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박막 코팅 물질의 열처리 방법 및 장치

  • 기술번호 : KST2015141205
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 열처리 장치가 개시된다. 본 발명의 열처리 장치는 유연기판상에 인쇄된 나노단위의 물질을 건조 및 소결하는 것으로, 유연기판상에 인쇄된 나노단위의 물질을 유입 및 이송시켜 건조 및 소결하는 차폐된 챔버; 챔버 내에 설치되어 챔버 내에서 이송되는 인쇄된 나노단위의 물질에 마이크로 웨이브를 투사하는 도파관; 도파관에 마이크로 웨이브를 제공하는 마이크로 웨이브 발생 장치; 챔버 내로 유입된 인쇄된 나노단위의 물질에 근적외선을 투사하는 근적외선 램프; 및 도파관에서 발생된 마이크로 웨이브가 근적외선 램프에 투사되지 않도록 차폐하는 차폐장치; 를 포함하되, 차폐 장치는 메시구조로 이루어지고, 근적외선 램프로부터 발생되는 근적외선을 챔버 측으로 투과시키며, 도파관 및 근적외선 램프는 마이크로웨이브 및 근적외선을 동시 또는 순차적으로 인가시키는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 21/324 (2017.01.01) H01L 21/67 (2006.01.01) H01L 21/263 (2006.01.01)
CPC H01L 21/324(2013.01) H01L 21/324(2013.01) H01L 21/324(2013.01)
출원번호/일자 1020110075999 (2011.07.29)
출원인 한양대학교 산학협력단, 건국대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1797652-0000 (2017.11.08)
공개번호/일자 10-2013-0014007 (2013.02.06) 문서열기
공고번호/일자 (20171115) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.04.18)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
2 건국대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 광진구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 구본수 대한민국 인천광역시 중구
2 이세헌 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 신기현 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충현 대한민국 서울특별시 서초구 동산로 **, *층(양재동, 베델회관)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 서울특별시 성동구
2 건국대학교 산학협력단 서울특별시 광진구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.07.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0589901-97
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.01 수리 (Accepted) 4-1-2012-5116974-69
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
5 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2016.04.18 수리 (Accepted) 1-1-2016-0367328-77
6 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2016.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2016-1143487-54
7 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2016.12.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
8 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0019003-86
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.02.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0098193-48
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.04.10 수리 (Accepted) 1-1-2017-0347037-62
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.04.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0347038-18
12 등록결정서
Decision to grant
2017.08.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0555544-13
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
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번호 청구항
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유연기판상에 인쇄된 나노단위의 물질을 건조 및 소결하는 열처리 장치에 있어서,유연기판상에 인쇄된 나노단위의 물질을 유입 및 이송시켜 건조 및 소결하는 차폐된 챔버;상기 챔버 내에 설치되어 상기 챔버 내에서 이송되는 상기 인쇄된 나노단위의 물질에 마이크로 웨이브를 투사하는 도파관;상기 도파관에 마이크로 웨이브를 제공하는 마이크로 웨이브 발생 장치;상기 챔버 내로 유입된 상기 인쇄된 나노단위의 물질에 근적외선을 투사하는 근적외선 램프; 및상기 도파관에서 발생된 마이크로 웨이브가 상기 근적외선 램프에 투사되지 않도록 차폐하는 차폐 장치; 를 포함하되,상기 차폐 장치는메시구조로 이루어지고, 상기 근적외선 램프로부터 발생되는 근적외선을 상기 챔버 측으로 투과시키며,상기 도파관 및 근적외선 램프는마이크로웨이브 및 근적외선을 동시 또는 순차적으로 인가시키는 것을 특징으로 하는 열처리 장치
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제6항에 있어서,상기 도파관과 상기 근적외선 램프는 상기 인쇄된 나노단위의 물질이 이송되는 방향으로 이격되어 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치
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제6항에 있어서,상기 도파관은 상기 마이크로웨이브를 상기 나노단위의 물질에 직접 인가하도록 상기 나노단위의 물질에 대하여 수평 혹은 수직 방향으로 설치되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치
10 10
제6항에 있어서, 상기 인쇄된 나노단위의 물질은 웹(web) 상에 얹혀져서 유입 및 이송되는 것을 특징으로 하는 열처리 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 서울특별시 건국대학교 산학협력단 서울시 산학연 협력사업(2006년 서울시 기술기반구축사업 동부권 도심형 제조업 혁신을 위한 e-Printing 부품 산업 클러스터 구축