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미세 다공성 지지체 및 그 지지체 표면에 상호 침투 형태로 착물막을 형성하는 폴리사카라이드계 양이온성 고분자와 두 종류의 음이온성 고분자로 이루어진 것을 특징으로 하는, 유기 혼합물 분리용 상호 침투 다가 이온 착물 복합막
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제 1항에 있어서, 상기 미세 다공성 지지체의 재료가 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드 및 폴리아크릴로니트릴로 이루어진 군으로부터 선택된 고분자 재료, 알루미나, 타이타니아, 지르코니아 및 실리카 중에서 선택된 무기 재료 또는 니켈, 스테인레스 스틸 중에서 선택된 금속 재료인 것을 특징으로 하는, 다가 이온 착물 복합막
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제 1항에 있어서, 상기 착물막의 두께가 0
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제 1항에 있어서, 상기 폴리사카라이드계 양이온성 고분자가 키토산, 카르복시메틸 키토산, 카르복시에틸 키토산, 시아노에틸 키토산 또는 아미독심 키토산인 것을 특징으로 하는 다가 이온 착물 복합막
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제 1항에 있어서, 상호 침투하는 두 종류의 음이온성 고분자가 폴리사카라이드계 음이온 고분자와 선형 음이온 고분자의 블렌드로서 70∼95 대 5∼30의 중량비로 사용되는 것을 특징으로 하는, 다가 이온 착물 복합막
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제 5항에 있어서, 선형 음이온 고분자가 폴리아크릴산인 것을 특징으로 하는, 다가 이온 착물 복합막
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제 5항에 있어서, 상기 폴리사카라이드계 음이온성 고분자가 알긴산 나트륨, 카라기난, 셀룰로오스 설페이트, 덱스트린 설페이트, 카르복시메틸 셀룰로오스, 소듐 하이아루로네이트(sodium hyaluronate) 및 설페이트기를 포함하는 글리코사미노글리칸 중에서 선택된 것을 특징으로 하는, 다가 이온 착물 복합막
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미세 다공성 지지체 표면에 폴리사카라이드계 음이온성 고분자와 선형 음이온 고분자 수용액을 균일하게 도포하여 고상 다가 이온 매트릭스를 형성하는 단계, 상기 고상 다가 이온 매트릭스 표면에 폴리사카라이드계 양이온성 고분자 용액을 도포하여 고상과 액상간 계면에서의 착물 반응에 의한 다가 이온 착물 복합막을 형성시키는 단계를 포함하는, 유기 혼합물 분리용 상호 침투 다가 이온 착물 복합막의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 착물 반응에 사용되는 고분자 용액의 산도(acidity)가 pKa 값으로 2 이하인 것을 특징으로 하는, 다가 이온 착물 복합막의 제조방법
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제 8항 또는 제 9항에 있어서, 상기 착물 반응에 사용되는 고분자 용액의 농도가 0
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제 8항에 있어서, 상기 미세 다공성 지지체의 재료가 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리아미드이미드 및 폴리아크릴로니트릴로 이루어진 군으로부터 선택된 고분자 재료, 알루미나, 타이타니아, 지르코니아 및 실리카 중에서 선택된 무기 재료 또는 니켈 및 스테인레스 스틸 중에서 선택된 금속 재료인 것을 특징으로 하는 다가 이온 착물 복합막의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 착물막의 두께가 0
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제 8항에 있어서, 상기 폴리사카라이드계 양이온성 고분자가 키토산, 카르복시메틸 키토산, 카르복시에틸 키토산, 시아노에틸 키토산 또는 아미독심 키토산인 것을 특징으로 하는 다가 이온 착물 복합막의 제조방법
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제 8항에 있어서, 폴리사카라이드계 음이온 고분자수용액과 선형 음이온 고분자 수용액의 중량비가 70∼95 대 5∼30인 다가 이온 착물 복합막의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 폴리사카라이드계 음이온성 고분자가 알긴산 나트륨, 카라기난, 셀룰로오스 설페이트, 덱스트린 설페이트, 카르복시메틸 셀룰로오스, 소듐 하이아루로네이트(sodium hyaluronate) 및 설페이트기를 포함하는 글리코사미노글리칸 중에서 선택된 것을 특징으로 하는, 다가 이온 착물 복합막의 제조방법
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제 13항에 있어서, 폴리사카라이드계 양이온성 고분자가 5% 염산 수용액과 함께 사용되는 것을 특징으로 하는, 다가 이온 착물 복합막의 제조방법
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