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하기 화학식 1 의 스피로벤조피란 화합물: [화학식 1]
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하기 화학식 2 의 카르보닐 살리실산 알데히드 또는 유도체를 화학식 3의 인돌린 또는 유도체와 반응시킴을 특징으로 하는 하기 화학식 1의 스피로벤조피란 화합물 또는 이들의 유도체의 제조 방법
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제2항에 있어서, 결과된 화학식 1 의 화합물을 하기 화학식 4 의 화합물과 반응시켜 개질된 화학식 1의 화합물을 제조함을 특징으로 하는 제조 방법: [화학식 4] R4OH 또는 R4Z (상기식에서, R4 및 Z 는 제 2 항에서 정의된 바와 같다)
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제2또는 3 항에 있어서, 탄소수 1 ∼ 10 의 저급 알코올, 아세토니트릴, 아세톤, 물, 디메틸술폭시드 (MS0), 디메틸포름아미드 (DMF), α-메틸나프탈렌, 메톡시나프탈렌, 클로로나프탈렌, 디페닐에탄, 에틸렌글리콜, 퀴놀린, 디클로로벤젠,디클로로톨루엔, 프로필렌카보네이트, 술포란 및 크실렌으로 구성된 군에서 선택된 1 종 이상의 용매의 존재 하에서 반응을 수행함을 특징으로하는 방법
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제2 또는 3 항에 있어서, 반응을 0
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제1항에 딱른 스피로벤조피란 화합물 또는 이들의 유도체 1종 이상, 및 용매 또는 중합체 또는 이들의 혼합물로 구성됨을 특징으로 하는 광호변성 조성물
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제6항에 있어서, 전술한 용매가 클로로포름, 헥산, 아세톤, 아세토니트릴, 탄소수 1 ∼ 10 의 저급 알코올, 1,2-디클로로에탄, 디메틸포름아미드(DMF), 물, 디메틸술폭사이드, 술포란, 크실렌, 3-니트로-α, α, α-트리플루오로톨루엔 및 이들의 혼합물 중에서 선택됨을 특징으로 하는 광호변성 조성물
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제7항에 있어서, 전술한 용매가 클로로포름, 아세톤, 아세토니트릴,탄소수 1 ∼ 1O 의 저급 알코올, 디메틸포름아미드(DMF), 테트라알콕시실란, 디알콕시실란, 염산, 유기산, 트리알콕시실란, 디메틸술폭사이드, 피리딘 ,1-메틸-2-피롤리돈 (NMP), 술포란, 황산 및 물로 구성된 군에서 선택된 1 종 이상의 극성 용매를 추가로 포함함을 특징으로 하는 광호변성 조성물
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제6, 7 또는 8항에 있어서, 전술한 중합체가 폴리비닐부티랄, 폴리올레핀,폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리우레탄 등과 같은 기존의 범용 수지로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상임을 특징으로 하는 광호변성 조성물
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제 6,7 또는 8항에 있어서, 전술한 용매가 α-메틸나프탈렌, 메톡시나프탈렌, 클로로나프탈렌, 디페닐에탄, 에틸렌글리콜, 퀴놀린, 디클로로벤젠,디클로로톨루엔, 프로필렌카보네이트, 술포란 및 크실렌으로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 고비점 용매를 추가로 함유함을 특징으로 하는 광호변성 조성물
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