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히스톤 디아세틸라제 저해활성을 갖는 벤즈히드록시아미드유도체 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015140075
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 하기 화학식 1의 벤즈히드록시아미드 유도체, 이의 제조방법 및 이를 함유하는 항암 조성물에 관한 것으로, 본 발명의 벤즈히드록시아미드 유도체는 히스톤 디아세틸라제의 효소활성을 효과적으로 억제하여 종양세포의 증식을 억제할 수 있다. 상기 식에서, R1 은 히드록시, 할로겐, 알킬옥시, 알킬, 아미노, 알킬아미노, 카르복실, 니트로, 아미드 및 술폰으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환되거나 치환되지 않은, C3-C8 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴; 또는 히드록시, 할로겐, 알킬옥시, 알킬, 아미노, 알킬아미노, 카르복실, 니트로 또는 아미드로 치환되거나 치환되지 않은 아릴 또는 헤테로아릴로 치환된 C3-C8 사이클로알킬이고; 상기 헤테로아릴은 고리 중에 질소, 황 또는 산소를 하나 이상 포함하며; Q는 비닐, 에틸, 2-프로페닐 또는 2-프로필이다.
Int. CL C07C 235/42 (2006.01)
CPC C07C 239/18(2013.01) C07C 239/18(2013.01) C07C 239/18(2013.01) C07C 239/18(2013.01)
출원번호/일자 1020030072022 (2003.10.16)
출원인 한국화학연구원, 크리스탈지노믹스(주)
등록번호/일자 10-0553593-0000 (2006.02.13)
공개번호/일자 10-2005-0036366 (2005.04.20) 문서열기
공고번호/일자 (20060220) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.10.16)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 크리스탈지노믹스(주) 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이철해 대한민국 대전광역시유성구
2 김봉진 대한민국 대전광역시유성구
3 정희정 대한민국 대전광역시서구
4 김재학 대한민국 대전광역시유성구
5 전미애 대한민국 부산광역시서구
6 성태현 대한민국 충청남도부여군
7 김광호 대한민국 대전광역시대덕구
8 조중명 대한민국 대전광역시유성구
9 노성구 대한민국 대전광역시유성구
10 이태규 대한민국 대전광역시유성구
11 현영란 대한민국 대전광역시유성구
12 신동규 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 위정호 대한민국 경기도 성남시 중원구 양현로 ***, ***호 (여수동, 시티오피스타워)(J특허법률사무소)
2 장성구 대한민국 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 크리스탈지노믹스(주) 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2003.10.16 수리 (Accepted) 1-1-2003-0385077-74
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document
2003.10.17 수리 (Accepted) 1-1-2003-5198159-16
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2005.04.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2005.05.18 수리 (Accepted) 9-1-2005-0029963-84
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2005.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0367051-92
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2005.08.03 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2005-0428054-46
7 등록결정서
Decision to grant
2005.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0666040-70
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2006.04.06 수리 (Accepted) 4-1-2006-5046723-44
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.11.18 수리 (Accepted) 4-1-2011-5231014-49
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.10.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-0049637-33
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
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번호 청구항
1 1
하기 화학식 1의 벤즈히드록시아미드 유도체: 화학식 1 상기 식에서, R1 은 히드록시, 할로겐, 알킬옥시, 알킬, 아미노, 알킬아미노, 카르복실, 니트로, 아미드 및 술폰으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 치환체로 치환되거나 치환되지 않은, C3-C8 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴; 또는 히드록시, 할로겐, 알킬옥시, 알킬, 아미노, 알킬아미노, 카르복실, 니트로 또는 아미드로 치환되거나 치환되지 않은 아릴 또는 헤테로아릴로 치환된 C3-C8 사이클로알킬이고; 상기 헤테로아릴은 고리 중에 질소, 황 또는 산소를 하나 이상 포함하며; Q는 비닐, 에틸, 2-프로페닐 또는 2-프로필이다
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 고리 중에 질소, 황 또는 산소를 포함하는 헤테로아릴 치환체는 피롤, 피라졸, 이미다졸, 1,2,3-트리아졸, 1,2,4-트리아졸, 아이속사졸, 옥사졸, 이소티아졸, 티아졸리딘, 티아졸, 1,2,5-옥사디아졸, 1,2,3-옥사디아졸, 1,2,5-티오디아졸, 1,2,3-티오디아졸, 1,3,4-옥사디아졸, 1,3,4-티오디아졸, 피리딘, 피리미딘 및 트라이아진으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 벤즈히드록시아미드 유도체
3 3
제 1 항에 있어서, 4-[2-(3-벤질옥시-페닐카바모일)-비닐]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(나프탈렌-1-일카바모일)-비닐]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(4-디메틸아미노-페닐카바모일)-비닐] -N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(4-시아노-페닐카바모일)-비닐]-N-하이드로-벤즈아미드, 4-[2-(4-t-부틸-페닐카바모일)-비닐]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(1H-벤즈이미다졸-2-일카바모일)-비닐] -N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(3,4-디메톡시-페닐카바모일)-비닐] -N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(4-페녹시-페닐카바모일)-비닐]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[3-(3,4-디히드로-1H-이소퀴놀린-2-일)-3-옥소-프로페닐] -N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(퀴놀린-3-일카바모일)-에틸]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(5-히드로-나프탈렌-1-일카바모일)-에틸]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(3-벤질옥시페닐카바모일)-에틸]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(나프탈렌-1-일카바모일)-에틸]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(4-t-부틸-페닐카바모일)-에틸]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(4-디메틸아미노-페닐카바모일)-에틸]-N-히드록시벤즈아미드, 4-(2-페닐카바모일-에틸)-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(피리딘-3-일카바모일)-에틸]-N-히드록시벤즈아미드, 4-(2-페닐카바모일-프로필)-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(4-메톡시-페닐카바모일)-프로필]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(3-벤질옥시페닐카바모일)-프로필]-N-히드록시벤즈아미드, 4-[2-(3,4-디메톡시페닐카바모일)-프로페닐]-N-히드록시벤즈아미드 및 4-[2-(3-벤질옥시페닐카바모일)-프로페닐]-N-히드록시벤즈아미드 로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 벤즈히드록시아미드 유도체
4 4
A) 화학식 3의 화합물을 유기염기 존재하에 말론산에스테르와 반응시켜 화학식 4의 화합물을 제조하고, B) 화학식 4의 화합물을 팔라듐 촉매하에서 수소첨가 반응을 하여 화학식 5의 화합물을 제조한 후 이를 아릴아민(R1-NH2)과 아실화 반응시켜 화학식 6의 화합물(Q=에틸)을 제조하거나, 화학식 4의 화합물을 곧바로 아릴아민과 아실화 반응시켜 화학식 6의 화합물(Q=비닐)을 제조하고, C) 화학식 6의 화합물을 무기염으로 처리하여 화학식 7의 유기산으로 전환시키고, D) 화학식 7의 화합물을 보호된 히드록시아민과 아실화 반응시킨후 탈보호하는 것을 포함하는 제 1 항의 따른 화학식 1의 벤즈히드록시아미드 유도체를 제조하는 방법: 화학식 3 화학식 4 화학식 5 화학식 6 화학식 7 화학식 1 상기 식에서, R1은 제 1 항에서 정의한 바와 같고, Q는 비닐 또는 에틸이다
5 5
A) 화학식 8의 화합물을 t-부틸아크릴레이트와 반응시켜 화학식 9의 히드록시 화합물을 제조하고,B) 화학식 9의 화합물을 아세틸클로라이드 또는 무수아세트산과 반응시켜 화학식 10의 화합물을 제조하고,C) 이를 유기금속하이드라이드와 수소화 반응을 시켜 화학식 11의 화합물로 전환시키고, D) 화학식 11의 화합물을 팔라듐 촉매하에서 수소부가 반응을 시킨 후 가수분해하여 화학식 12의 화합물을 제조한 다음 아릴아민(R1-NH2)과 아실화 반응시켜 화학식 13(Q= 2-프로필)의 화합물을 제조하거나, 화학식 11의 화합물을 가수분해하여 아릴아민(R1-NH2)과 반응시켜 화학식 13의 화합물(Q= 2-프로페닐)을 제조하고, E) 화학식 13의 화합물을 무기염으로 처리하여 화학식 14의 유기산으로 전환시킨 후,F) 이를 보호된 히드록시아민과 아실화 반응시킨후 탈보호하는 것을 포함하는 제 1 항에 따른 화학식 1의 벤즈히드록시아미드 유도체를 제조하는 방법:화학식 8화학식 9화학식 10화학식 11화학식 12화학식 13화학식 14화학식 1상기 식에서, R1은 제 1 항에서 정의한 바와 같고, Q는 2-프로페닐 또는 2-프로필이다
6 6
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 무기염은 수산화나트륨 또는 수산화리튬인 것을 특징으로 하는 방법
7 7
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 보호된 히드록시아민이 t-부틸실릴 또는 벤질로 보호된 히드록시아민인 것을 특징으로 하는 방법
8 8
활성성분으로서 제 1 항의 화학식 1의 벤즈히드록시아미드 유도체 및 약제학적으로 허용 가능한 담체를 포함하는 항암 조성물
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.