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수용성전도성고분자화합물및그의복합체의제조방법

  • 기술번호 : KST2015140342
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 도판트겸 입체구조 안정제로서 기능하는 술폰산기가 치환된 고분자 산을 물에 용해시키고, 이 고분자 산의 용액에 고분자 화합물의 모노머의 용액을 0~15℃에서 첨가한 후, 1시간 동안 교반시키고, 이어서 이 혼합용액에 산화제 수용액을 0~15℃에서 1.5~2시간 동안 점적시킨 후, 20시간 동안 교반시켜서 되는 수용성 전도성 고분자 화합물의 제조하거나, 또는 상기 수용성 전도성 고분자 화합물과 범용 수용성 수지를 혼합해서 수용성 전도성 고분자 화합물의 복합체를 제조하는 방법 및 코팅방법에 관한 것이다.본 발명에서 도판트겸 입체구조 안정제로서 사용된 폴리(설퍼나프탈렌디일)메틸렌·나트륨염은 하기 구조식 Ⅰ로 나타낼 수 있으며, 이 화합물은 염산을 첨가해서 고분자 산으로 사용한다.본 발명에 의해서 제조된 수용성 전도성 고분자 화합물은 이차전지의 전극, 전자파 차폐용 소재, 유연성을 가지는 전극, 대전 방지용 소재, 부식방지용 코팅제, 고체 전해콘덴서 전해질 등에 유용하다.
Int. CL C08J 3/00 (2006.01)
CPC C08J 3/02(2013.01) C08J 3/02(2013.01) C08J 3/02(2013.01) C08J 3/02(2013.01) C08J 3/02(2013.01) C08J 3/02(2013.01) C08J 3/02(2013.01) C08J 3/02(2013.01)
출원번호/일자 1019950013010 (1995.05.24)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0149830-0000 (1998.06.09)
공개번호/일자 10-1996-0041238 (1996.12.19) 문서열기
공고번호/일자 (19981015) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1995.05.24)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이서봉 대한민국 대전광역시유성구
2 이창진 대한민국 대전광역시유성구
3 윤석희 대한민국 대전광역시중구
4 이명수 대한민국 경기도고양시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이세진 대한민국 서울특별시 서초구 방배천로**길 *, *층 대양국제특허법률사무소 (방배동, 인성빌딩)
2 김윤배 대한민국 서울특별시 종로구 우정국로 ** 동덕빌딩 *층(세한국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국화학연구소 대한민국 대전광역시유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination		 1995.05.24 수리 (Accepted) 1-1-1995-0056868-54
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1995.05.24 수리 (Accepted) 1-1-1995-0056867-19
3 특허출원서
Patent Application		 1995.05.24 수리 (Accepted) 1-1-1995-0056866-63
4 등록사정서
Decision to grant		 1998.05.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0029182-13
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0009784-12
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.06.30 수리 (Accepted) 4-1-1999-0089084-24
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.01.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0007135-37
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056800-64
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056808-28
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
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번호 청구항
1 1

도판트겸 입체구조 안정제로서 기능하는 술폰산기가 치환된 고분자 산을 물에 용해시키고, 이 고분자 산의 용액에 고분자 화합물의 모노머의 용액을 0~15℃에서 첨가한 후, 1시간 동안 교반시키고, 이어서 이 혼합용액에 산화제 수용액을 0~15℃에서 1

2 2

제1항에 있어서, 모노머에 대한 고분자산의 몰비가 0

3 3

제1항에 있어서, 고분자 화합물이 폴리아닐린 또는 폴리피롤인 것을 특징으로 하는 고분자 화합물의 제조방법

4 4

제1항에 있어서, 술폰산기가 치환된 고분자 산이 폴리(설퍼나프탈렌디일)메틸렌

5 5

제1항의 수용성 전도성 고분자 화합물과 범용 수용성 수지를 혼합하여서 되는 수용성 전도성 고분자 화합물의 복합체의 제조방법

6 6

제5항에 있어서, 범용 수용성 수지가 폴리우레탄, 셀룰로오스 아세테이트 또는 폴리비닐알콜인 것을 특징으론 하는 고분자 화합물의 복합체의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.