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마이크로파를 이용하여 잔류 용매량이 낮은 폴리에테르술폰 수지의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015140212
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 2가 페놀 화합물, 디할로게노디페닐 술폰, 및 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염을 중합반응시켜 제조된 폴리에테르 술폰 수지를 침전시켜 분리한 후, 분쇄하고, 특정의 조건에서 마이크로파 조사에 의해 건조시키면, 종래 감압 및 가열 조건에서 수행된 건조에 비해 폴리에테르 술폰 수지 내부에 함유된 잔류 용매량이 현격히 낮아져 가공 시 잔류 용매에 의한 물성 저하가 없고, 수지 자체의 고온 처리 과정이 없어 열에 의한 황변이 발생되지 않는 고순도, 고품질을 갖는 폴리에테르 술폰 수지의 제조방법에 관한 것이다.마이크로파, 폴리에테르 술폰, 건조, 잔류 용매
Int. CL C08G 75/00 (2006.01) C08G 85/00 (2006.01) C08J 3/28 (2006.01) C08G 75/23 (2006.01)
CPC C08G 75/23(2013.01) C08G 75/23(2013.01) C08G 75/23(2013.01) C08G 75/23(2013.01) C08G 75/23(2013.01)
출원번호/일자 1020070063594 (2007.06.27)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-1268351-0000 (2013.05.22)
공개번호/일자 10-2008-0114233 (2008.12.31) 문서열기
공고번호/일자 (20130528) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.06.28)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정현민 대한민국 대전광역시 유성구
2 김용석 대한민국 대전광역시 유성구
3 이재흥 대한민국 대전광역시 유성구
4 홍영택 대한민국 대전광역시 유성구
5 오형석 대한민국 대전광역시 대덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 한라특허법인(유한) 대한민국 서울시 서초구 강남대로 ***(서초동, 남강빌딩 *층)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2007.06.27 수리 (Accepted) 1-1-2007-0468163-10
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2010.09.13 수리 (Accepted) 1-1-2010-0594033-54
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2011.06.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0494421-88
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.03.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.04.24 수리 (Accepted) 9-1-2012-0032536-15
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2012.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0687761-48
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.01.15 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0040224-99
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0040225-34
12 등록결정서
Decision to grant		 2013.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0336441-45
13 대리인선임신고서
Report on Appointment of Agent		 2015.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-5033520-42
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하기 화학식 2로 표시되는 2가 페놀 화합물, 하기 화학식 3으로 표시되는 디할로게노디페닐 술폰, 및 알칼리 금속염 또는 알칼리 토금속염을 중합반응시켜 폴리에테르 술폰 수지를 제조하되,상기 제조된 폴리에테르 술폰 수지를 침전시킨 후, 마이크로파 조사에 의해 건조시켜 폴리에테르 술폰 수지 내부에 잔류하는 용매량이 0 ∼ 1
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 마이크로파는 900 ㎒ ∼ 2
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제조된 폴리에테르 술폰 수지는 환원 점도가 0
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 중합반응은 술포란, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드, 디페닐에테르, 디메틸포름아미드 및 디메틸아세트알데히드 중에서 선택된 고비점 용매를 사용하는 것을 특징으로 하는 폴리에테르 술폰 수지의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.