요약 | 본 발명은 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체 조성물 및 음이온 중합에 의한 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 상기 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체 조성물은 음이온 개시제, 극성용매, 헥사플루오로프로필렌 및 헥사플루오로프로필렌 옥사이드를 포함하고 있는 것을 그 특징으로 한다. 또한, 상기 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체는 특정 반응 조건에서 상기 조성물을 이용하여 제조되는 것에 그 특징이 있다. 상기 조성물과 제조방법으로 제조된 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 중합체는 -10 ~ 20℃의 범위에서 중량평균분자량(Mw) 1,500 ~ 4,000를 갖게 된다. 음이온 중합, 헥사플루오로프로필렌 옥사이드, 중합체, 개시제 |
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Int. CL | C08G 65/00 (2006.01) C08G 65/323 (2006.01) C08G 65/22 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020090019260 (2009.03.06) |
출원인 | 한국화학연구원 |
등록번호/일자 | 10-1067027-0000 (2011.09.16) |
공개번호/일자 | 10-2010-0100392 (2010.09.15) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20110923) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2009.03.06) |
심사청구항수 | 3 |