맞춤기술찾기

이전대상기술

슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법 및 이로부터제조된 방오-단열 필름

  • 기술번호 : KST2015139881
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법 및 이로부터 제조된 방오-단열 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면을 코팅을 수행함에 있어, 상기 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 전자석을 배치하고, 평균입경이 다른 입자가 함유된 용액을 각각의 슬롯을 통과시킨 후, 상기 슬롯을 통과한 용액은 경사조건에서 방출 및 적층하는 단 한번의 공정으로, 상기 고분자 표면에 여러 개의 다층막을 동시 형성이 가능하며, 상기 전자석에 의해 형성된 자기장으로 입자의 재배열이 유도되어 상대적으로 평균입경이 큰 입자가 고분자 표면의 하단에 위치하는 경사구조를 형성하고, 계면이 불명확하여 층간의 상용성 및 계면부착력이 우수하고 장기 물성확보가 가능한 슬롯다이를 이용한 다층필름의 제조방법과, 이를 이용하여 안티몬-이산화주석을 함유하는 적외선 차단층과 이산화티탄을 함유하는 광촉매층이 적층된 방오-단열 필름에 관한 것이다.평균입경, 슬롯다이 코터, 입자 재배열, 경사구조, 다층구조
Int. CL B32B 37/24 (2006.01) B32B 15/08 (2006.01)
CPC C09D 5/16(2013.01) C09D 5/16(2013.01) C09D 5/16(2013.01) C09D 5/16(2013.01)
출원번호/일자 1020060083587 (2006.08.31)
출원인 한국화학연구원, 주식회사 가야
등록번호/일자 10-0810738-0000 (2008.02.28)
공개번호/일자 10-2008-0020283 (2008.03.05) 문서열기
공고번호/일자 (20080307) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.08.31)
심사청구항수 10

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 가야 대한민국 경기도 광주시

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 안홍찬 대한민국 대전 유성구
2 김동복 대한민국 경기 광주시

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.08.31 수리 (Accepted) 1-1-2006-0631486-08
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.03.09 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.04.12 수리 (Accepted) 9-1-2007-0021858-81
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2007.07.20 수리 (Accepted) 1-1-2007-0528876-41
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2007.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2007-0555697-08
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.08.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0434078-43
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.10.08 수리 (Accepted) 1-1-2007-0721356-49
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.11.02 수리 (Accepted) 1-1-2007-0790967-21
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.11.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0790964-95
10 등록결정서
Decision to grant
2008.02.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0096844-16
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.08 수리 (Accepted) 4-1-2015-5002416-23
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-0061969-41
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여 고분자 기재 표면에, 광촉매 졸 및 적외선 차단 졸을 코팅하는 공정을 포함하는 필름의 제조 방법에 있어서,상기 고분자 기재의 하단인 가이드롤에 전자석을 배치하고, 상기 슬롯다이(slot-die) 코터를 이용하여, 평균입경이 30 ∼ 50 nm 범위인 이산화티탄이 함유된 광촉매 졸과, 평균입경이 60 ∼ 80 nm 범위인 안티몬-이산화주석이 함유된 적외선 차단 졸 또는 이들 졸 혼합물을 고분자 기재표면에 30 ∼ 60 °경사 조건으로 방출하여서, 상기 전자석의 자기장에 의해 상대적으로 평균입경이 큰 금속입자로부터 순차적으로 고분자 기재 표면에 적층되면서 다층구조가 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 졸에는 계면활성제가 추가로 포함된 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 광촉매 졸은 비중이 0
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 적외선 차단 졸은 비중이 0
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 필름은 5 ∼ 15 m/min 범위의 이동속도, 길이 5m 범위의 가이드롤에서 건조를 수행하는 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 전자석은 600 ∼ 1500 mG 범위의 자기장을 형성하는 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 기재는 폴리에스터(PET), 폴리프로필렌(PP), 폴리비닐클로라이드(PVC) 및 폴리이미드(PI) 중에서 선택된 필름인 것을 특징으로 하는 필름의 제조방법
9 9
고분자 기재에, 이산화티탄가 함유된 광촉매층 및 안티몬-이산화주석이 함유된 적외선 차단층이 포함된 기능성층이 적층되어 있는 필름으로, 상기 고분자 기재 표면에 상대적으로 평균입경이 큰 금속입자부터 순차적으로 적층되어 다층구조를 형성하는 것을 특징으로 하는 방오-단열 필름
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 필름은 적외선 차단율이 65 ∼ 75%이고, 표면부착력이 40/100 ∼ 100/100 범위인 것을 특징으로 하는 방오-단열 필름
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 기능성층은 계면활성제가 함유된 계면활성제층이 함유된 것을 특징으로 하는 방오-단열 필름
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.