 가교결합이 가능한 이중결합을 2개 이상 포함하는 제1 유기반도체 물질 및 티올기를 2개 이상 포함하는 가교제를 포함하는 제1 유기층 조성물을 도포하는 제1단계; 빛 또는 열을 가하여 가교시키는 제2단계; 상기 형성된 제1 유기층 위에 용액 형태의 제2 유기층 조성물을 도포하는 제3단계를 포함하는, 유기반도체소자의 제조방법을 제공한다.
Int. CL C09K 11/06 (2006.01) H01L 51/50 (2006.01)
CPC C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01) C09K 11/06(2013.01)
출원번호/일자 1020140174057 (2014.12.05)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2015-0066479 (2015.06.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020130151829   |   2013.12.06
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020170177913;
심사청구여부/일자 Y (2014.12.05)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재민 대한민국 대전광역시 유성구
2 이주원 대한민국 대전광역시 유성구
3 한현 대한민국 충청북도 청원군
4 윤성철 대한민국 대전광역시 유성구
5 이창진 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인 플러스 대한민국 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2014.12.05 수리 (Accepted) 1-1-2014-1187045-38
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2015.09.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2015.11.10 수리 (Accepted) 9-1-2015-0071133-81
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2016.09.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0659816-19
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.11.14 수리 (Accepted) 1-1-2016-1111058-97
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2016.12.13 수리 (Accepted) 1-1-2016-1220735-12
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2017.01.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-0043962-28
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.02.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0147709-00
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.02.13 수리 (Accepted) 1-1-2017-0147708-54
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2017.02.13 무효 (Invalidation) 1-1-2017-0147693-57
11 보정요구서
Request for Amendment		 2017.02.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0024849-70
12 [지정기간단축]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Reduction of Designated Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)		 2017.03.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-0229688-29
13 무효처분통지서
Notice for Disposition of Invalidation		 2017.03.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0034166-84
14 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2017.07.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0520239-94
15 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
 2017.08.25 수리 (Accepted) 1-1-2017-0825986-44
16 보정요구서
Request for Amendment		 2017.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0124744-08
17 [출원서등 보정]보정서(납부자번호)
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment(Payer number)		 2017.09.07 수리 (Accepted) 1-1-2017-0863292-57
18 법정기간연장승인서
 2017.09.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0127942-56
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
21 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.09.25 수리 (Accepted) 1-1-2017-0932233-71
22 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2017.09.25 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2017-0932234-16
23 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2017-1045346-94
24 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2017.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0738128-25
25 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
 2017.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2017-1167454-44
26 법정기간연장승인서
 2017.11.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2017-0170612-03
27 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2017.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2017-1239067-00
28 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2017.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2017-1281579-94
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제1 정공수송부위(hole transporting fragment)를 포함하는 제1 단위체 0 내지 99 몰%와 제2 정공수송부위를 포함하고 가교결합이 가능한 이중결합을 하나 이상 포함하는 제2 단위체 1 내지 100 몰%를 포함하는 고분자 정공수송물질(hole transporting material); 및 티올기를 2개 이상 포함하는 가교제를 포함하는 정공수송층(hole transporting layer; HTL) 조성물
2 2
제1항에 있어서,상기 제1 정공수송부위와 제2 정공수송부위는 서로 동일한 것인 조성물
3 3
제1항에 있어서,상기 제1 단위체는 제1 단량체로부터 유래되고, 상기 제2 단위체는 제2 단량체로부터 유래되고,상기 제2 단량체는 가교결합이 가능한 이중결합을 포함하도록 제1 단량체를 개질한 것인 조성물
4 4
제1항에 있어서,상기 제1 정공수송부위 및 제2 정공수송부위는 각각 독립적으로 하나 이상의 아릴기가 치환된 3차 아민구조를 포함하는 것인 조성물
5 5
제1항에 있어서,빛 또는 열에 의해 교차결합되는 것이 특징인 조성물
6 6
제1항에 있어서,라디칼 개시제(radical initiator)를 추가로 포함하는 것인 조성물
7 7
제6항에 있어서,상기 라디칼 개시제는 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노패날)-부타논-1(2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1, IRGACURE 369), 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, Irgacure 184), 2,2-디메톡시-2-페닐-아세토페논(2,2-dimethoxy-2-phenyl-acetophenone, Irgacure 651), 2-이소프로폭시-2-페닐아세토페논(2-isopropoxy-2-phenylacetophenone, Vicure 30), 디페닐-(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀옥사이드(diphenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phosphine oxide, Chivacure TPO), 벤조페논(benzophenone), 4'-터셔리부틸-2,2,2-트리클로로아세토페논(4'-(tert-butyl)-2,2,2-trichloroacetophenone, Trigonal P1), 2-이소프로필티오잔톤(2-isopropylthioxanthone, Genocure ITX), 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오니트릴(2,2'-azobis(2-methylpropionitrile)) 및 벤조일 퍼옥사이드(benzoyl peroxide)로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 조성물
8 8
제1항에 있어서,상기 가교제는 , , , , , , 및 로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 조성물
9 9
제1항에 있어서,용매를 추가로 포함하는 것인 조성물
10 10
제9항에 있어서,상기 용매는 클로로벤젠, 디클로벤젠, 트리클로로벤젠, 클로로포름, 디클로로에탄, 메톡시벤젠, 톨루엔, 자일렌, 트리메틸벤젠 및 테트라하이드로나프탈렌으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 조성물
11 11
적층된 하나 이상의 유기층을 포함하는 유기반도체소자의 제조방법에 있어서,가교결합이 가능한 이중결합을 2개 이상 포함하는 제1 유기반도체 물질 및 티올기를 2개 이상 포함하는 가교제를 포함하는 제1 유기층 조성물을 도포하는 제1단계;빛 또는 열을 가하여 가교시키는 제2단계;상기 형성된 제1 유기층 위에 용액 형태의 제2 유기층 조성물을 도포하는 제3단계를 포함하는,유기반도체소자의 제조방법
12 12
제11항에 있어서,제2단계에서 포토마스크를 통해 빛을 가하여 원하는 패턴을 선택적으로 가교시키는 것인 제조방법
13 13
제12항에 있어서,제3단계에 앞서 용매로 세척하여 미반응 부위를 제거하는 단계를 추가로 포함하는 것인 제조방법
14 14
제11항에 있어서,상기 유기반도체소자는 유기발광소자이고,상기 제1 및 제2 유기층은 각각 독립적으로 정공주입층(hole injection layer; HIL), 정공수송층, 발광층(emitting layer; EML), 전자수송층(electron transporting layer; ETL) 및 전자주입층(electron injection layer; EIL)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것인 제조방법
15 15
제11항에 있어서,상기 제1 유기층 조성물은 각각 독립적으로 정공주입물질, 정공수송물질, 유기발광물질, 전자수송물질 및 전자주입물질로 구성된 군으로부터 선택되는 유기반도체 물질에 가교결합이 가능한 이중결합을 2개 이상 도입한 물질을 포함하는 것인 제조방법
16 16
제11항에 있어서,상기 제2 유기층 조성물은 각각 독립적으로 정공주입물질, 정공수송물질, 유기발광물질, 전자수송물질 및 전자주입물질로 구성된 군으로부터 선택되는 유기반도체 물질 또는 이에 가교결합이 가능한 이중결합을 2개 이상 도입한 물질을 포함하는 것인 제조방법
17 17
제15항 또는 제16항에 있어서,상기 정공수송물질은 고분자 또는 진공증착형 저분자인 것인 제조방법
18 18
제17항에 있어서,상기 고분자 정공수송물질은 정공수송부위로서 작용하는 하나 이상의 아릴기가 치환된 3차 아민구조를 포함하는 고분자인 것인 제조방법
19 19
제17항에 있어서,상기 진공증착형 저분자 정공수송물질은1) 4,4',4''-트리스(N-카보졸릴)-트리페닐아민(4,4',4''-tris(N-carbazolyl)-triphenylamine; TCTA),2) 1,1-비스(4-(N,N'-디(p-톨릴)아미노)페닐)사이클로헥산(1,1-bis(4-(N,N'-di(p-tolyl)amino)phenyl)cyclohexane; TAPC),3) 4,4',4''-트리스(3-메틸페닐페닐아미노)트리페닐아민(4,4',4''-tris(3-methylphenylphenylamino)triphenylamine; m-MTDATA),4) DATA,5) TFV-TCTA,6) 1,3-비스(N-카바졸릴)벤젠(1,3-bis(N-carbazolyl)benzene),7) 4,4'-비스(N-카바졸릴)-1,1'-biphenyl(4,4'-bis(N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl),8) 1,4-비스(디페닐아미노)벤젠(1,4-bis(diphenylamino)benzene),9) 4,4'-비스(3-에틸-N-카바졸릴)-1,1'-바이페닐(4,4'-bis(3-ethyl-N-carbazolyl)-1,1'-biphenyl),10) N,N'-비스(3-메틸페닐)-N,N'-디페닐벤지딘(N,N'-bis(3-methylphenyl)-N,N'-diphenylbenzidine),11) N,N'-비스(페난트렌-9-일)-N,N'-비스(페닐)-벤지딘(N,N'-bis(phenanthren-9-yl)-N,N'-bis(phenyl)-benzidine),12) 카퍼(II) 프탈로시아닌(copper(II) phthalocyanine),13) 4-(디벤질아미노)벤즈알데하이드-N,N-디페닐히드라존(4-(dibenzylamino)benzaldehyde-N,N-diphenylhydrazone),14) 4-(디메틸아미노)벤즈알데하이드 디페닐히드라존diphenylhydrazone(4-(dimethylamino)benzaldehyde diphenylhydrazone),15) 2,2'-디메틸-N,N'-디-[(1-나프틸)-N,N'-디페닐]-1,1'-바이페닐-4,4'-디아민(2,2'-dimethyl-N,N'-di-[(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl]-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine),16) 9,9-디메틸-N,N'-디(1-나프틸)-N,N'-디페닐-9H-플루오렌-2,7-디아민(9,9-dimethyl-N,N'-di(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl-9H-fluorene-2,7-diamine),17) N,N'-디-[(1-나프틸)-N,N'-디페닐]-1,1'-바이페닐)-4,4'-디아민(N,N'-di-[(1-naphthyl)-N,N'-diphenyl]-1,1'-biphenyl)-4,4'-diamine),18) 4-(디페닐아미노)벤즈알데하이드 디페닐히드라존(4-(diphenylamino)benzaldehyde diphenylhydrazone),19) N,N'-디페닐-N,N'-디-p-톨릴벤젠-1,4-디아민(N,N'-diphenyl-N,N'-di-p-tolylbenzene-1,4-diamine),20) 디피라지노[2,3-f:2',3'-h]퀴녹살린-2,3,6,7,10,11-헥사카보니트릴(dipyrazino[2,3-f:2',3'-h]quinoxaline-2,3,6,7,10,11-hexacarbonitrile),21) N,N'-비스[4-[비스(3-메틸페닐)아미노]페닐]-N,N'-디페닐-[1,1'-바이페닐]-4,4'-디아민(N,N'-bis[4-[bis(3-methylphenyl)amino]phenyl]-N,N'-diphenyl-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamine; DNTPD),22) N,N,N',N'-테트라키스(4-메톡시페닐)벤지딘(N,N,N',N'-tetrakis(4-methoxyphenyl)benzidine),23) N,N,N',N'-테트라키스(3-메틸페닐)-3,3'-디메틸벤지딘(N,N,N',N'-tetrakis(3-methylphenyl)-3,3'-dimethylbenzidine),24) N,N,N',N'-테트라키스(2-나프틸)벤지딘(N,N,N',N'-tetrakis(2-naphthyl)benzidine),25) 테트라-N-페닐벤지딘(tetra-N-phenylbenzidine),26) N,N,N',N'-테트라페닐나프탈렌-2,6-디아민(N,N,N',N'-tetraphenylnaphthalene-2,6-diamine),27) 틴(IV) 2,3-나프탈로시아닌 디클로라이드(tin(IV) 2,3-naphthalocyanine dichloride),28) 티타닐 프탈로시아닌(titanyl phthalocyanine),29) 트리스[4-(디에틸아미노)페닐]아민(tris[4-(diethylamino)phenyl]amine),30) 1,3,5-트리스(디페닐아미노)벤젠(1,3,5-tris(diphenylamino)benzene),31) 1,3,5-트리스(2-(9-에틸카바질-3)에틸렌)벤젠(1,3,5-tris(2-(9-ethylcabazyl-3)ethylene)benzene),32) 1,3,5-트리스[(3-메틸페닐)페닐아미노]벤젠(1,3,5-tris[(3-methylphenyl)phenylamino]benzene),33) 4,4',4''-트리스[2-나프틸(페닐)아미노]트리페닐아민(4,4',4''-tris[2-naphthyl(phenyl)amino]triphenylamine),34) 4,4',4''-트리스[페닐(m-톨릴)아미노]트리페닐아민(4,4',4''-tris[phenyl(m-tolyl)amino]triphenylamine) 및35) 트리-p-톨릴아민(tri-p-tolylamine)으로부터 선택된 화합물인 것인 제조방법
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순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101926157 KR 대한민국 FAMILY
2 WO2015084090 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101926157 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
2 KR20180002572 KR 대한민국 DOCDBFAMILY
3 WO2015084090 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 한국화학연구원 산업융합원천기술개발사업 (RCMS)Super Hybrid 복합공정을 사용한 50'' UD급 OLED TV용 재료개발
2 미래창조과학부 한국화학연구원 기관고유사업 광에너지 융합소재 원천기술 개발