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마이크로 에멀젼과 채널 반응기를 이용한 금속 또는 반도체나노입자의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015140459
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마이크로 에멀젼과 채널 반응기를 이용한 금속 또는 반도체 나노입자의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 채널의 직경을 1 ∼ 10 ㎜ 범위인 반응기를 사용하여 종래 채널 반응기의 좁은 직경으로 인한 유로의 막힘 현상을 해소하고, 또한 상기 큰 직경의 채널 반응기 사용으로 인한 나노입자 크기 및 입도 분포의 제어가 용이하지 못한 문제를 유입되는 금속 또는 반도체의 전구체의 액적 크기를 특정 범위로 제한한 마이크로 에멀젼 형태로 연속적으로 유입하는 일련의 연속공정으로, 입도 분포가 좁은 나노크기의 입자를 형성하면서 동시에 유로 공간의 확보되어 효율적으로 연속 대량 공정의 수행이 가능한 마이크로 에멀젼과 채널 반응기를 이용한 금속 또는 반도체 나노입자의 제조방법에 관한 것이다.마이크로 에멀젼, 채널 반응기, 연속 대량 공정, 금속 또는 반도체 나노입자
Int. CL B82Y 40/00 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC B01J 19/0093(2013.01) B01J 19/0093(2013.01) B01J 19/0093(2013.01) B01J 19/0093(2013.01)
출원번호/일자 1020050030042 (2005.04.11)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2006-0107695 (2006.10.16) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2005.04.11)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최영민 대한민국 대전 서구
2 류병환 대한민국 대전 서구
3 김창균 대한민국 대전 유성구
4 전기원 대한민국 대전광역시 유성구
5 이정아 대한민국 대전 서구
6 성기환 대한민국 인천 연수구
7 김효진 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이학수 대한민국 부산광역시 연제구 법원로 **, ****호(이학수특허법률사무소)
2 백남훈 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, KTB네트워크빌딩**층 한라국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2005.04.11 수리 (Accepted) 1-1-2005-0188203-90
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2006.02.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2006.03.20 수리 (Accepted) 9-1-2006-0019976-22
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2006.08.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2006-0500372-10
5 의견서
Written Opinion		 2006.09.22 수리 (Accepted) 1-1-2006-0687923-05
6 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2006.09.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2006-0687921-14
7 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2007.02.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0113087-69
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
채널 반응기를 이용한 연속공정에 의해 금속 또는 반도체 나노입자를 제조하는 방법에 있어서,상기 채널 반응기의 직경은 1 ∼ 10 ㎜ 범위이고,상기 채널 반응기에 유입되는 금속 또는 반도체의 전구체를, 액적 크기가 1 ∼ 500 ㎛ 범위인 마이크로 에멀젼의 형태로 상기 채널 반응기에 연속적으로 유입하여 반응을 수행하는 것을 특징으로 하는 금속 또는 반도체 나노입자의 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 마이크로 에멀젼 유입속도는 0
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 금속 또는 반도체 나노입자는 직경이 1 ∼ 50 ㎚인 것을 특징으로 하는 금속 또는 반도체 나노입자의 제조방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 금속 또는 반도체 나노입자는 각각의 금속 또는 반도체 단독, 및 이들이 2종 이상 혼합된 복합 나노입자인 것을 특징으로 하는 금속 또는 반도체 나노입자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.