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4-위치에 케탈 치환체를 가진 티오펜 술폰아미드 유도체,이의제조방법및이를포함하는제초제

  • 기술번호 : KST2015139951
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 제초 활성 및 생육 억제 활성이 있는 하기 일반식(Ⅰ)의 티오펜 술폰아미드 화합물, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 제초제에 관한 것이다 :
Int. CL C07D 409/14 (2006.01)
CPC C07D 409/14(2013.01) C07D 409/14(2013.01) C07D 409/14(2013.01) C07D 409/14(2013.01)
출원번호/일자 1019960010347 (1996.04.06)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1997-0070003 (1997.11.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1998.03.09)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김대황 대한민국 대전광역시 유성구
2 전동주 대한민국 대전광역시 유성구
3 고영관 대한민국 대전광역시 유성구
4 장해성 대한민국 대전광역시 유성구
5 류재육 대한민국 대전광역시 유성구
6 우재춘 대한민국 대전광역시 서구
7 구동완 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))
2 조현실 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 **, 한라클래식빌딩 *층 (역삼동)(한성국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
1996.04.06 수리 (Accepted) 1-1-1996-0043854-56
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1996.04.06 수리 (Accepted) 1-1-1996-0043855-02
3 출원심사청구서
Request for Examination
1998.03.09 수리 (Accepted) 1-1-1996-0043856-47
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0009784-12
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.06.30 수리 (Accepted) 4-1-1999-0089084-24
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1999.12.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0377011-34
7 거절사정서
Decision to Refuse a Patent
2000.02.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0029602-27
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0007135-37
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056800-64
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056808-28
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
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번호 청구항
1 1

하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 티오술폰아미드 유도체 및 이의 염 :

2

제1항에 있어서, R1이 H 또는 CH3이고, R2가 H, C1-C3의 알킬, 할로겐이 1-3개 치환된 C1-C3의 할로알킬 또는 할로겐이 1-3개 치환된 C1-C3의 할로알콕시이고, R3가 H 또는 CH3이고, R4 및 R5가 각각 CH3이거나, 또는 서로 연결된 CH2CH2이고, X와 Y가 각각 독립적으로 CH3, OCH3, CF3 또는 Cl이고, Z가 N 또는 CH인 것을 특징으로 하는 화합물

3 3

제1항에 있어서, R1이 H, R2가 H, R3가 CH3, R4 및 R5가 각각 독립적으로 CH2CH2 또는 CH3, Z가 N 또는 CH이고, X와 Y가 각각 독립적으로 Cl, CH3 또는 OCH3인 것을 특징으로 하는 화합물

4 4

제1항에 있어서, 상기 일반식(Ⅰ)의 화합물이 3-(2-메틸-1,3-디옥살란-2-일)-N-[(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아진-2-일_아미노카르보닐]-4-티오펜술폰아미드; N-[(4,6-디메톡시1,3,5-트리아진-2-일)아미노카르보닐]-3-(2-메틸-1,3-디옥살란-2-일]-4-티오펜술폰아미드; 3-(2-메틸-1,3-디옥살란-2-일)-N-[(4-메톡시-6-메틸피리미딘-2-일)아미노카르보닐]-4-티오펜술폰아미드; 3-(2-메틸-1,3-디옥살란-2-일)-N-[(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)아미노카르보닐]-4-티오펜술폰아미드; 3-(2-메틸-1,3-디옥살란-2-일)-N-[(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일)아미노카르보닐]-4-티오펜술론아미드; 및 3-(2-메틸-1,3-디옥살란-2-일)-N-[(4-클로로-6-메톡시피리미딘-2-일)아미노카르보닐]4-티오펜술폰아미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물

5 5

하기 일반식(Ⅱ)의 화합물과 하기 일반식(Ⅲ)의 아민 화합물을 반응시키는 단계를 포함하느 제1항에 따른 화합물의 제조 방법 :

6

하기 일반식(Ⅳ)의 화합물, 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물 및 금속의 이소시아네이트 염을 반응시키는 단계를 포함하는 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조 방법 :

7

하기 일반식(Ⅴ)의 화합물, 하기 일반식(Ⅵ)의 화합물을 반응시키는 단계를 단계를 포함하는 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조 방법 :

8

제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조에 사용되는 하기 일반식(Ⅵ)의 중간체 화합물 :

9

제8항에 있어서, R2는 H, R3는 CH3, R4 및 R5가 각각 CH3이거나, 또는 서로 연결된 CH2CH2인 것을 특징으로 하는 중간체 화합물

10 10

제1항에 따른 일반(Ⅰ)의 화합물의 제조에 사용되는 하기 일반식(Ⅴ)의 중간체 화합물 :

11

제10항에 있어서, R2는 H, R3는 CH3, R4 및 R5가 각각 CH3 또는 서로 연결된 CH2CH2인 것을 특징으로 하는 중간체 화합물

12 12

제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 화합물을 활성 성분으로 포함하는 제조체

13
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.