| 1 |
1
다음 화학식 1로 표시되는 실록산다이아민과 다이아실클로라이드, 다이설포닐클로라이드, 다이에시드, 다이안하이드라이드 및 모노에시드-모노안하이드라이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 다이카르복시산 유도체를 축중합시킨 후 이를 가교시켜 제조한 고분자막이며, 상기한 고분자 소재는 내부에 가교구조가 도입되어 있고 실록산기가 주쇄에 도입되어 있는 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 실록산다이아민이 H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)2(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)4(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)5(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)8(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)9(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)10(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)14(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)18(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)20(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)21(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)25(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)28(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)32(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)40(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)41(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)50(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)51(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)52(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)60(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)80(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)90(Si(CH3)2)(CH2)3NH2, H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)92(Si(CH3)2)(CH2)3NH2 및 H2N(CH2)3(Si(CH3)2O)94(Si(CH3)2)(CH2)3NH2 중에서 선택된 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 3 |
3
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 실록산다이아민에 불소가 함유되지 않은 다이아민이 80 중량% 미만의 범위내에서 함유되는 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 4 |
4
제 3 항에 있어서, 상기 불소가 함유되지 않은 다이아민은 m-페닐렌다이아민, p-페닐렌다이아민, 다이아미노벤조산, 다이아미노설폰산, 메틸렌다이아닐린, 옥시디아닐린 및 아이소프로필리덴다이아닐린 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상인 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 다이아실클로라이드는 테레프탈로일클로라이드 및 아이소프탈로일클로라이드 중에서 선택된 방향족 다이아실클로라이드와, 옥살릭클로라이드, 말로닉클로라이드, 숙시닉클로라이드 및 아디포일클로라이드 중에서 선택된 지방족 다이아실클로라이드가 1종 또는 2종 이상인 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 6 |
6
제 1 항에 있어서, 상기 다이안하이드라이드가 피로멜리틱 다이안하이드라이드(PMDA), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시릭 다이안하이드라이드(BTDA), 옥시다이프탈릭 다이안하이드라이드(ODPA), 헥사풀루오로아이소프로필리덴다이프탈릭 다이안하이드라이드(6FDA), 바이페닐테트라카르복시릭 다이안하이드라이드(BPDA), 및 바이싸이클로[2
|
| 7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 다이설포닐 클로라이드가 1,4-벤젠다이설포닐 클로라이드와 그 이성질체인 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 8 |
8
제 1 항에 있어서, 상기 다이에시드는 다이아실클로라이드와 내부구조가 동일한 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 9 |
9
제 1 항에 있어서, 상기 모노에시드-모노아실클로라이드가 트라이멜리틱안하이드라이드인 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 10 |
10
제 1 항에 있어서, 상기 분리막 소재로 적용된 고분자가 다음 화학식 2a 또는 2b로 표시되는 폴리아마이드, 폴리이미드, 및 폴리아미이드이미드, 폴리아마이드공중합체, 폴리이미드공중합체 또는 폴리아마이드-이미드공중합체인 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 11 |
11
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 소재를 1종 또는 2종 이상 혼합하여 비대칭형으로 제작한 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 12 |
12
제 11 항에 있어서, 상기 고분자의 수평균 분자량이 1,000 ∼ 100,000 범위인 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 13 |
13
제 11 항에 있어서, 상기 고분자 소재에 통상의 분리막 소재로 사용되고 있는 고분자를 첨가하거나, 또는 알루미나 및 실리카 중에서 선택된 무기재료를 첨가하거나, 또는 알루미늄 및 철 중에서 선택된 금속파우더를 첨가하여 비대칭형으로로 제작한 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 14 |
14
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 소재를 분리막 지지체로 통상적으로 사용되고 있는 고분자 또는 세라믹에 코팅하여 평막 또는 중공사형태로 제작한 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 15 |
15
제 13 항 또는 제 14 항에 있어서, 상기 고분자의 수평균 분자량이 1,000 ∼ 100,000 범위인 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
| 16 |
16
제 1 항에 있어서, 상기 고분자분리막은 평판형, 중공사형 또는 나권형으로 제작된 것임을 특징으로 하는 고분자분리막
|
