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(a)다음 구조식(Ⅱ)의 화합물을 개미산으로 포밀화하여 다음 구조식(Ⅲ)의 화합물을 제조하는 단계와; (b) 상기 단계(a)에서 생성된 화합물 포스겐, 디포스겐, 트리포스겐, 포스포러스옥시클로리드, 포스포러스옥시브로미드, 포스포러스펜타클로리드 또는 티오닐클로리드 2~10당량 존재하에 다음 구조식(Ⅳ)의 화합물과 반응시켜서 다음 구조식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 단계와; (c) 상기 단계(c)에서 생성된 화합물을 알루미나를 사용하여 다음 구조식(Ⅴ)의 피페리진 유도체와 축합반응시켜서 상기 구조식(Ⅵ)의 벤즈옥사진 유도체를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계(a)에서, 반응은 0~100℃의 온도하에 1~24시간 동안 실시하여서 되는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계(b)에서
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제1항에 있어서, 상기 단계(b)에서, 반응은 25~80℃의 온도에서 수행하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계(b)에서, 반응용매는 사용하지 않거나 사염화탄소, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 또는 아세토니트릴을 사용하여서 되는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 알루미나는 산성, 염기성 또는 중성의 알루미나를 사용하여서 되는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 상기 화합물(Ⅰ) : 화합물(Ⅴ) : 알루미나의 반응은 당량비로 1 : 1
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제7항에 있어서, 상기 알루미나가 염기성 알루미나일 경우는 1~당량으로 하여서 되는 방법
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제7항에 있어서, 상기 알루미나가 산성, 중성 알루미나일 경우에는 3~4당량으로 하여서 되는 방법
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제1항에 있어서, 상기 단계(c)에서, 반응용매는 아세토니트릴, 디메틸포름아미드, 디메틸설폭시드, 헥사메틸포스포아미드, 헥사메틸렌포스포트리아미드 또는 물 또는 이들 유기극성용매와 물과의 혼합용매를 사용하여서 되는 방법
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